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真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長，國際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將 CVD（化學(xué)氣相沉積）技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行（工藝溫度 高于 1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀(jì)七十年代末，開始出現(xiàn) PVD（物理氣相沉積）技術(shù)，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展，究其原因： （1）其在真空密封的腔體內(nèi)成膜，幾乎無任何環(huán)境污染問題，有利于環(huán)保； （2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要； （3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層，應(yīng)用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實(shí)現(xiàn)了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個(gè)特點(diǎn)，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應(yīng)用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了 PCVD（物理化學(xué)氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學(xué)氣相沉積）等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。

本技術(shù)的真空、反重力充型特點(diǎn)，能夠平穩(wěn)地將液態(tài)金屬充入到鑄型中，使毛坯中含有極少的氣體和氣孔；本技術(shù)的壓力下凝固補(bǔ)縮特點(diǎn),能夠?qū)ρa(bǔ)縮通道施加大的補(bǔ)縮壓力，減少或消除凝固收縮形成的縮松和縮孔缺陷。采用本技術(shù)生產(chǎn)的毛坯中材料的孔隙率可以小于0.05%,獲得高質(zhì)量、優(yōu)質(zhì)毛坯。 本技術(shù)直接對(duì)坩堝內(nèi)和真孔罩內(nèi)部的壓力進(jìn)行調(diào)壓，設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，密封性好，調(diào)壓空間小，增強(qiáng)了控制系統(tǒng)的快速性與及時(shí)性，降低能耗；爐體具備傾翻機(jī)構(gòu)，坩堝與調(diào)壓管路間采用軟管連接簡(jiǎn)化機(jī)構(gòu)，便于傾倒剩余液體，操作簡(jiǎn)單，降低成本。另外，本技術(shù)通過對(duì)成型過程中鑄型內(nèi)液態(tài)金屬液面位置和溫度的檢測(cè)，可根據(jù)所獲得的信號(hào)設(shè)置坩堝內(nèi)的壓力控制，實(shí)現(xiàn)真空調(diào)壓鑄造工藝的精確控制。 主要應(yīng)用范圍： 本技術(shù)適合于各種壁厚的鋁合金及其復(fù)合材料的毛坯生產(chǎn)。 技術(shù)經(jīng)濟(jì)分析： 本技術(shù)為鋁合金及其復(fù)合材料的液態(tài)反重力成型制造技術(shù)，該技術(shù)可以在真空條件下將液態(tài)金屬平穩(wěn)地充入到鑄型（金屬、石墨、樹脂砂、水玻璃砂等鑄型），在壓力下完成凝固，實(shí)現(xiàn)凝固補(bǔ)縮。該技術(shù)能夠達(dá)到的真空度低于－0.1MPa，可以實(shí)現(xiàn)的補(bǔ)縮壓力為0.2MPa。本技術(shù)采用計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)真空、充型過程和凝固補(bǔ)縮過程的精確控制。 目前，本技術(shù)已經(jīng)成功用于我國高速客車鋁基復(fù)合材料制動(dòng)盤的制造生產(chǎn)，獲得了優(yōu)質(zhì)的制動(dòng)盤質(zhì)量，取得了好的社會(huì)經(jīng)濟(jì)效益，正在進(jìn)一步推廣應(yīng)用到高強(qiáng)度鋁合金軸箱的成型制造過程。

真空鍍膜技術(shù)廣泛用于航空、航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)等各行各業(yè)，本單位長期從事鍍膜技術(shù)的研究和開發(fā)，先后研制出兩臺(tái)鍍膜機(jī)，達(dá)到國內(nèi)領(lǐng)先水平，同時(shí)開展真空技術(shù)及器件、蒸鋁技術(shù)、濾光片技術(shù)、各種保護(hù)膜的研究和開發(fā)，有多名長期從事相關(guān)技術(shù)研究的教授和專家，理論基礎(chǔ)扎實(shí)及實(shí)踐能力強(qiáng)。 

產(chǎn)品詳細(xì)介紹真空原位分析表征系統(tǒng)是為紅外光譜吸附態(tài)表征和催化劑酸性測(cè)定設(shè)計(jì)的專用真空系統(tǒng)，配有石英紅外吸收池，可以與Bruker、Nicolet、PE、Shimadzu、Jasco、Varian\Bio-Rad等主要紅外光譜儀連接使用，進(jìn)行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等小分子化合物的化學(xué)吸附測(cè)定。具體應(yīng)用吸附態(tài)研究和催化劑的表征　　紅外光譜已經(jīng)廣泛應(yīng)用于催化劑表面性質(zhì)的研究，其中最有效和廣泛應(yīng)用的是研究吸附在催化劑表面的所謂“探針分子”的紅外光譜， 如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，, 它可以提供在催化劑表面存在的“活性中心”信息。用這種方法可以表征催化劑表面暴露的原子或離子, 更深入地揭示表面結(jié)構(gòu)的信息。與其它方法相比較, 這樣的紅外研究所獲得的信息只限于探針分子（或反應(yīng)物分子）可以接近或勢(shì)壘所允許的催化劑工作表面。? CO吸附態(tài)研究　　由于CO具有電子受授性質(zhì)，未充滿的空軌道很容易同過渡金屬相互作用。CO同許多重要的催化反應(yīng)有密切關(guān)系。如羰基合成、水煤氣合成、氧化等。并且具有很高的紅外消光系數(shù)。因此, 在過渡金屬表面吸附態(tài)的研究是一個(gè)十分廣泛的研究課題。? 雙金屬原子簇催化劑的研究（紅外光譜方法研究催化劑表面組成和相互作用）利用兩種氣體混合物吸附在雙組元過渡金屬催化劑上通過紅外光譜側(cè)其吸附在不同組元上吸收帶強(qiáng)度的方法可以測(cè)定雙金屬載體催化劑的表面組成。例如：CO和NO混合氣吸附在Pt-Ru/SiO2上的紅外光譜測(cè)定Pt-Ru/SiO2催化劑的表面組成。催化劑紅外酸性測(cè)定? 氧化物表面酸性的測(cè)定　　酸性中心一般看作是氧化物催化劑表面的活性中心。在催化裂化、異構(gòu)化、聚合等反應(yīng)中烴類分子和表面酸性中心相互作用形成正碳離子, 是反應(yīng)的中間化合物。正碳離子理論可以成功地解釋烴類在氧化物表面上的反應(yīng), 也對(duì)酸性中心的存在提供了強(qiáng)有力的證明。為了進(jìn)一步表征固體酸性催化劑的性質(zhì), 需要測(cè)定表面酸性中心的類型（L酸、B酸）、強(qiáng)度和酸量。利用紅外光譜研究表面酸性常常利用氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等堿性吸附質(zhì), 其中應(yīng)用比較廣泛的是吡啶和氨利用紅外光譜研究固體酸。? 氧化物表面羥基的研究? 紅外光譜應(yīng)用于反應(yīng)于反應(yīng)動(dòng)態(tài)學(xué)研究? 催化劑原位表征高真空系統(tǒng)解決的問題　　由于紅外光譜方法本身存在一定的局限性。　　1) 利用透射方法研究載體催化劑, 由于大部分載體低于1000cm, 就不透明了,所以很難獲得這一范圍的許多重要信息。　　2) 金屬粒子不同的暴露表面邊、角、階梯、相間界面線等,分子吸附在所有這些中心上的光譜都可對(duì)測(cè)得的光譜有貢獻(xiàn), 因而解釋起來有困難。　　3) 由于催化反應(yīng)過程中, 在催化劑表面上反應(yīng)中間物濃度一般都很低,壽命很短（尤其是反應(yīng)活性的承擔(dān)者）, 紅外光譜的靈敏度和速度不夠高。　　4) 紅外光譜只適用于有紅外活性的物質(zhì)。　　隨著光譜技術(shù)的發(fā)展, 這些局限性將通過真空系統(tǒng)克服。系統(tǒng)基本情況　　一套用于催化劑原位表征的真空裝置及紅外原位測(cè)量系統(tǒng)，配備紅外吸收池統(tǒng)。 提高真空系統(tǒng)的性能使其在較短的時(shí)間內(nèi)達(dá)到測(cè)量需要的中高真空度。主要技術(shù)指標(biāo)　　1. 樣品處理開始后樣品池中真空度應(yīng)在30 分鐘內(nèi)達(dá)到10-5 Torr；　　2. 樣品測(cè)量過程中各樣品可同時(shí)或分別進(jìn)行吸附或脫附探針分子；　　3. 由于測(cè)量所需探針分子為酸性或堿性分子，高硼硅玻璃材質(zhì)避免了相互污染；　　4、真空處理系統(tǒng)由機(jī)械泵與玻璃四級(jí)擴(kuò)散泵串聯(lián)組合抽氣，達(dá)到客戶對(duì)測(cè)試池中高真空的要求，抽速快，體積小,低噪音，操作簡(jiǎn)單，使用方便的特點(diǎn),并且價(jià)格適中。　　5、低真空部分主要是抽出系統(tǒng)中的高濃度氣體或吸附的殘余氣體。　　6、各部分節(jié)門選用高硼硅玻璃節(jié)門，滿足系統(tǒng)高真空的要求，透明性操作，便于調(diào)試。　　7、真空測(cè)量?jī)x使用數(shù)顯高精密真空計(jì)。　　8、本系統(tǒng)配備透過式石英紅外吸收池，采用透射模式，可對(duì)樣品進(jìn)行陪燒、流動(dòng)氧化還原、抽空脫氣、吸附反應(yīng)等處理過程，可隨時(shí)移入或移出到紅外光譜儀的光路中進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，也可利用配備的延長管路進(jìn)行原位表征和實(shí)驗(yàn)。其加熱方式可采用程序升溫方法控制溫度的升降，也可使用調(diào)壓變壓器對(duì)溫度的升降進(jìn)行控制，使用溫度可以高達(dá)450度，標(biāo)準(zhǔn)配置的吸收池窗口為CaF2，工作區(qū)間為4000—1200波數(shù)之間，用戶也可按照需要自性配置其他材料的窗口。　　9. 樣品測(cè)量過程中各樣品可同時(shí)或分別進(jìn)行預(yù)處理、吸附、脫附探針分子或更換樣品。　　10. 波紋管更換方便。　　11．為滿足客戶的要求真空系統(tǒng)可做相應(yīng)改變。配置單序號(hào) 設(shè)備名稱 數(shù)量高真空裝置 1.1 機(jī)械泵 1 1.2 玻璃油擴(kuò)散泵 1 1.3 真空計(jì) 1 1.4 壓力規(guī)表頭 1 1.5 吸附阱、冷卻室、管道、真空工作架、玻璃節(jié)門、電控標(biāo)準(zhǔn)連接件等 1測(cè)量系統(tǒng) 2.1 石英樣品池 1 2.2 溫控裝置 1 2.3 操作手冊(cè) 1

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 小型真空碳管爐  產(chǎn)品編號(hào)：52310445116  ◎產(chǎn)品說明  設(shè)備技術(shù)：  本電爐為周期作業(yè)式，廣泛用于功能陶瓷、光學(xué)材料、碳復(fù)合材料、硬質(zhì)合金、粉末治金等高溫下進(jìn)行燒結(jié)處理，也可在充氣保護(hù)下成型燒結(jié)。  技術(shù)參數(shù)：  1、型號(hào)：ZT-18-22  2、額定功率：18KW  3、額定溫度：2200℃  儀表控溫精度：正負(fù)1℃  5、控溫方式：鎢錸熱電偶+紅外衣  工作區(qū)尺寸：直徑80x100mm  7、冷態(tài)極限真空度：5x10-3 Pa  8、壓升率：2Pa/h  9、電源電壓：380V 50Hz 單相  10、充氣壓力：<0.03Mpa（可充氮?dú)狻鍤猓?nbsp; 11、發(fā)熱元件：石墨管（高純石墨）  結(jié)構(gòu)與說明：  1、爐體：采用雙層水夾層結(jié)構(gòu)，"內(nèi)層為不銹鋼（1Gr18N9Ti）拋光。上、下法蘭組焊筒形結(jié)構(gòu)，法蘭平面開設(shè)封閉槽。采用“0”圈真空密封，并設(shè)有水冷裝置（防止因溫度過高“0”圈老化）。開設(shè)有抽氣、熱電偶、紅外儀等。  2、爐蓋：采用雙層水夾層封頭結(jié)構(gòu)，設(shè)有觀察窗，屏蔽鎖緊、開啟裝置，并通水冷。  3、爐底：采用雙層水夾層封頭結(jié)構(gòu)，設(shè)有電極引出裝置，支撐平臺(tái)等，并設(shè)有水冷裝置。  4、爐架：山型鋼及鋼板組焊成箱式結(jié)構(gòu)，爐體安裝放在箱體內(nèi)，美觀大方。  5、真空系統(tǒng)：又一臺(tái)K-100擴(kuò)散泵配冷阱，一臺(tái)2XZ-8D直聯(lián)泵、手動(dòng)高真空蝶閥、真空壓力表（Pa）、充氣閥、放氣閥和真空管路等組成，擴(kuò)散泵采用金屬波紋軟管快速接頭聯(lián)接（減緩震動(dòng)），真空度的測(cè)量采用數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)。  6、控制系統(tǒng)PLC控制：控制系統(tǒng)是由我公司自行開發(fā)人機(jī)對(duì)話操軟件，畫面顯示友好，操作簡(jiǎn)單，要以爐內(nèi)工況進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，軟件彩色模擬屏顯示，加熱升溫顯示及真空閥門的控制都集成到電腦上操作，現(xiàn)場(chǎng)也可以手動(dòng)操作，需要電腦操作時(shí)，直聯(lián)由232接口連接到筆記本電腦上啟動(dòng)軟件，可檢測(cè)到各種狀態(tài)，也可通過485通訊連接到辦公室操作，本設(shè)備可采納溫度、真空度曲線和燒結(jié)時(shí)間，方便用戶根據(jù)歷史曲線分析燒結(jié)工藝。控溫方式為1300℃以下熱電偶升溫。1000℃-2200℃紅外儀表自動(dòng)控制。壓力控制可采用手動(dòng)及自動(dòng)方式。控制系統(tǒng)上設(shè)有過流、超溫及斷水等分類報(bào)警功能。  7、氣路系統(tǒng)：整個(gè)系統(tǒng)中設(shè)有1個(gè)j進(jìn)氣口、1個(gè)放氣口、可沖氣氛。  8、電氣控制：采用各種管道閥等相關(guān)裝置組成，具有斷水聲光報(bào)警自動(dòng)切斷電源能。  9、變壓器及連接電纜：采用與之相匹配的變壓器及連接電纜。  10、發(fā)熱元件及隔熱屏：發(fā)熱元件采用高純石墨加工成圓筒形結(jié)構(gòu)，隔熱屏采用石墨復(fù)合材料、碳?xì)帧⑹珰郑匦阅芎谩⒓訜峋鶆颉⑤椛涿娲蟆⒛蜎_擊性好，可快速加熱和冷卻。保溫層和發(fā)熱分體，易維護(hù)和取裝，保溫套外用不銹鋼框架支撐，固定。 

一、產(chǎn)品描述   真空爐產(chǎn)品主要針對(duì)實(shí)驗(yàn)室的日常應(yīng)用開發(fā)，優(yōu)質(zhì)的爐膛材料和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng)，可保證實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的可靠性；產(chǎn)品采用高純氧化鋁材料作為爐膛材料，選用質(zhì)優(yōu)的硅鉬棒發(fā)熱元件作為發(fā)熱體，溫度控制器采用微電腦PID控制模塊，可實(shí)現(xiàn)精確的控溫和恒溫要求。可應(yīng)用于金屬材料、石墨材料、鋰電材料、晶體材料等新材料領(lǐng)域；雙爐門結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，內(nèi)爐門隔熱，外爐門法蘭密封，優(yōu)質(zhì)的爐膛材料和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng)可保證長期的可靠性。 二、產(chǎn)品特點(diǎn) 1、 爐膛材料選用進(jìn)口輕質(zhì)高純氧化鋁陶瓷材料，硬度高、高溫不掉粉，高溫?zé)Y(jié)無揮發(fā)，環(huán)保安全，符合國際行業(yè)標(biāo)準(zhǔn) 2、 發(fā)熱體采用優(yōu)質(zhì)硅鉬棒，可承受負(fù)荷大，穩(wěn)定且使用壽命長；硅鉬棒均勻的排列在爐膛兩側(cè)，溫場(chǎng)均勻性好 3、 升溫速度快，溫度均勻性好，80分鐘可升到1600℃，較行業(yè)內(nèi)同規(guī)格電爐燒結(jié)效率提高3倍以上，安全高效 4、 控溫精度高，沖溫小，具有溫度補(bǔ)償和溫度校正功能，控溫精度為±1℃ 5、 采用智能PID控溫儀表，具有程序功能，可設(shè)定升溫曲線，可編30個(gè)程序段 6、 一體式結(jié)構(gòu)，雙層外殼，水冷結(jié)構(gòu)，出色的外觀設(shè)計(jì)，美觀、大方 7、 電子元器件均采用德力西產(chǎn)品，帶有漏電保護(hù)功能，安全可靠 8、 本機(jī)對(duì)工作過程中的超溫會(huì)發(fā)出報(bào)警信號(hào)，并自動(dòng)完成保護(hù)動(dòng)作 9、當(dāng)儀表程序設(shè)定完成后，只要按下運(yùn)行按鈕，接下來的工作會(huì)自動(dòng)完成 10、可選配大屏幕無紙記錄儀或者RS232通訊接口，實(shí)現(xiàn)對(duì)升溫曲線的實(shí)時(shí)記錄，并帶有存儲(chǔ)卡可對(duì)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析和打印

動(dòng)脈瘤是由于動(dòng)脈血管壁因發(fā)生疾病、損傷或先天性因素引起的血管壁局部變得薄弱，在承受血流的沖擊下，該處動(dòng)脈血管壁的薄弱點(diǎn)向外突出，逐漸擴(kuò)張，形成的圓形、橢圓形或棱形的囊狀膨大。動(dòng)脈瘤是一種有潛在生命危險(xiǎn)的疾病，動(dòng)脈瘤在血流的沖擊下不斷生長，壓迫周圍器官或組織引起癥狀。由于血壓增高或其他因素引起的動(dòng)脈瘤破裂，發(fā)生急劇的出血。動(dòng)脈瘤可發(fā)生在身體的不同部位，最常見的是腹主動(dòng)脈瘤和顱內(nèi)動(dòng)脈瘤。為避免外科手術(shù)高風(fēng)險(xiǎn)，血管內(nèi)介入治療逐漸成為治療動(dòng)脈瘤的主要方法，血管內(nèi)介入治療具有創(chuàng)傷小、并發(fā)癥少、安全性高、患者痛

工藝：離子膜法 物理屬性：純品為無色透明液體，吸濕性很強(qiáng)，腐蝕性強(qiáng)。 主要用途：是重要的化工基礎(chǔ)原料，廣泛用于紡織印染、冶煉、醫(yī)藥、涂料等行業(yè)。同時(shí)具有食品級(jí)的生產(chǎn)許可證，可作為食品添加劑使用。 技術(shù)指標(biāo) 序號(hào) 項(xiàng)目 液堿 優(yōu)等品 一等品 1 濃度 32% 熔點(diǎn)(℃) 318.4 沸點(diǎn)(℃)  1390 相對(duì)密度(水=1)  2.130 2 氫氧化鈉          ≥ 32.0 3 碳酸鈉           ≤ 0.04 0.06 4 氯化鈉           ≤ 0.004 0.007 5 三氧化二鐵         ≤ 0.0003 0.0005 6 二氧化硅          ≤ 0.0015 0.003 7 氯酸鈉           ≤ 0.001 0.002 8 硫酸鈉           ≤ 0.001 0.002 9 三氧化二鋁         ≤ 0.0004 0.0006 10 氧化鈣           ≤ 0.0001 0.0005