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高等教育領(lǐng)域數(shù)字化綜合服務平臺
3D數(shù)字化人體解剖教學系統(tǒng)
系統(tǒng)包含單機版和網(wǎng)絡版兩部分，無論有無網(wǎng)絡都可以正常使用，既包含虛擬3D數(shù)字化內(nèi)容，又有3D實物標本解剖，內(nèi)容翔實、資源豐富，完全滿足教學需求，軟件采取健康標準人體連續(xù)斷層真實數(shù)據(jù)三維重建而來，必須包含男、女兩套完整模型，局部解剖模型不同于男女模型，是另外一套數(shù)據(jù)。須結(jié)合真實醫(yī)學數(shù)據(jù)精確的重建人體，系統(tǒng)解剖和局部解剖包含至少10000個以上不可再分的解剖結(jié)構(gòu)。解剖結(jié)構(gòu)名詞中英文對照。
包含系統(tǒng)解剖、局部解剖、斷層解剖（男性整體斷層、女性盆腔斷層、艾滋病病例斷層、3D斷層）、中醫(yī)穴位、視頻庫、影像解剖、圖片庫七大模塊。
上海蕭迪生物科技有限公司
2023-02-08
Shining3D-Metric三維攝影測量系統(tǒng)
產(chǎn)品詳細介紹Shining3D-Metric攝影測量系統(tǒng)-三維攝影測量 先臨三維自主研發(fā)的Shining3D-Metric 攝影測量系統(tǒng)，性能指標達到國際同類產(chǎn)品水平，是大范圍三維測量的必備工具，可對中型或大型工件（幾米甚至幾十米）的快速三維測量和檢測；特性 1、快速三維測量與檢測- Shining3D-Metric 攝影測量系統(tǒng)能快速計算出工件表面標志點的精確三維空間坐標，形成一個全局坐標系統(tǒng)，既可與CAD模型進行誤差比對，實現(xiàn)大型工件快速三維檢測；2、測量結(jié)果精確- 控制全局精度，搭配各種三維掃描儀使用，可進一步降低拼接的累計誤差；產(chǎn)品規(guī)格（Shining3D-Metric攝影測量系統(tǒng)）產(chǎn)品型號 Shining3D-Metric-N 三維測量精度 ≤0.10mm/3m 測量范圍 0.1×0.1×0.1~10×10×10m3 工作環(huán)境 -20°~100°C 參考標準 VDI 2634/1 相機標定方式 自標定 匹配方式 編碼點全自動匹配 數(shù)據(jù)傳輸方式 閃存卡或無線傳輸 相機規(guī)格 單反相機，28mm鏡頭，≥1200萬像素 拼接方式 標志點全自動拼接，手動選點拼接 產(chǎn)品型號 Shining3D-Metric-H 三維測量精度 ≤0.10mm/4m 測量范圍 0.1×0.1×0.1~50×50×50m3 工作環(huán)境 -20°~100°C 參考標準 VDI 2634/1 相機標定方式 自標定 匹配方式 編碼點全自動匹配 數(shù)據(jù)傳輸方式 閃存卡或無線傳輸 相機規(guī)格 單反相機，28mm鏡頭，≥1200萬像素 拼接方式 標志點全自動拼接，手動選點拼接 更多三維攝影測量系統(tǒng)，可見：http://www.shining3dscanner.cn/zh-cn/product_3dmetric.html
先臨三維科技股份有限公司
2021-08-23
鯤鵬臺式機主板（型號：D920S10）
華為鯤鵬臺式機主板是基于華為鯤鵬920處理器開發(fā)的辦公應用主板，鯤鵬臺式機主板內(nèi)兼容業(yè)界主流內(nèi)存、硬盤、網(wǎng)卡等硬件，支持Linux桌面操作系統(tǒng)，提供機箱、散熱、供電等參考設(shè)計指南，具有高性能、接口豐富、高可靠性、易用性等特點。
高性能
選用華為鯤鵬920處理器，芯片集成橋片、以太控制器、SAS控制器以及PCIe控制器，具有超強計算能力。
高可靠
CPU支持豐富的RAS特性，支持帶ECC校驗內(nèi)存，滿足服務器級別可靠性應用
高能效
高效率的單板VRD電源，降低DC轉(zhuǎn)換損耗。支持系統(tǒng)散熱風扇智能調(diào)速以及CPU智能調(diào)頻，節(jié)能降耗
技術(shù)規(guī)格
組件
規(guī)格
主板型號
D920S10
處理器型號
1個鯤鵬920處理器，4/8核，2.6Ghz
本地存儲
6*SATA 3.0硬盤接口，支持2個M.2 SSD插槽
內(nèi)存插槽
4個DDR4-2666 UDIMM插槽，最大容量64GB
PCIe擴展
支持1個PCIe3.0 X16、1個PCIe3.0 X4以及1個PCIe3.0 X1插槽
板載網(wǎng)絡
支持2個板載網(wǎng)卡，支持GE網(wǎng)口或光口
USB
支持4個USB 3.0，4個USB 2.0
華為技術(shù)有限公司
2022-09-21
鯤鵬臺式機主板（型號：D920L11）
鯤鵬臺式機主板D920L11選用單路華為鯤鵬920處理器，主頻支持2.2G/2.6/3.0GHz，提供4C/8C/12C系列配置，支持Linux桌面操作系統(tǒng)，具有極致性能、極致體驗、擴展豐富等特點。
極致性能
搭載鯤鵬920高性能處理器，主頻支持2.2/2.6/3.0GHz，提供4C/8C/12C系列配置支持雙通道內(nèi)存，支持最高速率2666MHz，最大支持64GB
極致體驗
支持手機超級快充，本地喇叭，安卓生態(tài)原生支持辦公應用/影音播放/游戲娛樂等應用流暢體驗
豐富擴展
3*PCIe3.0；2*GE；1*M.2SSD接口；8*USB；4*SATA3.0硬盤接口
技術(shù)規(guī)格
組件
規(guī)格
主板型號
D920L11
處理器型號
1個鯤鵬920處理器，支持2.6GHz，提供4/8/12核配置
本地存儲
4*SATA 3.0硬盤接口，支持1個M.2 SSD插槽
內(nèi)存插槽
2個DDR4-2666 UDIMM/RDIMM插槽，最大容量64GB
PCIe擴展
支持1個PCIe 3.0 x16、1個PCIe 3.0 x4以及1個PCIe 3.0 x1插槽
板載網(wǎng)絡
支持2個板載網(wǎng)卡，支持GE網(wǎng)口或光口
USB接口
支持4個USB 3.0，4個USB 2.0，1個USB Type-A充電接口
華為技術(shù)有限公司
2022-09-21
Epson SureLab D880 干式影像輸出設(shè)備
愛普生微壓電打印頭
新一代愛普生UltraChromeD6r-S墨水
更廣泛的介質(zhì)適用尺寸3.5"-A4
一鍵彈出卷紙單元，實現(xiàn)輕松上紙
17秒首張快速輸出模式*1
輸出速度360張/小時*1（4"x6"inch）
最高分辨率：1440x720dpi
最小墨滴：2.5pl
打印速度：標準模式：10s(4'x6')
噴頭技術(shù)：Epson微壓電打印頭
顏色：青色，洋紅色，黃色，淡青色，淡洋紅色，黑色
墨水：愛普生“活的色彩D6r-S”染料墨水
愛普生（中國）有限公司
2022-09-27
高性能3D打印高分子材料
博理3D打印高分子材料的研發(fā)與生產(chǎn)，解決了傳統(tǒng)光固化3D打印材料性能單一的應用局限性問題，從分子設(shè)計和合成出發(fā)，實現(xiàn)了材料性能的強度可調(diào)、硬度可調(diào)、顏色可調(diào)、韌性可調(diào)等主要技術(shù)指標。目前博理已研發(fā)5000多種材料配方，可替代大部分傳統(tǒng)的塑料類制品，為3D打印打開了廣泛的應用場景，開啟了“3D打印+行業(yè)應用”新局面。
ELASTO 彈性體材料，具有優(yōu)異的力學性能和耐彎折疲勞性能，是一種快回彈性的3D打印材料，通過歐盟RoHS和美國加州CP-65檢測認證，具有良好的安全性，被大量應用于鞋中底、汽車坐墊、防震頭盔、文物囊匣、防震晶格等領(lǐng)域；
PLASTO 塑性體材料，一種具有高延伸率和卓越柔韌性的類聚丙烯樹脂，它可用來堅韌性部件，廣泛用于汽車工業(yè)、醫(yī)療器械、消費電子、家居用品等領(lǐng)域；
醫(yī)療專用材料，醫(yī)療專用系列材料具有更高成型精度，更高強度，符合醫(yī)療等相關(guān)安全標準，在齒科模型等領(lǐng)域有著廣泛的應用；
定制材料，博理可根據(jù)用戶的產(chǎn)品性能要求定制研發(fā)相應的材料。
蘇州博理新材料科技有限公司
2022-07-19
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低 C/N 比城市污水連續(xù)流脫氮除磷工藝與過程控制技術(shù)
針對國內(nèi)外低 C/N 城市污水處理中氮磷難以達標及能耗高的技術(shù)難題，本成果經(jīng)過 10 余年的潛心研究與工程實踐，提出了 1 個原創(chuàng)理論與方法，突破了 3 項新技術(shù)應用的瓶頸，開發(fā)并集成了 4 個低 C/N 比城市污水脫氮除磷改良工藝及過程控制技術(shù)，共獲得 28 項授權(quán)的發(fā)明專利，發(fā)表論文 100 余篇 (SCI50 余篇 )，出版 2 本專著，獲 2 次全國優(yōu)秀博士學位論文提名獎，2 項國家級火炬計劃項目。本成果為低 C/N 比城市污水連續(xù)流脫氮除磷提供了多角度、全方位的綜合性解決方案，填補了我國在此項技術(shù)研究領(lǐng)域的空白，形成了具有我國自主知識產(chǎn)權(quán)的污水脫氮除磷技術(shù)。
北京工業(yè)大學
2021-04-13
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超晶格結(jié)構(gòu)的納米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制備方法
簡介：本發(fā)明提供一種超晶格結(jié)構(gòu)的納米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制備方法,屬于材料表面技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明該超硬膜是由電弧離子鍍的納米晶體相Cr2N和磁控濺射鍍的非晶體相WC層交替沉積而成,并且,超晶格的調(diào)制周期為10～20nm,Cr2N單層和WC單層的厚度分別為8～14nm和2～6nm。本發(fā)明的優(yōu)點在于:Cr2N層與WC層交替分布實現(xiàn)了Cr-N基膜成分多元化和結(jié)構(gòu)多層化,解決了抗氧化性較強的Cr-N基膜獲得超高硬度的難題,同時非晶WC層進一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蝕性能,滿足不能熱處理的
安徽工業(yè)大學
2021-04-14
低C/N比城市污水連續(xù)流脫氮除磷工藝與過程控制技術(shù)
北京工業(yè)大學
2021-04-14
TiO2/g-C3N4納米復合物用于可見光產(chǎn)氫
課題組依據(jù)共價鍵、靜電吸引力、范德華力三種不同作用力類型，構(gòu)筑了三類TiO 2
南方科技大學
2021-04-14