光學(xué)散射測量中粗糙納米結(jié)構(gòu)特性參數(shù)的測量方法
本發(fā)明公開了一種光學(xué)散射測量中粗糙納米結(jié)構(gòu)特性參數(shù)的測 量方法,可以對 IC 制造中所涉及納米結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)參數(shù)和粗糙度特征參 數(shù)進行非接觸、非破壞的測量。首先,通過仿真分析的手段,選出最 優(yōu)測量配置與最優(yōu)等效介質(zhì)模型;其次,將上述仿真結(jié)果運用于實際 納米結(jié)構(gòu)的測量,包括:在最優(yōu)測量配置下,對實際納米結(jié)構(gòu)進行光 學(xué)散射測量,獲得測量光譜;運用基于最優(yōu)等效介質(zhì)模型的參數(shù)提取 算法,對測量光譜進行分析,獲得提取參數(shù)的數(shù)值;通過提取參數(shù)與 待測參數(shù)間穩(wěn)定性最佳的映射關(guān)系式對提取參數(shù)進行映射,獲得待測 參數(shù)的數(shù)值。
華中科技大學(xué)
2021-04-11