真空鍍膜（PVD 技術）

其它領域

真空涂層技術起步時間不長，國際上在上世紀六十年代才出現將 CVD（化學氣相沉積）技術應用于硬質合金刀具上。由于該技術需在高溫下進行（工藝溫度 高于 1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀七十年代末，開始出現 PVD（物理氣相沉積）技術，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術得到迅猛發展，究其原因： （1）其在真空密封的腔體內成膜，幾乎無任何環境污染問題，有利于環保； （2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要； （3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復合涂層，應用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實現了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂層技術具有低溫、高能兩個特點，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應用范圍十分廣闊，其發展神速也就不足為奇。真空涂層技術發展到了今天還出現了 PCVD（物理化學氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學氣相沉積）等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。

產業化應用