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一種 Sb2(Sex,S1-x)3 合金薄膜及其制備方法，屬于半導體材料 與器件制備領域，解決現有 Sb2Se3 和 Sb2S3 薄膜禁帶寬度和能帶位置 固定的問題，以實現禁帶寬度和能帶位置的連續可調，得到禁帶寬度 和能帶位置更加合適的無機半導體材料。本發明的 Sb2(Sex,S1-x)3 合 金薄膜，由 Sb2(Sey,S1-y)3 合金粉末作為蒸發源或者 Sb2Se3 粉末和 Sb2S3 粉末作為蒸發源，通過近空間升華法在襯底

本成果獲2005年中國鐵道學會鐵道科技三等獎（參加）。

本成果來自國家科技計劃項目，現已結題，并獲國家發明專利授權（ZL201320031915.X），知識產權屬于西南交通大學。該成果公開了一種開關變換器雙緣脈沖頻率調制V2型控制方法及其裝置，根據基準電壓Vref和輸出電壓Vos經過誤差補償器后生成的控制電壓Vc與輸出電壓Vos的關系，結合預設的恒定導通時間或恒定關斷時間，產生三段時間t1、t2和t3，每個周期依次采用t1、t2、t3組成的控制時序，控制開關變換器開關管的導通與關斷。本成果可用于控制Buck變換器、Buck2變換器、Cuk變換器、Zeta變換器等開關變換器，其優點是：負載瞬態響應速度快，穩壓精度高，穩定性好。

本發明公開了一種Au?Pd/TiO2NBs光催化劑的制備方法，步驟如下：將鈦片作為基體，對鈦片進行陽極氧化處理制備TiO2NBs，陽極氧化前，鈦片分別在乙醇和丙酮中超聲清洗，然后酸洗，而后用去離子水沖洗干燥，陽極氧化采用兩電極體系，在空氣中煅燒；對步驟一制備的TiO2NBs進行Au?Pd雙金屬納米粒子修飾，采用三電極體系，氯金酸和氯化鈀水溶液為Au和Pd源，先沉積Au后沉積Pd，沉積后烘干。本發明制備的光催化劑固定于鈦基體上，避免了因回收不徹底而造成的水體污染，具有更大的可接觸表面積，便于有機污染物分子與之接觸反應，極大的促進了光催化降解性能，反應條件溫和，工藝流程簡單，易于控制。

本發明公開了一種基于 D2D 和上行 NOMA 的兩用戶通信方法，包括：獲取當前網絡信息和用戶信息；兩個用戶需要在通信時長 T 內完成各自的數據傳輸，當距離上滿足 di＞dj＞d0 且 dj+d0＞di,i≠j,i,j∈{1,2}時，用戶 i 在通信時長 T 內使用全部頻譜資源將數據量 Di 通過D2D 方式傳輸給用戶 j；用戶 j 工作在 FD 模式，在通信時長 T 內使用全部頻譜資源通過 NOMA 方式將數據量 Di 和 Dj 上傳給基站，其中用戶 i 的數據作為強用戶數據，基站首先對其進行解碼，然后再解碼用戶 j 的數據；本發明提供的結合 D2D 技術的上行 NOMA 高能效通信方法，與采用上行 OFDMA 的通信方法相比，在保證系統頻譜效率不變的情況下，較好地提升了系統能效。

產品詳細介紹

產品詳細介紹 1.掃描模式：手持精細掃描，手持快速掃描 ★2.尺寸精度：手持精細掃描模式：±0.05mm，各方向誤差≤0.3mm/m；手持快速掃描模式：±0.1mm，各方向誤差≤0.3mm/m； 3.掃描速度：線掃描模式：1,000,000點/秒；面掃描模式：1,500,000點/秒； ★4.可變分辨率：≥0.2mm，掃描時分辨率可以通過系統軟件在掃描后根據需要調整，無須通過更換硬件鏡頭來實現 5.單幅掃描范圍：135*100mm——225*170mm 6.工作中心距離：400mm 7.景深：200mm ★8.光源：三色LED（非激光，不污染環境及危害人身健康） ★9.拼接模式：標志點拼接，特征拼接，手動拼接，混合拼接 10. 輸出數據是否可直接打印： 無須借助第三方軟件，軟件自帶修補孔，標志點修補，平滑，銳化，縮放，簡化，數據編輯等功能，直接輸出融合后的完整STL模型，直接進行3D打印 11.移動終端實時顯示功能：在掃描過程中，借助移動終端設備，可實現掃描狀態在計算機與移動終端的同步分屏顯示，實時監測掃描進程，更便利地觀察掃描實況。 12.數據輸出格式：STL，ASC，OBJ，PLY，3MF 13.系統支持： Win7,Win8,Win10,64bit  14.電腦要求：顯卡：NVIDIA GTX1060及以上，顯存：>4G，處理器：I7及以上，內存：16G及以上 15.掃描頭含數據線重量：≤1.13kg ★16.素材支持：配備一個3d素材庫，素材庫數量須大于2萬個，素材涵蓋人物、卡通、教育、建筑、時尚、玩具、動物、植物、家居、工具、動漫游戲等類別，素材擁有25個以上特色專題，每個專題包含至少5個以上同類別優質素材。素材庫包含網站及APP，APP同步支持安卓及IOS下載，素材庫系統須取得電腦終端與iphone移動終端及Android移動終端《計算機軟件著作權登記證書》。 2. 提供生產廠商對本項目的原廠項目授權委托書及售后服務承諾書原件。（須加蓋生產廠商單位公章） 3. 投標單位配備的3D模型庫需提供《軟件著作權登記證書》。（復印件并加蓋軟件供應商單位公章）