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簡介：本發(fā)明公開了一種用于圓柱狀或類似零件外表面均勻涂覆的噴涂裝置。該裝置主要由外殼、支撐架、調(diào)速電機、電機軸、調(diào)速電源開關(guān)、曲軸、連桿、U型槽、篩網(wǎng)、擋板、皮帶以及皮帶輪組成。通過調(diào)速電機控制曲軸的轉(zhuǎn)動,從而控制U型槽的翹板式往復運動,零件置于U型槽內(nèi)的篩網(wǎng)上,對零件進行噴涂。本裝置便于操作,并可以通過調(diào)節(jié)電機轉(zhuǎn)速,實現(xiàn)不同大小的圓柱狀或類似零件的均勻噴涂。

（專利號：ZL 201310128992.1） 簡介：本發(fā)明涉及一種鈦合金表面溶膠凝膠透輝石涂層的方法，屬于金屬材料涂層制備技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：a、稱取硝酸鈣、硝酸鎂、正硅酸乙酯，將上述組分溶入無水乙醇中；b、將上述混合溶液在室溫下攪拌，然后陳化；c、依次用酒精、丙酮將鈦合金片超聲清洗；d、將清洗后的鈦合金片浸入步驟b陳化后的溶液中，提拉得到涂層；e、將帶有涂層的鈦合金片干燥；f、對干燥之后的鈦合金片重復步驟d-e的處理5次；g、將步驟

導電聚合物具有傳統(tǒng)聚合物所缺乏的電活性，因而在輕質(zhì)電池、電磁屏蔽材料、防腐涂層和傳感器等領(lǐng)域有著很大的發(fā)展?jié)摿Αщ娋酆衔锾貏e是聚苯胺由于自身的分子結(jié)構(gòu)剛性大，分子鏈間相互作用力強，因而其加工性能較差，難溶難熔，這在一定程度上限制了導電聚合物的應用。將聚苯胺與其他材料復合，制備復合材料是解決這個缺陷的重要方法之一。該項目涉及一項基于表面修飾導電聚合物的單分散聚苯乙烯高分子微球的生產(chǎn)技術(shù)。單分散的聚苯乙烯微球經(jīng)改性后，可獲得表面包覆有殼層結(jié)構(gòu)或者納米線結(jié)構(gòu)的導電聚合

在管道輸送的流體中添加少量的表面活性劑，流動阻力可大大降低，最高可達80%以上，從而可以減少泵的功耗以達到節(jié)能的目的。表面活性劑具有良好的機械、化學、光、熱等穩(wěn)定性，與高分子聚合物相比沒有機械退化，在受到破壞后容易自身修復而不會降低減阻性能，可應用到供暖水、冷卻水和冷凍水的管道輸送系統(tǒng)等領(lǐng)域內(nèi)。 本項目利用在實驗室測試的多種表面活性劑減阻性能的數(shù)據(jù)，結(jié)合開發(fā)的不同管徑下表面活性劑減阻性能預測技術(shù)，可進行不同供暖及供冷系統(tǒng)的減阻節(jié)能設(shè)計和改造。系統(tǒng)改造簡單方便，易于實施，只需添加加藥口和加藥泵即可。加入表面活性劑后系統(tǒng)節(jié)能達30%-50%。

研發(fā)階段/n一種多壁納米碳管表面化學鍍鎳鋅的方法，其特征在于：ａ．首先在鍍鎳鋅之前對碳納米管進行預處理，通過純化、氧化處理獲得較純凈納米碳管，再通過活化、敏化處理在納米碳管表面形成催化金屬核；ｂ．將預處理后的納米碳管加入鎳鋅鍍液中，反應過程用超聲波振蕩器充分散，Ｎｉ－Ｚｎ－Ｐ在納米碳管表面的催化金屬核上沉積并長大，繼而形成連續(xù)結(jié)合鍍層，鎳的自催化活性使沉積持續(xù)進行，從而得到較厚的鍍層。將經(jīng)過以上處理的納米碳管用作金屬基復合材料增強體時，可以和金屬基體緊密結(jié)合，充分發(fā)揮其優(yōu)良特性。

季銨鹽是表面活性劑的重要組成部分，具有比傳統(tǒng)的表面活性劑更明顯的優(yōu) 勢，如乳化性能高、增溶性強、生物降解性好，能夠大量的運用于礦石浮選、日 用化妝品、殺菌、金屬緩蝕、紡織等諸多方面。課題開發(fā)亞麻油酰胺丙基-PG-二 甲基氯化銨、椰油酸雙酯季銨鹽等表面活性劑的制備新工藝，提高其表面張力、 增溶性、乳化性等方面的物理性質(zhì)，現(xiàn)代許多化學工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的添加劑， 尤其是對于新型季銨鹽表面活性劑的研究意義重大。不同結(jié)構(gòu)的天然脂肪酸表面 活性劑具有表面活性劑的水溶性好，使用 pH 范圍大，適合用于個人日常的護理 清潔用品，在清洗劑中能夠與非離子表面活性劑復配成殺菌、消毒清洗劑。 關(guān)鍵技術(shù) ? 表面活性劑的制備技術(shù)； ? 表面活性劑的結(jié)構(gòu)調(diào)控與性能。 獲得成果 1、論文發(fā)表方面：公開發(fā)表 SCI 學術(shù)論文 30 余篇； 2、專利申請方面：授權(quán)中國專利 6 件； 3、基金資助方面：獲國家自然科學基金項目 3 項。

本成果創(chuàng)新性發(fā)明了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高精度測量技術(shù)及系統(tǒng)。 本項目依托華中科技大學儀器學科在表面形貌與結(jié)構(gòu)精密測量領(lǐng)域的傳統(tǒng)特色優(yōu)勢和長期積累的科研基礎(chǔ)，在國家重大科學儀器設(shè)備開發(fā)專項、國家自然科學基金儀器研制專項、國家863重點項目課題、國家自然科學基金面上項目等支持下，針對相關(guān)制造領(lǐng)域微米尺度、納米尺度、跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)精密測量問題開展了系列研究。本成果技術(shù)主要包括以下方面： 1）提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)測量原理和方法，共光路融合白光顯微干涉與原子力探針傳感，突破跨尺度微納傳感瓶頸，解決大動態(tài)范圍微納結(jié)構(gòu)測量難題，實現(xiàn)nm-μm-mm跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高效測量； 2）提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度測量的可溯源標定和坐標統(tǒng)一方法，突破了白光干涉與原子力探針跨尺度微納傳感的坐標統(tǒng)一瓶頸和漂移難題，實現(xiàn)了微納表面結(jié)構(gòu)跨尺度測量的可溯源和穩(wěn)定高精度； 3）提出了白光干涉質(zhì)量評價模型和三維圖像噪聲區(qū)域辨識與重建方法，及二維掃描工作臺平面度誤差阿貝補償與二維運動同步計量方法，解決噪聲問題與宏微驅(qū)動二維工作臺運動誤差對測量精度的影響問題，為跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高精度測量提供支撐。 圖1 微納結(jié)構(gòu)多模式跨尺度測量儀器實物圖 圖2 白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)測量原理示意圖

本成果創(chuàng)新性發(fā)明了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高精度測量技術(shù)及系統(tǒng)。 本項目依托華中科技大學儀器學科在表面形貌與結(jié)構(gòu)精密測量領(lǐng)域的傳統(tǒng)特色優(yōu)勢和長期積累的科研基礎(chǔ)，在國家重大科學儀器設(shè)備開發(fā)專項、國家自然科學基金儀器研制專項、國家863重點項目課題、國家自然科學基金面上項目等支持下，針對相關(guān)制造領(lǐng)域微米尺度、納米尺度、跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)精密測量問題開展了系列研究。本成果技術(shù)主要包括以下方面： 1）提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)測量原理和方法，共光路融合白光顯微干涉與原子力探針傳感，突破跨尺度微納傳感瓶頸，解決大動態(tài)范圍微納結(jié)構(gòu)測量難題，實現(xiàn)nm-μm-mm跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高效測量； 2）提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度測量的可溯源標定和坐標統(tǒng)一方法，突破了白光干涉與原子力探針跨尺度微納傳感的坐標統(tǒng)一瓶頸和漂移難題，實現(xiàn)了微納表面結(jié)構(gòu)跨尺度測量的可溯源和穩(wěn)定高精度； 3）提出了白光干涉質(zhì)量評價模型和三維圖像噪聲區(qū)域辨識與重建方法，及二維掃描工作臺平面度誤差阿貝補償與二維運動同步計量方法，解決噪聲問題與宏微驅(qū)動二維工作臺運動誤差對測量精度的影響問題，為跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高精度測量提供支撐。 圖1 微納結(jié)構(gòu)多模式跨尺度測量儀器實物圖 圖2 白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)測量原理示意圖 【技術(shù)優(yōu)勢】 本成果項目研制了具有我國自主知識產(chǎn)權(quán)的白光干涉原子力探針掃描測量儀等系列微納表面結(jié)構(gòu)測量儀器，并通過了國家計量院組織的儀器性能和軟件的檢定測試，納米尺度原子力垂直測量范圍超出國際商用儀器10倍以上，水平動態(tài)范圍達國際領(lǐng)先水平。 【技術(shù)指標】 本成果項目提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)測量原理和方法，建立跨尺度傳感方法，實現(xiàn)nm-μm-mm跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高效測量。同時，發(fā)明的白光干涉原子力探針掃描測量方法與現(xiàn)有商用原子力顯微鏡相比，垂直測量范圍提高10倍，分辨率優(yōu)于0.01nm。

成果以最新ASTM/ISO高分子刮擦測試標準為基礎(chǔ)，掌握全套核心技術(shù)，通過集成觀測手段，形成了一套加載（位移、荷載、速度等）靈活可控、即時在線獲取數(shù)據(jù)（深度、形貌、溫度變化、破壞過程等）的高分子材料刮擦儀器和技術(shù)。該技術(shù)打破了歐美日對該類儀器的壟斷地位，開創(chuàng)性地提升高分子刮擦實驗的科學性，系統(tǒng)開展高分子材料表面刮擦性能測試、研究，揭示高分子材料表面刮擦破壞規(guī)律，為高分子材料表面耐刮擦性能的提高提供技術(shù)手段。

關(guān)鍵科學問題研究團隊開發(fā)出一種與CMOS兼容的技術(shù)，可以動態(tài)且可逆地實現(xiàn)二氧化鈦和黑色二氧化鈦之間的轉(zhuǎn)化，從而達到結(jié)構(gòu)色的擦寫和再現(xiàn)。通過構(gòu)筑亞波長尺寸的微納結(jié)構(gòu)，可以把特定波長的光局域在近場，激發(fā)出低階甚至高階的電極子或磁極子，它們反過來又會與材料中的電子產(chǎn)生強烈的相互作用，從而激發(fā)出更多的高活性電子，使得材料本