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本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造中的套刻誤差測(cè)量領(lǐng)域，具體涉及一種基于穆勒矩陣的納米結(jié)構(gòu)套刻誤差提取方法。本發(fā)明采用穆勒矩陣矩陣對(duì)角線上的 M13 和 M31 元素，或者 M23 和 M32 元素的線性組合分別直接擬合得到一條直線，利用該擬合直線可直接根據(jù)測(cè)量穆勒矩陣元素得到套刻誤差。該方法可以實(shí)現(xiàn)不同周期下一維套刻結(jié)構(gòu)套刻誤差的快速、準(zhǔn)確提取。本發(fā)明方法可以實(shí)現(xiàn)一維套刻結(jié)構(gòu)的套刻誤差的快速、準(zhǔn)確提取。

本發(fā)明公開(kāi)了一種基于 Zernike 矩的圖像匹配方法，包括 S1 建 立 N 層模板金字塔圖像；S2 計(jì)算每層模板圖像的 K 個(gè)矩并建立 RCS 表；S3 建立 N 層目標(biāo)金字塔圖像；S4 通過(guò)查找 RCS 表計(jì)算 N 層中第L 層中每個(gè)目標(biāo)子圖像的 K 個(gè)矩；S5 計(jì)算第 L 層模板金字塔圖像與第 L 層每個(gè)目標(biāo)金字塔圖像子圖像 K 個(gè)矩的相關(guān)系數(shù)，獲得第 L 層目標(biāo) 金字塔圖像匹配點(diǎn)位置；S6 判斷 L 是否等于 1，若是，則進(jìn)入 S8；若 否，則 L＝L-1，進(jìn)入 S7；S7 在第 L 層以

本發(fā)明公開(kāi)了一種基于 Zernike 矩的圖像匹配方法，包括 S1 建立 N 層模板金字塔圖像；S2 計(jì)算每層模板圖像的 K 個(gè)矩并建立 RCS表；S3 建立 N 層目標(biāo)金字塔圖像；S4 通過(guò)查找 RCS 表計(jì)算 N 層中第L 層中每個(gè)目標(biāo)子圖像的 K 個(gè)矩；S5 計(jì)算第 L 層模板金字塔圖像與第L 層每個(gè)目標(biāo)金字塔圖像子圖像 K 個(gè)矩的相關(guān)系數(shù)，獲得第 L 層目標(biāo)金字塔圖像匹配點(diǎn)位置；S6 判斷 L 是否等于 1，若是，則進(jìn)入 S8；若否 ， 則 L ＝ L 1 ， 進(jìn) 入 S7 ； S7 在 第

北京鴻達(dá)天矩試驗(yàn)設(shè)備有限公司坐落于首都北京市朝陽(yáng)區(qū)，緊鄰CBD和北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備高新科技企業(yè)。公司擁有一支高素質(zhì)專業(yè)的設(shè)計(jì)研發(fā)、生產(chǎn)加工、產(chǎn)品銷售、技術(shù)服務(wù)隊(duì)伍。弘揚(yáng)“誠(chéng)信為本、品質(zhì)至上、服務(wù)第一、攜手雙贏”的公司理念。以“團(tuán)結(jié)、創(chuàng)新\高效、品質(zhì)”為公司發(fā)展目標(biāo)。綜合業(yè)內(nèi)大批專家，掌握多項(xiàng)核心技術(shù)，憑借公司雄厚的技術(shù)力量，先進(jìn)的生產(chǎn)工藝，完備的檢測(cè)手段，建立和實(shí)施了符合ISO9002標(biāo)準(zhǔn)要求的質(zhì)量體系。對(duì)每一個(gè)零部件，每一道工序嚴(yán)格貫徹質(zhì)量管理體系，不斷追求產(chǎn)品創(chuàng)新，提高產(chǎn)品質(zhì)量。 公司在自動(dòng)化控制、非標(biāo)機(jī)械設(shè)計(jì)，材料老化領(lǐng)域積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)。依托完美的設(shè)計(jì)、領(lǐng)先的技術(shù)、卓越的品質(zhì)和迅捷的服務(wù)，為科研院校、電工、電子、軍事、航空、船舶、郵電通信、汽摩、醫(yī)療等企事業(yè)單位提供符合GB、GJB、IEC、MIL、ASTM、ISO、JISK標(biāo)準(zhǔn)的各類環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備。并可根據(jù)用戶的需求設(shè)計(jì)、制造各類非標(biāo)環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備。在產(chǎn)品設(shè)計(jì)中融入了CAD及Solidworks技術(shù)、微處理程序軟件、固態(tài)電子技術(shù)、模糊控制理論、能量調(diào)節(jié)理論等多項(xiàng)新技術(shù)，保證了設(shè)備良好的操作控制性能及可靠性。  

本發(fā)明公開(kāi)了一種基于偽Zernike矩的語(yǔ)音內(nèi)容認(rèn)證方法，水印嵌入時(shí)將原始語(yǔ)音信號(hào)A分為P幀，每幀分為N段。然后，由每幀前N/2段DCT低頻系數(shù)的n階偽Zernike矩幅值的平均值生成水印W，并通過(guò)量化每幀的后N/2段DCT低頻系數(shù)的偽Zernike矩來(lái)嵌入水印，得到含水印語(yǔ)音A′。本發(fā)明充分利用了語(yǔ)音信號(hào)DCT低頻系數(shù)的偽Zernike矩幅值與語(yǔ)音內(nèi)容緊密相關(guān)的特性，以及對(duì)常規(guī)語(yǔ)音信號(hào)處理的魯棒性，既保證了對(duì)惡意篡改攻擊的敏感性，又保證了良好的容忍一定常規(guī)語(yǔ)音信號(hào)處理能力。

本發(fā)明公開(kāi)了一種透射式全穆勒矩陣光譜橢偏儀及其測(cè)量方法，方法是將起偏臂產(chǎn)生的調(diào)制光線投射到待測(cè)樣件表面，檢偏臂將待測(cè)樣件反射(或透射)的光線解調(diào)并接收，通過(guò)對(duì)測(cè)量光譜進(jìn)行諧波分析，計(jì)算獲得待測(cè)樣件的全穆勒矩陣信息，并通過(guò)非線性回歸，庫(kù)匹配等算法擬合提取待測(cè)樣件的光學(xué)常數(shù)，特征形貌尺寸等信息。橢偏儀包括起偏臂(包括光源，透鏡組，起偏器和伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)的補(bǔ)償器)，待測(cè)樣件和檢偏臂(包括伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)的補(bǔ)償器，檢偏器，透鏡組和光譜儀)。本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)各種信息光電子功能材料和器件，以及納米制造中各種納米結(jié)構(gòu)的在線