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產品詳細介紹檢測方法：ISE法執行標準《水運工程混凝土試驗規程》JTJ 270-98《混凝土結構耐久性設計規范》GB/T 50476-2008《海砂混凝土應用技術規范》JGJ206-2010測試指標：氯離子濃度、質量百分比產品型號：NJCL-C生產廠家：北京耐久偉業科技有限公司產品介紹氯離子是誘發鋼筋銹蝕的重要因素，為了避免鋼筋過早銹蝕，混凝土原材料中氯離子含量的控制相當嚴格。我國相關規范明確要求混凝土在選配砂子、骨料、水泥、外加劑、拌和水等混凝土原材料的時候，必須進行氯離子含量的測試，從根本上避免將過量氯離子帶入混凝土中。結構混凝土中氯離子含量的測試，對于結構安全性的評估起到很大的作用，同時為舊結構的改造和修補提供極具參考價值的依據。本儀器遵循《混凝土結構耐久性設計規范》GB/T 50476-2008、《海砂混凝土應用技術規范》JGJ206-2010、《水運工程混凝土試驗規程》JTJ 270-98等相關標準制造，采用離子選擇電極法（Ion Selective Electrode, ISE法），通過配備的專業軟件及化學抗干擾試劑在室溫下快速測定混凝土、砂石子、水泥、拌合水等無機材料的水溶性氯離子含量，從而達到防控混凝土鋼筋發生過早腐蝕的目的。本儀器重量輕，機身小巧，便于用戶攜帶，適合現場檢測。氯離子濃度量測范圍10-5～10-1 M（mol?L-1）或0.0001%～30.00%。產品特點1.可測定混凝土拌合物、硬質混凝土、砂石子、外加劑、水等材料的水溶性氯離子含量，直接輸出以摩爾濃度和百分比為單位的結果；2.內置標準公式，直接計算混凝土拌合物的氯離子含量3.特有抗離子干擾劑，去除氰、氨等離子的氧化效應以及錳、鉛等金屬離子的絡合效應4.大屏幕液晶直顯，即時打印，一鍵完成測試，使用操作簡易5.重量輕，機身小巧，便于用戶攜帶，適合現場檢測6.可選配微型打印機，即使不通過電腦也可立時打印7.獨有自診斷功能，獨創上位機分析軟件8.大容量數據存儲，可存儲100個測試數據，數據連續記錄，安全可靠測試對象：海砂、普通砂、新拌混凝土、硬質混凝土、水泥、石子、外加劑、混凝土拌合水及其他水溶性氯離子。檢測原理NJCL-C型氯離子含量快速測定儀，采用離子選擇電極法（ion selective electrode,ISE）ISE法,快速測定混凝土、砂石子、外加劑等水溶性物質的氯離子含量。氯離子濃度量測范圍10-5～10-1 M（mol?L-1）mol/L或0.0001%～30.00%。設備操作簡便，可用于現場檢測，數據準確快速，全自動數據處理。技術參數?工作電壓：DC 3.6V?測量精度：＜10%?數據存儲量：＞100?PC通訊參數：波特率 2400?采集時間：≤3min? 待機時間：＞24 hr?整機重量：240 g?液晶尺寸：128*128測試步驟1. 試樣稱重，加入適量的蒸餾水或萃取液2. 標定電極并測量待測溶液3. 打印測量數據測試結果1.氯離子濃度Clˉ（mol?L-1）2.氯離子百分含量（％）3.混凝土氯離子百分含量（%）測量范圍：0.0001%～30.00% （Clˉ）、10-5～10-1 M（mol?L-1）準確度：讀數的±10％（氯離子）操作溫度：0℃～40℃電源：1）3.6V適配器；2）鋰電池電池壽命：12個月（每天使用8小時）儀器規格主機尺寸：180*70*30（mm）主機重量：0.4 kg主機外形尺寸：370*300*180（mm）總機重量：5 kg系統配置1.NJCL- C氯離子含量快速測定儀2.國產氯離子選擇電極&甘汞參比電極3.標定溶液，抗離子干擾劑，化學試劑4.外置微型打印機（選配）5. 充電器6.上位機分析軟件

執行標準：GB/T 50082-2009，JTG 3420—2020 本方法適用于測定混凝土試件在水凍水融條件下，以經受的快速凍融循環次數來表示的混凝土抗凍性能。北京耐爾得公司研發的NELD-FC810型混凝土快速凍融試驗機，經過用戶長期使用，確認產品具有很高的可靠性，為混凝土長期性能和耐久性能試驗提供重要的質量保證，能滿足相關行業的研究院所、大專院校、設計、施工、質檢等部門混凝土快速抗凍測試的需要。

執行標準：GB/T 39701-2020 NELD-FAW137型粉煤灰快速定氨儀，是中建西部建設股份有限公司與耐爾得智能科技有限公司聯合開發的快速測量粉煤灰氨氣釋放的產品。試驗采用粉煤灰在堿性溶液中的蒸餾實現氨氣的釋放，后續進行酸性吸收，滴定后計算粉煤灰中的氨含量。 設備結構緊湊，試驗準確快速，操作性能便捷，界面友好。用戶可以使用預定義或者自定義參數進行測試，滿足不同測試需求。

執行標準：JTJ 270-2006 離子選擇電極法（Ion Selective Electrode, ISE），ISE法是當前測試氯離子含量最快速的方法。該方法將電極標定后，可以在3分鐘內測試混凝土、砂石子、水泥、外加劑等無機材料的水溶性氯離子含量。 北京耐爾得研發的NELD-CL420型氯離子含量快速測定儀，氯離子濃度量測范圍1.0×10-1～1.0×10-5mol/L。設備操作簡便，測試準確快速，數據可隨時打印。

項目成果/簡介:水成膜膠體泡沫是將聚合物分散在水中，加入發泡劑并在氮氣的作用下發泡形成的復雜混合體系。經過一段時間后，在泡沫液膜內，聚合物間相互交聯形成三維網狀結構，構成水成膜膠體泡沫的剛性骨架。防滅火水成膜膠體泡沫既具有凝膠的性質，又具有泡沫的性質，兼有注三相泡沫（注泥漿、注氮氣、注兩相泡沫）、注凝膠、注復合膠體的優點，同時又克服了各自的不足，從而大大提高其防滅火效果。

納米金剛石的金剛石晶粒尺寸在100nm以下, 表面極其光滑平整, 摩擦系數極低(可小于0.05), 因此是十分理想的工具(模具)涂層和光學涂層材料, 同時在MEMs (微機電系統)和高性能大屏幕(場發射)顯示技術等領域也有非常好的應用前景。 本項目組采用微波等離子體CVD和 DC Arc Plasma Jet CVD兩種工藝方法, 在玻璃, 硅, 鉬和硬質合金等襯底材料上成功制備了納米金剛石膜。 在玻璃襯底上制備的納米金剛石膜晶粒平均尺寸小于100 nm, 表面粗糙度小于Ra 5nm, 采用納米力學探針測量的顯微硬度高達8000kg/mm2, 在可見及近紅外區域具有非常好的透過特性, 紫外喇曼光譜(在新加坡國立南洋理工大學測試)顯示薄膜幾乎為純凈的金剛石納米晶粒組成。在其它襯底上的納米金剛石膜的組織結構和性能測試正在進行之中。 納米金剛石膜涂層硬質合金工具: 其中最有前景的是納米金剛石膜涂層硬質合金微型鉆頭; 納米金剛石膜涂層光學應用: 包括諸如”永不磨損鉆石涂層玻璃表殼”和”永不磨損鉆石涂層玻璃眼鏡片”, 及ZnS, Ge, Si等重要紅外軍事光學材料的抗(雨滴、沙粒)沖刷涂層; 微機電系統(MEMs)的微機械構件: 如微型齒輪, 軸, 軸承等; 高性能大屏幕顯示器件

水成膜膠體泡沫是將聚合物分散在水中，加入發泡劑并在氮氣的 作用下發泡形成的復雜混合體系。經過一段時間后，在泡沫液膜內， 聚合物間相互交聯形成三維網狀結構，構成水成膜膠體泡沫的剛性骨架。防滅火水成膜膠體泡沫既具有凝膠的性質，又具有泡沫的性質， 兼有注三相泡沫（注泥漿、注氮氣、注兩相泡沫）、注凝膠、注復合 膠體的優點，同時又克服了各自的不足，從而大大提高其防滅火效果。

本發明涉及以天然成分為原料，開發一種能夠抑菌防腐和延長 肉類產品保鮮期，具有一定粘稠度，可與肉類產品表面結合為一體的多功能液 態可食保鮮膜，噴涂于食品表面，對環境常在菌具有顯著的抑制作用，無毒無 害，且兼有保健和防偽（隱形標簽）作用，已獲得國家發明專利。 技術優點或者效益預測:肉雞屠宰后按部位進行分割，噴涂（或浸蘸）保鮮 膜液后裝入食品袋后密封，室溫冷卻編號，置于微溫(30~~40℃)和常溫 (20~~25℃)2 種條件下貯藏的保質期可分別達到 3、7d。同時可標識產品生產廠 家。有效防止肉類產品加工過程二次污染，從而延長保鮮期，同時兼有產品防 偽標識作用。應用前景十分廣闊。 

該成果是原有的鋁反射激光全息防偽末的升級替換品。這種薄膜結構簡單，僅有信 息層和基底層兩層組成。全息圖像以激光全息技術拍攝并用激光雕刻和電鑄手段，以光 柵條紋的形式復制到鎳質金屬模版上。以金屬模版熱壓氣凝膠或有機高聚物聚氨酯涂層， 形成承載全息圖像的信息層，可在薄膜上再現全息圖像。

紫外探測技術是繼激光探測技術和紅外探測技術之后發展起來的又一軍民兩用光電探測技術。幾十年來，紫外探測技術已經逐漸應用于光譜分析、軍事、空間天文、環境監測、工業生產、醫用生物學等諸多領域，對現代科研、國防和人民生活都產生了深遠的影響。特別是在先進光譜儀器方面，國內急迫需要響應波段拓展到紫外的硅基成像器件。先進光譜儀器是集光、機、電和計算機于一體，技術密集的高科技產品。它是現代科技必不可少的精密檢測和分析手段，是現代天文學、航空航天、分子生物學、現代醫學、環境和生態等新科技建立和發展的基礎。國家對發展先進光譜儀器和研制光譜儀器用的探測器件非常重視，“十一五”國家科技支撐計劃專門設立了科學儀器設備研制與開發專項“先進大型光譜儀器的關鍵部件——高分辨分光器件和探測器件的研制”，技術人有幸成為承擔該課題的主要研究人員，負責高分辨探測器件的研制工作。 硅基成像器件如CCD和CMOS是最廣泛應用的光電探測器，而且先進的光譜儀器都采用了CCD或CMOS作為探測器件，這是因為CCD和CMOS具有靈敏度高、低噪聲等優點。但由于紫外波段的光波在多晶硅中穿透深度很小（<2nm），一般的硅基成像器件如CCD、CMOS等都在紫外波段響應很弱，這種很弱的紫外響應限制了硅基成像器件在先進光譜儀器及其他紫外波段探測方面的使用。 因此，本技術的研究成果硅基成像器件的紫外響應增強薄膜是經濟建設和社會發展迫切需要。 增強硅基成像器件的紫外響應，目前有兩種方法：一是改變硅基探測器的結構，如背照式CCD；另外一種是在現有的成像器件光敏窗口加鍍一層下變頻膜，把紫外光先轉化為可見光，然后再接收。國外自1980年起就開始增強硅基探測器紫外響應的下變頻薄膜研究，按使用材料的屬性，可以把變頻膜分為有機變頻膜和無機變頻膜兩種。有機變頻膜技術相對成熟，也有相關的專利出現。哈勃太空望遠鏡CCD、星球相機（WFPC）CCD和Photometrics等公司提供的響應波段延伸到紫外的CCD都是鍍的有機變頻膜。目前紫外增強有機變頻膜可使普通CCD的響應波段延伸到200nm，Roper Scientific公司開發的Metachrome II薄膜在120-430nm波段都具有良好的下變頻效果。有機變頻膜技術盡管成熟，但該類薄膜有著致命的缺點，那就是有機物分子在紫外輻射下降解速度很快。在照明度為1μW/cm2的光照下，有機分子以高達每小時3%的速率成指數降解。在這一方面，而無機變頻膜具有不可比擬的優點。無機變頻膜材料可以在它使用期限的前2%時間里，減少90%的降解量，因此，無機變頻膜具有非常優越的穩定性。在無機變頻膜方面，國外研究也剛起步，最早的報道見于2003年[1]，目前尚無成熟的增強硅基成像器件的紫外無機變頻膜技術。國內在有機和無機變頻膜方面，都沒有已見報道的研究工作。  為了提高探測器對紫外輻射的敏感性，我們采取了在硅基成像器件光敏窗口上鍍變頻膜的辦法，成功地使CCD及CMOS的響應波段拓展到150nm。該產品可廣泛應用在光譜分析、軍事、空間天文、環境監測、工業生產、醫用生物學等諸多領域，對推動國家的科研和產業在這些領域的發展有極大幫助。