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產(chǎn)品詳細(xì)介紹　　LJB系列半導(dǎo)體冷阱，應(yīng)用半導(dǎo)體致冷器件為固體冷源，以智能化數(shù)量控溫儀表為控制核心，采用大功率半導(dǎo)體器件為控制元件，因此，具有體積小、無噪聲、操作簡便、控溫精度高等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于軍工、電子、石油化工、生物制藥、大專院校及科研院所等領(lǐng)域，是理想的實(shí)驗(yàn)室和產(chǎn)品檢測儀器。 　　主要技術(shù)指標(biāo)　　1．冷室尺寸：Φ80～Φ300mm（直徑）　　　　　　　　 100～300mm（深度）　　2．溫度范圍：＋60℃～—65℃　　3．控溫精度：±0.5℃～±0.01℃　　根據(jù)用戶的具體要求，增加計(jì)祘機(jī)通訊接口和升降溫速率控制的功能，根據(jù)用戶的特殊要求，承接異型產(chǎn)品的研制開發(fā)項(xiàng)目。  

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MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機(jī) 真空腔室：1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接，上開蓋和前開門結(jié)構(gòu)；真空系統(tǒng)：機(jī)械泵+分子泵（進(jìn)口和國產(chǎn)可選）；極限真空：優(yōu)于8?10-5Pa（設(shè)備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)0～20r/min可調(diào)，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；質(zhì)量流量計(jì)：10sccm、50sccm質(zhì)量流量控制器各1套；膜厚監(jiān)控儀：可選配國產(chǎn)或進(jìn)口單水冷探頭膜厚儀；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實(shí)現(xiàn)一鍵抽停真空；整機(jī)尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機(jī)電一體化機(jī)架，預(yù)留1個CF35法蘭接口。

EV-246小型電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)真空腔室：1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接，上開蓋和前開門結(jié)構(gòu)；真空系統(tǒng)：機(jī)械泵+分子泵（進(jìn)口和國產(chǎn)可選）；極限真空：優(yōu)于8?10-5Pa（設(shè)備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；基片臺：可拆卸式，尺寸60?60mm，旋轉(zhuǎn)0～20r/min可調(diào)，可加熱至300℃（可選水冷功能）；蒸發(fā)源及電源：水冷銅電極3組，逆變式蒸發(fā)電源，功率2KW，配源間防污隔板；膜厚監(jiān)控儀：采用國產(chǎn)或進(jìn)口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實(shí)現(xiàn)一鍵抽停真空；整機(jī)尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機(jī)電一體化機(jī)架，預(yù)留1個CF35法蘭接口。

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真空涂層技術(shù)起步時間不長，國際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將 CVD（化學(xué)氣相沉積）技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行（工藝溫度 高于 1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀(jì)七十年代末，開始出現(xiàn) PVD（物理氣相沉積）技術(shù)，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展，究其原因： （1）其在真空密封的腔體內(nèi)成膜，幾乎無任何環(huán)境污染問題，有利于環(huán)保； （2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要； （3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層，應(yīng)用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實(shí)現(xiàn)了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個特點(diǎn)，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應(yīng)用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了 PCVD（物理化學(xué)氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學(xué)氣相沉積）等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。

本技術(shù)的真空、反重力充型特點(diǎn)，能夠平穩(wěn)地將液態(tài)金屬充入到鑄型中，使毛坯中含有極少的氣體和氣孔；本技術(shù)的壓力下凝固補(bǔ)縮特點(diǎn),能夠?qū)ρa(bǔ)縮通道施加大的補(bǔ)縮壓力，減少或消除凝固收縮形成的縮松和縮孔缺陷。采用本技術(shù)生產(chǎn)的毛坯中材料的孔隙率可以小于0.05%,獲得高質(zhì)量、優(yōu)質(zhì)毛坯。 本技術(shù)直接對坩堝內(nèi)和真孔罩內(nèi)部的壓力進(jìn)行調(diào)壓，設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，密封性好，調(diào)壓空間小，增強(qiáng)了控制系統(tǒng)的快速性與及時性，降低能耗；爐體具備傾翻機(jī)構(gòu)，坩堝與調(diào)壓管路間采用軟管連接簡化機(jī)構(gòu)，便于傾倒剩余液體，操作簡單，降低成本。另外，本技術(shù)通過對成型過程中鑄型內(nèi)液態(tài)金屬液面位置和溫度的檢測，可根據(jù)所獲得的信號設(shè)置坩堝內(nèi)的壓力控制，實(shí)現(xiàn)真空調(diào)壓鑄造工藝的精確控制。 主要應(yīng)用范圍： 本技術(shù)適合于各種壁厚的鋁合金及其復(fù)合材料的毛坯生產(chǎn)。 技術(shù)經(jīng)濟(jì)分析： 本技術(shù)為鋁合金及其復(fù)合材料的液態(tài)反重力成型制造技術(shù)，該技術(shù)可以在真空條件下將液態(tài)金屬平穩(wěn)地充入到鑄型（金屬、石墨、樹脂砂、水玻璃砂等鑄型），在壓力下完成凝固，實(shí)現(xiàn)凝固補(bǔ)縮。該技術(shù)能夠達(dá)到的真空度低于－0.1MPa，可以實(shí)現(xiàn)的補(bǔ)縮壓力為0.2MPa。本技術(shù)采用計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)真空、充型過程和凝固補(bǔ)縮過程的精確控制。 目前，本技術(shù)已經(jīng)成功用于我國高速客車鋁基復(fù)合材料制動盤的制造生產(chǎn)，獲得了優(yōu)質(zhì)的制動盤質(zhì)量，取得了好的社會經(jīng)濟(jì)效益，正在進(jìn)一步推廣應(yīng)用到高強(qiáng)度鋁合金軸箱的成型制造過程。