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【發(fā) 明 人】潘林梅；郭立瑋；黃敏燕；朱華旭；倪荷芳【技術領域】 本發(fā)明涉及一種膜清洗劑，特別涉及一種適用于陶瓷膜微濾中藥液體制劑的清洗劑。【摘要】一種陶瓷膜清洗劑，其特征在于包括下列組分，各組分按質量份配比為：氫氧化鈉50-60質量份、氫氧化鈣20-30質量份、次氯酸鈉5-10質量份、十二烷基苯磺酸鈉5-I0質量份、四硼酸鈉l-5質量份、硅酸鈉質量l -10份、甲基纖維素1-5質量份。清洗劑制備簡便，清洗效果甚佳。對中藥液體制劑適用性強，降低了膜的清洗頻率。無需拆卸膜管，清洗方便易行。膜通量恢復迅速，大大縮短了清洗時間，降低了系統(tǒng)的能耗。膜管損害小，不影響膜管的使用壽命。避免清洗劑造成的二次污染，加速系統(tǒng)的再生。

1. 項目背景（1）隨著經(jīng)濟的不斷發(fā)展以及國家對環(huán)境保護問題的日益重視，污水排放要求越來越嚴格，而傳統(tǒng)的處理方法不能滿足日趨嚴格的排放要求，膜技術幾乎能將所有的微生物截流在

二、成果介紹1、 成果簡介：（500字以內） 本項目針對國內外對特種高分子樹脂及膜材料的重大需求，在傳統(tǒng)聚芳醚酮和聚醚砜樹脂的基礎上，制備高附加值和高性能的功能型改性聚芳醚樹脂及功能膜材料。具體的研究內容和完成情況包括：（1）功能型聚芳醚樹脂合成、化學改性及放大；（2）適合耐高溫樹脂的膜制備工藝；（3）針對功能膜材料在分離膜、質子交換膜、功能涂層和生物醫(yī)用材料方面的應用性開發(fā)。研制

本實用新型涉及一種光能驅動靜電水膜空氣凈化裝置，屬于家用電器領域。從上到下包括頂殼、收 塵區(qū)、底殼，所述頂殼上表面有進氣口，太陽能電池板，內部有機電中樞和電機，電機通過中央軸帶動 渦輪風扇，在電機下面的兩側設置高壓電極，所述機電中樞內設蓄電池和單片機，控制高壓電極和電機， 所述渦輪風扇邊緣還有蓄水池;收塵區(qū)由外筒與金屬內筒構成，外筒和金屬內筒由絕緣的支架連接，內 筒與中央軸下端通電形成電場;底殼內

光掩膜版(又稱光罩，掩膜版，英文 Photo-mask )是芯片制作中實現(xiàn)設計圖形轉移的載體，是決定其微細結構和線寬精度的核心材料和工具。 目前中國半導體掩膜版的國產(chǎn)化率10%左右，90%需要進口，高端掩膜版國產(chǎn)化率3%，miniLED和microLED產(chǎn)業(yè)升級也需要更多高端掩膜版。隨著中國市場需求的持續(xù)提升，掩膜版產(chǎn)能嚴重不足。并且中國半導體掩膜版的產(chǎn)業(yè)起步較晚，技術滯后，核心技術和裝備基本讓國外公司壟斷，特別是在設備、材料領域眾多技術處于“卡脖子”狀態(tài)，例如掩膜版制造的核心裝備光刻機、檢測機、測量機、修復機和貼膜機等都依賴進口，嚴重制約中國半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。華中科技大學徐智謀教授團隊致力于全套高端半導體光掩膜版的關鍵核心技術研發(fā)與量產(chǎn)，為“卡脖子”技術研究而努力。 具有建立180 nm技術節(jié)點半導體掩膜版量產(chǎn)線相關核心技術；具備130 nm至28 nm半導體掩膜版研發(fā)、設計及驗證能力。主要研究成果如下： 1） 工藝突破 團隊掌握了掩膜版MEMS微納加工量產(chǎn)核心技術，如電子束光刻、激光光刻和納米壓印光刻等MEMS微納加工工藝的各類技術參數(shù)的搭配和優(yōu)化，以及大數(shù)據(jù)量軟件快速處理、補償?shù)取? 2） 裝備國產(chǎn)化 A. 超高精度二維測量裝備 尺寸測量是驗證掩膜版技術指標的核心，主要包括關鍵尺寸測量(CD)和長尺寸測量(TP)。團隊已掌握掩膜版的關鍵測量技術，達到國內先進水平，具有整套設備的整機制造能力。 TP測量是掩膜版制作的核心指標，直接影響到客戶的套合精度，該測量設備一直由國外極少數(shù)廠商壟斷，且價格昂貴，一般在1000萬美元以上，高端限制對中國出口。團隊目前正在攻克該項技術，已取得階段性成果。 B. 缺陷修復裝備 掩膜版修補技術是提升良品率的關鍵手段，該技術一直為國外壟斷。團隊已熟練掌握UV、DUV激光化學沉積技術及皮秒飛秒激光金屬處理技術，具備整機制造能力，可降低設備采購成本70%以上。 C. Pellicle自動貼膜裝備 隨著產(chǎn)品精度的提升和應用領域的高端化，掩膜版貼膜是個不可缺少的重要環(huán)節(jié)。在IC制造領域100%掩膜版需貼Pellicle，在IC封裝領域90%以上需貼膜，在LED領域80%以上需貼膜。該貼膜設備一直國外公司壟斷，國內廠家沒有提供，國外采購全自動貼膜設備需100萬美元左右。團隊具備研發(fā)制造該設備的能力，貼膜精度±0.1mm,且有設備正式在產(chǎn)線運營，制造成本可節(jié)約90%以上。 3） 廠房建設關鍵技術 團隊對MEMS及其掩膜工廠工藝設備廠務設計有豐富經(jīng)驗，掌握高等級防微震廠房結構和設備平臺的設計施工，可達到VC-D級技術標準，滿足納米級生產(chǎn)技術要求。 【技術優(yōu)勢】 （1）掌握了高性價比掩膜版量產(chǎn)的關鍵核心技術，包括部分裝備的國產(chǎn)化，解決“卡脖子”技術難題，量產(chǎn)線建設成本節(jié)約30%以上； （2）具備28 nm及以下技術節(jié)點掩膜版設計開發(fā)能力和驗證平臺，驗證周期可縮短3倍； （3）擁有一支20多年以上掩膜版量產(chǎn)、研發(fā)和銷售經(jīng)驗的隊伍，成熟的企業(yè)管理經(jīng)驗，保證企業(yè)穩(wěn)步成長，確保投資風險可控。 【合作方式】 股權投資合作共建或政府孵化+中試線。

本發(fā)明公開了一種摩擦制備柔性透明導電膜的方法，該方法將 聚乙烯膜或者聚氯乙烯膜平鋪在基板上，再將納米石墨粉按 0.005～ 0.02 毫克/平方厘米均勻鋪在聚乙烯或者聚氯乙烯膜上，然后將納米石 墨粉在聚乙烯膜或者聚氯乙烯膜上借助基板進行摩擦，使納米石墨粉 在聚乙烯膜或者聚氯乙烯膜表面形成的微導電溝道，得到柔性、透明 的導電膜。本發(fā)明具有工藝周期短，實施便捷的特點。產(chǎn)品與目前市 場上的透明導電 ITO 玻璃相比，表現(xiàn)出

成果簡介在本項目中運用流體力學理論和動力學方程提出了一種單流體多組元模型，它包含了一個可以適用于多組元的模型框架， 可以處理不同生物膜菌種相互之間的動力學作用、 內部的相互轉化、 群體的消散和混合， 整個材料系統(tǒng)近似為不可壓縮， 因此當一個種群的體積分數(shù)增長時， 一個或多個其他的種群必須相應的以體積分數(shù)的形式轉化為增長的種群。 我們還把這個二元模型變?yōu)楦氈碌娜Ｐ停?除包含等效溶劑， 還將包含 EPS 和細菌兩種組分， 抗菌劑濃度和營養(yǎng)素也被更細致地建模。 并且使用二元和三元模型研

本發(fā)明公開了一種擠壓涂布機膜厚控制方法，包括以下步驟： 在擠壓涂布機更換新的漿料正式生產(chǎn)之前，進行一次預生產(chǎn)過程，測 量記錄有關參數(shù)；根據(jù)獲得的一系列濕料、干料厚度、及涂布間隙寬 度的樣本數(shù)據(jù)，采用降噪自編碼的方法訓練建立兩個神經(jīng)網(wǎng)絡模型； 根據(jù)獲得的神經(jīng)網(wǎng)絡模型，由目標干料厚度預測所需濕料的厚度和涂 布間隙的控制寬度；生產(chǎn)過程中實時監(jiān)控濕料的厚度，采用神經(jīng)網(wǎng)絡 模型預測方法，及時調整涂布間隙的控制寬度，以保證濕料厚

本發(fā)明屬于柔性膜收卷工藝相關領域，并公開了一種柔性膜收 卷質量視覺檢測方法，包括:針對收卷裝置來布置相應的視覺檢測裝 置及檢測驅動裝置;在收卷過程中對料卷端面執(zhí)行成像檢測，并獲取 不同焦距下的端面圖像，直至收卷完畢;在收卷完成時構建適當算法 求得料卷端面的特征點深度方差，并利用該深度方差來作為量化指標 評價成卷質量。本發(fā)明還公開了相應的實時糾偏處理方式。通過本發(fā) 明，不僅實現(xiàn)了柔性膜收卷的高精度質量檢測，還提出了一種柔性膜 成卷效果量化評價指標，并適用于各類成卷設備的應用場合。