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?  成果簡介：精密內(nèi)孔加工特別是硬淬材料和高粘性材料的內(nèi)孔加工，砂輪的損耗十分嚴(yán)重，而內(nèi)孔加工精度和表面質(zhì)量對(duì)砂輪幾何形貌及磨削性能的變化十分敏感，因此，需要采用高耐磨的具有良好保持性的超硬砂輪及其磨削技術(shù)，本項(xiàng)目可針對(duì)不同材料的內(nèi)孔磨削要求，提供高效的砂輪設(shè)計(jì)與制造及其應(yīng)用技術(shù)。該技術(shù)主要應(yīng)用于強(qiáng)化鑄鐵、軸承鋼、不銹鋼、陶瓷等材料的精密內(nèi)孔加工。比普通砂輪提高耐用度10倍以上，磨削粗糙度Ra≤0.4。?  項(xiàng)目來源：自行開發(fā)?&

精密內(nèi)孔加工特別是硬淬材料和高粘性材料的內(nèi)孔加工，砂輪的損耗十分嚴(yán)重，而內(nèi)孔加工精度和表面質(zhì)量對(duì)砂輪幾何形貌及磨削性能的變化十分敏感，因此，需要采用高耐磨的具有良好保持性的超硬砂輪及其磨削技術(shù)，本項(xiàng)目可針對(duì)不同材料的內(nèi)孔磨削要求，提供高效的砂輪設(shè)計(jì)與制造及其應(yīng)用技術(shù)。該技術(shù)主要應(yīng)用于強(qiáng)化鑄鐵、軸承鋼、不銹鋼、陶瓷等材料的精密內(nèi)孔加工。比普通砂輪提高耐用度10倍以上，磨削粗糙度Ra≤0.4。

本發(fā)明公開了一種電場輔助的硅通孔刻蝕工藝，包括步驟：（1）在單晶硅片上旋涂光刻膠并通過光學(xué)光刻或電子束光刻得到光刻膠圖形 ；（ 2 ） 鍍 上 銀 膜 或 金 膜 ；（ 3 ） 在 電 場 之 中 ， 采 用 HF 、H₂O₂和去離子水的混合溶液作為刻蝕劑進(jìn)行金屬催化刻蝕；（4）去除光刻膠；（5）去除單晶硅片上殘留的金屬膜并進(jìn)行清洗處理。本發(fā)明通過在刻蝕過程中控制電場強(qiáng)度，由此形成從數(shù)十納米至數(shù)

合作的企業(yè)類型等。簡介請(qǐng)圖文并茂，字?jǐn)?shù)1000字以內(nèi)。） 本項(xiàng)目針對(duì)薄壁群孔結(jié)構(gòu)，研制出專用工藝及裝備，可顯著提高生產(chǎn)效率，降低制造成本，最小加工孔徑0.5mm,最大板厚1mm。適用于航空航天、電子等行業(yè)。研制出電鑄微小群孔的工藝，可實(shí)現(xiàn)最小孔徑為數(shù)微米直徑的群孔制造；研制出群坑結(jié)構(gòu)高效電解加工工藝及裝置，可實(shí)現(xiàn)活塞環(huán)、活塞及氣缸內(nèi)表面群坑的制造，目前最小加工坑直徑為0.2mm。

簡單介紹： 小鼠五孔注意力測試系統(tǒng)基于視覺上的辨別力，通過運(yùn)行5-CSRTT任務(wù)(5-choice serial reaction time task)， 測試動(dòng)物的注意力、沖動(dòng)性(impulsivity)等一系列行為學(xué)指標(biāo)，主要用于注意力缺失/多動(dòng)綜合癥(attention deficit/hyperactivity disorder, ADHD)、老年癡呆、精神分裂癥等精神**研究。 詳情介紹：   圖1：設(shè)備箱體俯視圖 圖2：硬件布局 圖3：軟件界面     圖4：四鼠同時(shí)訓(xùn)練圖 圖5：實(shí)驗(yàn)流程圖   訓(xùn)練開始時(shí)，前面板的五個(gè)探鼻孔指示燈之一隨機(jī)亮起，大/小鼠如果探鼻進(jìn)入該孔，那么返回獎(jiǎng)勵(lì)孔可以獲得食物或水作為獎(jiǎng)勵(lì)。初始參數(shù)設(shè)置一般為：SD, 30s; LH, 30s; ITI, 2s; TO, 5s。**訓(xùn)練一個(gè)session，一個(gè)session包括100個(gè)trials。   參數(shù)說明： Trial：可以理解為大/小鼠一次操作，正確操作包括探鼻進(jìn)入前面板探鼻孔直至*后獲取獎(jiǎng)勵(lì)結(jié)束。如果做錯(cuò)，trial提前終止。 Stimulus duration (SD)：探鼻孔指示燈亮的時(shí)間。 Limited Hold (LH)：從探鼻孔指示燈亮到大/小鼠探鼻進(jìn)入所花費(fèi)的*長時(shí)間不能超過LH，否則操作錯(cuò)誤。 Intertrial Interval (ITI)：連續(xù)兩次trial之間的時(shí)間間隔。 Timeout (TO)：大/小鼠操作錯(cuò)誤時(shí)的懲罰時(shí)間。在這段時(shí)間內(nèi)所有燈熄滅。 隨著訓(xùn)練次數(shù)的增加，如果大/小鼠在一次session能至少做對(duì)30次trials，可以逐漸降低SD以及增加ITI，直至達(dá)到我們的訓(xùn)練要求。 分析指標(biāo)： Correct：正確反應(yīng)次數(shù) Incorrect：錯(cuò)誤反應(yīng)次數(shù) Premature：過早反應(yīng)次數(shù) Omission：錯(cuò)失次數(shù) Latency to Stimulus：探洞潛伏期 Latency to reward：獲得獎(jiǎng)賞潛伏期

簡單介紹： 大鼠五孔注意力測試系統(tǒng)基于視覺上的辨別力，通過運(yùn)行5-CSRTT任務(wù)(5-choice serial reaction time task)， 測試動(dòng)物的注意力、沖動(dòng)性(impulsivity)等一系列行為學(xué)指標(biāo)，主要用于注意力缺失/多動(dòng)綜合癥(attention deficit/hyperactivity disorder, ADHD)、老年癡呆、精神分裂癥等精神**研究。 詳情介紹： 圖1：設(shè)備箱體俯視圖 圖2：硬件布局 圖3：軟件界面     圖4：四鼠同時(shí)訓(xùn)練圖 圖5：實(shí)驗(yàn)流程圖   訓(xùn)練開始時(shí)，前面板的五個(gè)探鼻孔指示燈之一隨機(jī)亮起，大/小鼠如果探鼻進(jìn)入該孔，那么返回獎(jiǎng)勵(lì)孔可以獲得食物或水作為獎(jiǎng)勵(lì)。初始參數(shù)設(shè)置一般為：SD, 30s; LH, 30s; ITI, 2s; TO, 5s。**訓(xùn)練一個(gè)session，一個(gè)session包括100個(gè)trials。   參數(shù)說明： Trial：可以理解為大/小鼠一次操作，正確操作包括探鼻進(jìn)入前面板探鼻孔直至*后獲取獎(jiǎng)勵(lì)結(jié)束。如果做錯(cuò)，trial提前終止。 Stimulus duration (SD)：探鼻孔指示燈亮的時(shí)間。 Limited Hold (LH)：從探鼻孔指示燈亮到大/小鼠探鼻進(jìn)入所花費(fèi)的*長時(shí)間不能超過LH，否則操作錯(cuò)誤。 Intertrial Interval (ITI)：連續(xù)兩次trial之間的時(shí)間間隔。 Timeout (TO)：大/小鼠操作錯(cuò)誤時(shí)的懲罰時(shí)間。在這段時(shí)間內(nèi)所有燈熄滅。 隨著訓(xùn)練次數(shù)的增加，如果大/小鼠在一次session能至少做對(duì)30次trials，可以逐漸降低SD以及增加ITI，直至達(dá)到我們的訓(xùn)練要求。 分析指標(biāo)： Correct：正確反應(yīng)次數(shù) Incorrect：錯(cuò)誤反應(yīng)次數(shù) Premature：過早反應(yīng)次數(shù) Omission：錯(cuò)失次數(shù) Latency to Stimulus：探洞潛伏期 Latency to reward：獲得獎(jiǎng)賞潛伏期

簡單介紹： 五孔注意力測試系統(tǒng)基于視覺上的辨別力，通過運(yùn)行5-CSRTT任務(wù)(5-choice serial reaction time task)， 測試動(dòng)物的注意力、沖動(dòng)性(impulsivity)等一系列行為學(xué)指標(biāo)，主要用于注意力缺失/多動(dòng)綜合癥(attention deficit/hyperactivity disorder, ADHD)、老年癡呆、精神分裂癥等精神**研究。 詳情介紹： 圖1：設(shè)備箱體俯視圖 圖2：硬件布局 圖3：軟件界面     圖4：四鼠同時(shí)訓(xùn)練圖 圖5：實(shí)驗(yàn)流程圖   訓(xùn)練開始時(shí)，前面板的五個(gè)探鼻孔指示燈之一隨機(jī)亮起，大/小鼠如果探鼻進(jìn)入該孔，那么返回獎(jiǎng)勵(lì)孔可以獲得食物或水作為獎(jiǎng)勵(lì)。初始參數(shù)設(shè)置一般為：SD, 30s; LH, 30s; ITI, 2s; TO, 5s。**訓(xùn)練一個(gè)session，一個(gè)session包括100個(gè)trials。   參數(shù)說明： Trial：可以理解為大/小鼠一次操作，正確操作包括探鼻進(jìn)入前面板探鼻孔直至*后獲取獎(jiǎng)勵(lì)結(jié)束。如果做錯(cuò)，trial提前終止。 Stimulus duration (SD)：探鼻孔指示燈亮的時(shí)間。 Limited Hold (LH)：從探鼻孔指示燈亮到大/小鼠探鼻進(jìn)入所花費(fèi)的*長時(shí)間不能超過LH，否則操作錯(cuò)誤。 Intertrial Interval (ITI)：連續(xù)兩次trial之間的時(shí)間間隔。 Timeout (TO)：大/小鼠操作錯(cuò)誤時(shí)的懲罰時(shí)間。在這段時(shí)間內(nèi)所有燈熄滅。 隨著訓(xùn)練次數(shù)的增加，如果大/小鼠在一次session能至少做對(duì)30次trials，可以逐漸降低SD以及增加ITI，直至達(dá)到我們的訓(xùn)練要求。       分析指標(biāo)： Correct：正確反應(yīng)次數(shù) Incorrect：錯(cuò)誤反應(yīng)次數(shù) Premature：過早反應(yīng)次數(shù) Omission：錯(cuò)失次數(shù) Latency to Stimulus：探洞潛伏期 Latency to reward：獲得獎(jiǎng)賞潛伏期

成果完成年份：2011年8月 成果簡介：本軟件項(xiàng)目的成果是一款基于Windows7系統(tǒng)的Kinect休閑體感游戲，項(xiàng)目委托人是第二屆“中科杯”軟件設(shè)計(jì)大賽，項(xiàng)目開發(fā)環(huán)境是VisualStudio2010。 項(xiàng)目來源：自行開發(fā) 技術(shù)領(lǐng)域：信息技術(shù) 應(yīng)用范圍：適用于任何群體 現(xiàn)狀特點(diǎn)：國內(nèi)領(lǐng)先 技術(shù)創(chuàng)新：將Kinect體感設(shè)備與Window7PC游戲相結(jié)合，所有手勢識(shí)別算法，物理場，3d場景均為原創(chuàng)，游戲制作技術(shù)較為領(lǐng)

探火管式滅火裝置是一套簡單、低成本而且可靠度高的獨(dú)立式自動(dòng)滅火系統(tǒng)，隨著行業(yè)場所的廣泛應(yīng)用，誤啟動(dòng)情況偶有發(fā)生，造成一定的麻煩，為避免此類情況，青島中陽消防科技股份有限公司經(jīng)過大力攻關(guān)，創(chuàng)新研發(fā)了雙極探火管式滅火裝置，極大地降低滅火裝置誤動(dòng)作的比例。 優(yōu)勢特點(diǎn)：雙路探測，動(dòng)作可靠，結(jié)構(gòu)簡單，安全方便。一級(jí)預(yù)警，二級(jí)確認(rèn)后啟動(dòng)，減少誤動(dòng)作。雙探火管釋放，滅火劑噴發(fā)速度更快，效率更高。 應(yīng)用范圍：探火管式滅火裝置解決了電器設(shè)備、控制箱、配電柜等易發(fā)生火災(zāi)的狹小空間的防火問題（詳見《建筑設(shè)計(jì)防火規(guī)范》GB50016）。目前，該裝置廣泛應(yīng)用于電力、通訊、石化、鐵路、金融等行業(yè)。TH-J-E-42/150/170-SF間接式裝置構(gòu)成及原理雙極探火管式滅火裝置由容器、容器閥以及雙極探火管、壓力表等組成、探火管通過容器閥連接到容器上，一路探測到火源時(shí)發(fā)出預(yù)警信號(hào)，另一路再次探測到火災(zāi)信號(hào)并爆破壓力下降，啟動(dòng)容器閥，通過釋放管將滅火劑通過噴頭釋放，撲滅火災(zāi)。釋放方式：間接式型號(hào)規(guī)格：TH-J-E-42/150/170-SF滅火劑充裝量：42kg（0-5%）20℃貯存壓力：5.7MPa最大工作壓力：12.4MPa單位體積所需滅火劑最小量：1.14kg/m3（A類）0.69kg/m3（B類）探火管最大長度：2×25m釋放管最大長度：12m工作溫度范圍：0~50℃

本發(fā)明提供一種基于石墨烯/介孔碳納米復(fù)合材料生物傳感器及其制備方法。本發(fā)明包括采用水熱合 成法制備石墨烯/介孔碳納米復(fù)合材料，將其作為吸附酶固載材料；采用生物傳感及電化學(xué)原理，通過將 絲網(wǎng)和噴墨印刷相結(jié)合的方法制作檢測試紙，絲網(wǎng)印刷用于印制導(dǎo)電線路，采用非接觸的噴涂方式將敏 感生物元件噴印到電極支持物上，其中噴涂材料的噴涂量和噴涂面積可以控制。納米復(fù)合載體材料是在 石墨烯片層的兩面生長介孔碳，制成石墨烯/介孔碳復(fù)合材料，將其作為載體固載酶，與生