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產(chǎn)品詳細(xì)介紹 真空碳管爐  ◎產(chǎn) 品 說 明  設(shè)備特點(diǎn)：  真空碳管爐主要供大專院校、科研單位在真空或保護(hù)氣氛條件下對無機(jī)材料（如功能陶瓷、透明陶瓷、碳化硅、氧化鋯、氧化鋅、二氧化鋁等）及金屬材料（如硬質(zhì)合金）等進(jìn)行燒結(jié)處理。  技術(shù)參數(shù)：  1、型號：ZT-25-20  2、 額定功率：25KW3、最高工作溫度：2000℃  4、工作區(qū)尺寸：直徑90x120  5、極限真空度：6.67x10-3Pa6、溫度控制：熱電偶+紅外自動控制  結(jié)構(gòu)說明：  本產(chǎn)品是由爐體、爐蓋、爐底、真空系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等組成，占地小，易于搬運(yùn)。  1、爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，保持爐殼溫度不超過60℃.打開爐蓋裝料，爐體內(nèi)有用碳?xì)只蚪饘俑魺崞磷龀傻谋貙樱l(fā)熱元件采用石墨筒。爐體側(cè)部設(shè)計有觀察窗及熱電偶，以便進(jìn)行溫度分段自動控制，及1700℃以下采用鎢錸熱電偶，1000℃-2000℃采用紅外傳感器。  2、真空系統(tǒng)采用二級泵，及K-159油擴(kuò)散泵與2XZ-8D直聯(lián)泵，真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。  3、電氣控制采用大電流變壓器、調(diào)壓器及溫度控制儀表組成溫度控制執(zhí)行回路。電路設(shè)有斷水、過流、超溫報警及保護(hù)功能。 

產(chǎn)品型號：RZ產(chǎn)品應(yīng)用：非開挖工程所屬分類：正面刮刀

簡介：本發(fā)明提供一種超晶格結(jié)構(gòu)的納米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制備方法,屬于材料表面技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明該超硬膜是由電弧離子鍍的納米晶體相Cr2N和磁控濺射鍍的非晶體相WC層交替沉積而成,并且,超晶格的調(diào)制周期為10～20nm,Cr2N單層和WC單層的厚度分別為8～14nm和2～6nm。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:Cr2N層與WC層交替分布實(shí)現(xiàn)了Cr-N基膜成分多元化和結(jié)構(gòu)多層化,解決了抗氧化性較強(qiáng)的Cr-N基膜獲得超高硬度的難題,同時非晶WC層進(jìn)一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蝕性能,滿足不能熱處理的

本項目開發(fā)了一種全新概念的納米陶瓷制備新工藝新技術(shù)。它采用天然礦物和工業(yè)廢渣來取代高溫?zé)Y(jié)法中昂貴的納米陶瓷粉末，使制備成本大幅降低。用高溫溶膠－凝膠工藝從根本上解決了材料組成的不均勻性和殘留氣孔等問題，同時具有生產(chǎn)周期短、效率高、能耗低、制品的均勻性和可靠性好等優(yōu)點(diǎn)。開發(fā)的原位受控晶化技術(shù)不僅使材料的晶粒尺寸控制在納米級，而且還可對晶相數(shù)量和結(jié)晶形狀進(jìn)行有效控制，可獲得具有球狀或針狀晶體的納米微晶陶瓷。

電路是以晶圓為載體，采用一定的工藝，把電路中的元器件和布線制作在晶圓片上，封裝為 一個整體，使晶圓上每個晶粒成為具有所需電路功能的微型結(jié)構(gòu)。晶圓切割的過程是將集成有 電路的整片晶圓通過劃切分割成單個的晶粒，切割過程又是一種無法恢復(fù)的過程，因此，材料 和制造成本的積累以及工藝的不可重復(fù)性決定了切割工藝成為整個集成電路制造過程中最關(guān)鍵 和難度最大的工藝環(huán)節(jié)。 精密機(jī)械：可加工的晶圓最小直徑可達(dá)50mm，在晶圓里面印刷有晶格，每個晶格的寬度 為200μm，晶格間距約為20μm，所以設(shè)備的切割精度要求控制在2μm以內(nèi)，每小時切割15片。 運(yùn)動平臺采用高精度的直線電機(jī)平臺，定位精度為2μm，重復(fù)定位精度為1μm；旋轉(zhuǎn)平臺的定 位精度為30″，重復(fù)定位精度為4″。 計算機(jī)自動控制：劃片機(jī)系統(tǒng)將根據(jù)客戶要求以及配合視覺檢測系統(tǒng)傳輸?shù)木A數(shù)據(jù)，自 動生成切割路徑，在規(guī)定的工作時間內(nèi)完成晶圓的切割。

本項目開發(fā)了一種全新概念的納米陶瓷制備新工藝新技術(shù)。它采用天然礦物和工業(yè)廢渣來取代高溫?zé)Y(jié)法中昂貴的納米陶瓷粉末，使制備成本大幅降低。用高溫溶膠－凝膠工藝從根本上解決了材料組成的不均勻性和殘留氣孔等問題，同時具有生產(chǎn)周期短、效率高、能耗低、制品的均勻性和可靠性好等優(yōu)點(diǎn)。開發(fā)的原位受控晶化技術(shù)不僅使材料的晶粒尺寸控制在納米級，而且還可對晶相數(shù)量和結(jié)晶形狀進(jìn)行有效控制，可獲得具有球狀或針狀晶體的納米微晶陶瓷。

本項目以溶膠凝膠技術(shù)為基礎(chǔ)，輔以其他技術(shù)手段，在技術(shù)及產(chǎn)品質(zhì)量指 標(biāo)上完全達(dá)到了世界上最先進(jìn)的諾頓（法國圣戈班）、3M 公司的水平，實(shí)現(xiàn)工 業(yè)化生產(chǎn)后，可以打破國外的技術(shù)封鎖和產(chǎn)品壟斷，并解決國內(nèi)關(guān)鍵加工行業(yè) 受國外制約的困難，從而提升國內(nèi)整體的機(jī)械加工水平。

提出并制備了非線性光學(xué)準(zhǔn)晶超構(gòu)表面，并研究了超構(gòu)單元局域?qū)ΨQ性和排布方式的全局對稱性對超構(gòu)表面遠(yuǎn)場非線性光輻射的共同影響。該非線性光學(xué)準(zhǔn)晶超構(gòu)表面運(yùn)用了基于非線性光學(xué)貝里幾何相位的金屬等離激元結(jié)構(gòu)單元，依據(jù)經(jīng)典的彭羅斯準(zhǔn)周期拼接和具有六重對稱性的六角準(zhǔn)周期拼接形成了不同種類的準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)。彭羅斯結(jié)構(gòu)的準(zhǔn)周期拼接具有五重對稱性，其衍射圖案則具有十重對稱性，這些都是晶體衍射定理所不允許的對稱性。而六角準(zhǔn)周期拼接是2017年提出的一種準(zhǔn)周期拼接，它具有晶體衍射定理所允許的六重對稱性，卻并不遵從短程有序的規(guī)律。這兩種拼接方式可以與某些特定的比例聯(lián)系起來，這些比例由不同階次的迭代規(guī)則決定：彭羅斯結(jié)構(gòu)對應(yīng)一階迭代過程，其比例是人們熟知的“黃金分割比”，而六角準(zhǔn)周期晶格對應(yīng)三階過程，其比例可稱為“黃銅分割比”。自六角準(zhǔn)周期晶格從理論上提出以來，本項工作中的非線性光學(xué)準(zhǔn)晶超構(gòu)表面是首個利用黃銅分割比實(shí)驗實(shí)現(xiàn)的人工光學(xué)結(jié)構(gòu)。? 非線性光學(xué)準(zhǔn)晶超構(gòu)表面中不同轉(zhuǎn)向的超構(gòu)單元對入射基頻光的響應(yīng)是均勻的，因此其線性光學(xué)衍射僅能反映超構(gòu)表面的全局對稱性，即晶格結(jié)構(gòu)決定其遠(yuǎn)場光衍射。而在倍頻實(shí)驗中，即出射光的頻率是入射光的兩倍（如1200nm 變?yōu)?00nm）。由于打破了超構(gòu)單元的中心反演對稱性并引入了非線性光學(xué)幾何相位，其非線性光學(xué)衍射與晶格結(jié)構(gòu)的局域?qū)ΨQ性、全局對稱性同時相關(guān)。因此，可以通過調(diào)控超構(gòu)單元的指向分布，進(jìn)而有效地調(diào)控倍頻光衍射中的零級。非線性光學(xué)準(zhǔn)晶超構(gòu)表面這一概念或?qū)樵O(shè)計超構(gòu)表面非線性光源、人工微納光學(xué)結(jié)構(gòu)材料提供新的思路。

本項目開發(fā)的超細(xì)晶高強(qiáng)多孔鐵合金具有精細(xì)細(xì)小（均小于5微米），強(qiáng)度高、韌性好、質(zhì)輕等特點(diǎn)。根據(jù)不同需要可制備出孔隙率從10-50%的多孔結(jié)構(gòu)，孔徑在1微米左右。當(dāng)孔隙率為20%時，最高抗壓強(qiáng)度超過了1000MPa。當(dāng)孔隙率達(dá)到50%左右時，抗壓強(qiáng)度超過了400MPa，壓縮率超過50%而不斷裂。該合金具有非常好的軟磁性能，可用于輕質(zhì)鐵磁性材料的制備。