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本發(fā)明公開(kāi)了一種基于磁納米粒子一次諧波幅值的成像方法。采用交流磁化強(qiáng)度一次諧波幅值實(shí)現(xiàn)磁納米濃度成像，只需在一個(gè)方向施加高頻正弦磁場(chǎng)并在不同方向提供掃描磁場(chǎng)便可實(shí)現(xiàn)一維、二維以及三維空間的掃描；用低頻三角波掃描磁場(chǎng)或低頻正弦波掃描磁場(chǎng)控制空間區(qū)域零磁場(chǎng)點(diǎn)的位置，求解出不同空間位置的磁納米粒子的一次諧波幅值，最終實(shí)現(xiàn)磁納米濃度成像，從而避免了通過(guò)改變直流電源的大小來(lái)移動(dòng)零磁場(chǎng)點(diǎn)掃描空間，有效提高了磁納米粒子成像的

本發(fā)明公開(kāi)了一種基于矢量變換與信號(hào)濾波的定子磁鏈計(jì)算方法。采用交流電動(dòng)機(jī)定子磁鏈的電壓模型，對(duì)輸入的反電動(dòng)勢(shì)矢量進(jìn)行幅值和相位變換直接得到原始的定子磁鏈?zhǔn)噶浚缓蠼?jīng)過(guò)信號(hào)濾波與補(bǔ)償處理得到期望的定子磁鏈。分別設(shè)計(jì)了基于可編程的低通濾波器(LPF)和帶通濾波器(BPF)的矢量變換方案，并且根據(jù)計(jì)算磁鏈幅值盡快收斂于給定磁鏈值的原則得到優(yōu)化函數(shù)，對(duì) LPF 與 BPF 的優(yōu)點(diǎn)進(jìn)行組合，得到性能最優(yōu)的磁鏈計(jì)算方法。進(jìn)一步的

本發(fā)明公開(kāi)了一種基于體表反向場(chǎng)的內(nèi)外傷漏磁檢測(cè)區(qū)分方法及裝置。該方法的特征為：將被檢測(cè)導(dǎo)磁構(gòu)件磁化，在上述被磁化導(dǎo)磁構(gòu)件體表內(nèi)施加反向磁感應(yīng)場(chǎng) B_反，與體內(nèi)原有磁感應(yīng)場(chǎng)B_原發(fā)生矢量疊加抵消，在體表內(nèi)形成零磁感應(yīng)區(qū)域，使得出現(xiàn)在該體表內(nèi)區(qū)域的缺陷(也即外傷)因無(wú)漏磁場(chǎng)產(chǎn)生而無(wú)法被探測(cè)到；而出現(xiàn)在非體表零磁感應(yīng)區(qū)的缺陷均有漏磁場(chǎng)產(chǎn)生而可以被探測(cè)到，包括內(nèi)、外傷；然后采用磁敏元件分別布置靠近于零磁感應(yīng)區(qū)和非零磁感應(yīng)

本發(fā)明提供一種基于磁表征的鐵磁性材料表面輪廓檢測(cè)識(shí)別方法，該方法先將磁敏元件以 0-5<i>mm</i>的提離距離靠近待檢鐵磁性材料表面，拾取近表空氣域內(nèi)磁場(chǎng)特征，并轉(zhuǎn)化為電壓信號(hào)；再采用電壓信號(hào)幅值比較識(shí)別判斷法，或者檢測(cè)信號(hào)波形圖方法進(jìn)行表面輪廓識(shí)別判斷。本發(fā)明為非接觸式提離檢測(cè)方式，可以實(shí)現(xiàn)在線(xiàn)輪廓檢測(cè)識(shí)別；檢測(cè)手段能夠直接穿透灰塵及污垢等物質(zhì)而不受干擾，不需要高的待檢測(cè)表面清潔度及檢測(cè)工況環(huán)境光線(xiàn)要求。該方法原理是基于鐵磁性材料在加工完后的剩磁在地磁場(chǎng)作用下的磁表征現(xiàn)

產(chǎn)品詳細(xì)介紹產(chǎn)品簡(jiǎn)介：　　12MHz核磁巖心分析儀，主要用于常規(guī)與非常規(guī)巖心的孔滲飽測(cè)試，可用于低孔低滲巖樣測(cè)試評(píng)價(jià)。　　MicroMR12產(chǎn)品身軀小巧，結(jié)構(gòu)緊湊，是具有世界先進(jìn)水平的臺(tái)式核磁共振巖心分析儀；可滿(mǎn)足石油勘探領(lǐng)域的孔隙度、滲透率、飽和度、可動(dòng)流體飽和度、束縛流體飽和度等相關(guān)分析測(cè)試，測(cè)量結(jié)果客觀(guān)真實(shí)、精準(zhǔn)度高、重復(fù)性好，儀器性能穩(wěn)定，性?xún)r(jià)比高。技術(shù)指標(biāo)：1、磁體類(lèi)型：永磁體；2、磁場(chǎng)強(qiáng)度：0.28±0.05T，儀器主頻率：12MHz；3、探頭線(xiàn)圈直徑：25.4mm；應(yīng)用解決方案：1) 常規(guī)巖心孔隙結(jié)構(gòu)及流體飽和度；2) 非常規(guī)巖心（致密巖心，泥巖，頁(yè)巖）孔隙結(jié)構(gòu)及流體飽和度；3) 中大尺寸巖樣含油含水分布、油水含量測(cè)試；應(yīng)用案例一：玻璃珠孔隙模型測(cè)試（不同飽和度下T2弛豫圖譜分析）應(yīng)用案例二：核磁共振T2圖譜與巖樣孔喉分布注：儀器外觀(guān)如有變動(dòng)，以最新款為準(zhǔn)。

華中科技大學(xué)X射線(xiàn)應(yīng)力測(cè)定儀采購(gòu)項(xiàng)目競(jìng)爭(zhēng)性磋商

高質(zhì)量鉬系硫族化合物單層材料的CVD生長(zhǎng)一直受限于難以控制的化學(xué)動(dòng)力學(xué)條件，其中最為重要的是對(duì)于Mo蒸汽釋放的合理調(diào)控。近日，課題組在傳統(tǒng)的MoO 3

一種網(wǎng)格狀CuxS/Cu2O，x＝1.75～2復(fù)合類(lèi)金字塔薄膜的制備方法，具體作法是：將方塊面電阻為10-14歐的FTO，依次用HCl溶液、洗衣粉溶液、異丙醇溶劑超聲洗凈，晾干；取含CuSO4和乳酸的混合溶液，以FTO為工作電極，鉑片為對(duì)電極，采用電壓法沉積；沉積后取出FTO，清洗烘干得Cu2O類(lèi)金字塔薄膜的FTO；再將其放入Na2S溶液中處理，清洗烘干即在FTO上得網(wǎng)格狀CuxS/Cu2O復(fù)合類(lèi)金字塔薄膜。該方法設(shè)備簡(jiǎn)單，能耗低，適合大規(guī)模生產(chǎn)；制得物對(duì)太陽(yáng)光吸收波長(zhǎng)范圍寬，作為太陽(yáng)能電池材料具有應(yīng)用前景；可作為模版和反應(yīng)介質(zhì)直接合成其它具有窄禁帶寬度的類(lèi)金字塔形化合物，作為太陽(yáng)能電池材料。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 1.      主要參數(shù)： ★掃描方式：激光手持照相式 ★掃描技術(shù)：激光線(xiàn)網(wǎng)格掃描技術(shù) 幀掃描區(qū)域：250mm×250mm 景深：250mm（自動(dòng)） 工作距離：300mm ★掃描速率： 300000次/秒 掃描分辨率：0.100（毫米） ★測(cè)量精度：0.03 mm ★體積精度：0.020 + 0.100（毫米/米） 體積精度（結(jié)合DigiMetric）：0.020 + 0.025（毫米/米） 測(cè)量范圍（物件尺寸）：0.1 ～6米，可擴(kuò)展 傳輸方式： USB3.0 工作溫度：-10 - 40℃ 工作濕度：10 - 90 % 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)配置與功能 數(shù)據(jù)采集傳感器：高速、高精密工業(yè)級(jí)相機(jī)2臺(tái) ★內(nèi)置微慣性傳感器，實(shí)時(shí)輸出設(shè)備位姿； ★測(cè)量光源：10束交叉激光線(xiàn)，激光級(jí)別ClassII(人眼安全)，波長(zhǎng)大于600納米 計(jì)算機(jī)系統(tǒng)：支持windows 7，32位和64位操作系統(tǒng)，支持內(nèi)存16G以上 拼接方式：系統(tǒng)整合“專(zhuān)業(yè)模式”全自動(dòng)標(biāo)志點(diǎn)拼接模塊 全局誤差控制方式：GREC Pro全局誤差控制 ★掃描方式：FLESA可變點(diǎn)距掃描 ★使用方便：整個(gè)過(guò)程全部手持完成，無(wú)需三腳架等支撐裝置 所測(cè)量的物體表面可不做任何形式（如噴白）的預(yù)先處理 防抖設(shè)計(jì)：采用先進(jìn)的防抖動(dòng)算法，防止掃描過(guò)程中人為的抖動(dòng)對(duì)誤差的影響 自動(dòng)探測(cè)被掃描物體顏色材質(zhì)，從而自動(dòng)調(diào)節(jié)激光亮度及CCD曝光 可一鍵自動(dòng)過(guò)濾掃描背景數(shù)據(jù)，自動(dòng)刪除雜點(diǎn)及過(guò)濾不良點(diǎn)云數(shù)據(jù) 軟件界面實(shí)時(shí)捕捉靜態(tài)圖像，一鍵截圖功能 ★碳纖維材質(zhì)標(biāo)定板，輕量化，抗壓耐高溫，不易變形，非石英玻璃材質(zhì)。雙面標(biāo)定，白平衡標(biāo)定功能，有效減少掃描噪聲 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)軟件功能 ★全中文軟件界面 ★自適應(yīng)形面掃描模塊 自動(dòng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)參數(shù)，自適應(yīng)各種材質(zhì)/顏色表面的不同掃描對(duì)象，無(wú)需手動(dòng)調(diào)節(jié)； FLESA可變點(diǎn)距掃描，在同一次掃描中，可對(duì)點(diǎn)距進(jìn)行靈活設(shè)置和改變，同時(shí)滿(mǎn)足高速掃描以及精細(xì)掃描的需求 ★自動(dòng)拼接模塊 智能標(biāo)志點(diǎn)識(shí)別技術(shù)：系統(tǒng)自動(dòng)跟蹤識(shí)別標(biāo)志點(diǎn)； 慣性—光學(xué)混合式傳感器定位技術(shù)，實(shí)時(shí)將數(shù)據(jù)自動(dòng)配準(zhǔn)到同一坐標(biāo)系； GREC Pro全局誤差控制模塊，可對(duì)拼接后的誤差進(jìn)行全局控制； ★全局框架掃描模塊 全局框架掃描技術(shù)，對(duì)框架點(diǎn)累積誤差進(jìn)行全局控制； 兼容DigiMetric系統(tǒng)，搭載全局?jǐn)z影測(cè)量技術(shù)可將掃描范圍擴(kuò)展至幾十米； ★后處理模塊 掃描數(shù)據(jù)后，可進(jìn)行點(diǎn)云噪聲處理及修剪 內(nèi)置友好的網(wǎng)格處理控制參數(shù)人機(jī)交互界面，可對(duì)去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等網(wǎng)格處理參數(shù)進(jìn)行設(shè)置 自動(dòng)生成STL三角面 自動(dòng)對(duì)三角網(wǎng)格數(shù)據(jù)進(jìn)行補(bǔ)洞、去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等處理 數(shù)據(jù)輸入輸出 導(dǎo)出結(jié)果為ASC，STL，OBJ，OKO等格式數(shù)據(jù)輸出接口廣泛,測(cè)量結(jié)果可與CATIA、Geomagic Studio、Imageware等逆向工程軟件自由交換數(shù)據(jù) 配備三維數(shù)據(jù)管理系統(tǒng)  1套 采用三維引擎實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型、圖片和文字的顯示； ★采用Access數(shù)據(jù)庫(kù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)對(duì)象的樹(shù)狀管理和從圖片上選擇區(qū)域進(jìn)行切換等功能，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)三維數(shù)據(jù)、圖片和文字的有效管理； ★能對(duì)三維數(shù)據(jù)進(jìn)行多層次樹(shù)狀結(jié)構(gòu)管理，實(shí)現(xiàn)從大場(chǎng)景到局部細(xì)節(jié)的有效管理； ★支持對(duì)三維模型、圖片和文字的綜合管理，并能相互切換； 支持從圖片上選擇區(qū)域切換，用戶(hù)可以隨心所欲的瀏覽對(duì)象的每一個(gè)細(xì)節(jié)； ★截取高清晰的光照?qǐng)D信息； ★實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型的分析如距離等進(jìn)行量測(cè)，得到最準(zhǔn)確的測(cè)繪資料； 數(shù)據(jù)庫(kù)基于Windows XP操作系統(tǒng)； 三維模型的支持格式為： STL，OBJ，VRML，IGES，OKO； 圖片支持的格式為：JPG，BMP； 文字支持的格式為：html； ★素材支持：配備一個(gè)3d素材庫(kù)，素材庫(kù)數(shù)量須大于2萬(wàn)個(gè)，素材涵蓋人物、卡通、教育、建筑、時(shí)尚、玩具、動(dòng)物、植物、家居、工具、動(dòng)漫游戲等類(lèi)別，素材擁有25個(gè)以上特色專(zhuān)題，每個(gè)專(zhuān)題包含至少5個(gè)以上同類(lèi)別優(yōu)質(zhì)素材。素材庫(kù)包含網(wǎng)站及APP，APP同步支持安卓及IOS下載，素材庫(kù)系統(tǒng)須取得電腦終端與iphone移動(dòng)終端及Android移動(dòng)終端《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書(shū)》。 2. 提供生產(chǎn)廠(chǎng)商對(duì)本項(xiàng)目的原廠(chǎng)項(xiàng)目授權(quán)委托書(shū)及售后服務(wù)承諾書(shū)原件。（須加蓋生產(chǎn)廠(chǎng)商單位公章） 3. 投標(biāo)單位配備的3D模型庫(kù)需提供《軟件著作權(quán)登記證書(shū)》。（復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章） 4. 投標(biāo)人所投3D掃描儀具有中美青年創(chuàng)客大賽指定3D掃描品牌證書(shū) 第1條所列產(chǎn)品參數(shù)為招標(biāo)基礎(chǔ)要求，加★部分為必須滿(mǎn)足項(xiàng)，投標(biāo)產(chǎn)品的參數(shù)值應(yīng)符合或高于本條要求。投標(biāo)單位須提供投標(biāo)產(chǎn)品的印刷彩頁(yè)，并加蓋生產(chǎn)廠(chǎng)商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)參數(shù)。 第2條項(xiàng)目授權(quán)委托書(shū)及售后服務(wù)承諾書(shū)須提供原件并加蓋生產(chǎn)廠(chǎng)商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第3條《軟件著作權(quán)登記證書(shū)》須提供復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第4條要求為招標(biāo)附加要求，投標(biāo)產(chǎn)品如符合要求，可加5分，如不符合，須減5分。