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EV-400高真空金屬有機蒸發(fā)鍍膜機 真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護保養(yǎng)； 真空系統(tǒng)：國產(chǎn)分子泵作為主抽泵，真空極限優(yōu)于5.0?10-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優(yōu)于3.0?10-6Pa（經(jīng)烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 蒸發(fā)源：4～6組歐美技術(shù)金屬或是有機束源爐蒸發(fā)源可選，多源共蒸獲得復(fù)合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩(wěn)定； 蒸發(fā)電源：真空專業(yè)蒸發(fā)電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預(yù)先設(shè)置，可實現(xiàn)一鍵啟動和停止的自動控制功能； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0～20r/min連續(xù)可調(diào)； 基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調(diào)可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 膜厚監(jiān)控儀：可選配國產(chǎn)或進口單水冷探頭膜厚儀； 可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn)一鍵抽停真空。

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接，前開門結(jié)構(gòu)； 真空系統(tǒng)：機械泵+分子泵（進口和國產(chǎn)可選）； 極限真空：優(yōu)于5?10-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續(xù)在線自動可調(diào)，旋轉(zhuǎn)0～20r/min可調(diào)，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 質(zhì)量流量計：2～3路工藝氣體，可根據(jù)工藝要求增加； 膜厚監(jiān)控儀：可選配國產(chǎn)或進口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn)一鍵抽停真空。

北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司，原名北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司，創(chuàng)立于2013年6月，主體經(jīng)營分為真空配件銷售、真空設(shè)備定制、淺藍納米科技三個部分，是北京從事真空產(chǎn)品設(shè)計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的性的公司，公司擁有一支、產(chǎn)品技術(shù)工程師和維修技術(shù)工程師，具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗。        公司于2016年初至2017年末，陸續(xù)投入大量研發(fā)資金，針對等離子增強化學(xué)氣象沉積設(shè)備、原子層沉積設(shè)備和高低溫真空探針臺設(shè)備，以及附屬配件進行了系統(tǒng)、深入的研發(fā)、改進工作。竭盡所能滿足高校、研究所的教學(xué)、科研使用，同時減少相關(guān)進口設(shè)備的市場占有率，并力爭創(chuàng)造外匯，打出中國創(chuàng)造的名牌!        我們的客戶遍布國內(nèi)各高校和研究院所、部分軍工單位和電力試驗所、各級的材料、物理、化學(xué)、納米等研究領(lǐng)域的實驗室，期待您就是我們的下一位客戶、朋友!        您的滿意微笑是我們一直努力追求的經(jīng)營目標!        維意真空，為您服務(wù)，唯你成就是我們的宣傳口號!        技術(shù)創(chuàng)新、服務(wù)誠信是我們一直遵循的經(jīng)營理念!        我們熱誠歡迎國內(nèi)外先進的儀器制造商及科學(xué)工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成的真空系統(tǒng)產(chǎn)品、等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備、原子層沉積設(shè)備和高低溫真空探針臺設(shè)備供應(yīng)商。

MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接，上開蓋和前開門結(jié)構(gòu)；真空系統(tǒng)：機械泵+分子泵（進口和國產(chǎn)可選）；極限真空：優(yōu)于8?10-5Pa（設(shè)備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)0～20r/min可調(diào)，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；質(zhì)量流量計：10sccm、50sccm質(zhì)量流量控制器各1套；膜厚監(jiān)控儀：可選配國產(chǎn)或進口單水冷探頭膜厚儀；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn)一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預(yù)留1個CF35法蘭接口。

EV-246小型電阻蒸發(fā)鍍膜機真空腔室：1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接，上開蓋和前開門結(jié)構(gòu)；真空系統(tǒng)：機械泵+分子泵（進口和國產(chǎn)可選）；極限真空：優(yōu)于8?10-5Pa（設(shè)備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；基片臺：可拆卸式，尺寸60?60mm，旋轉(zhuǎn)0～20r/min可調(diào)，可加熱至300℃（可選水冷功能）；蒸發(fā)源及電源：水冷銅電極3組，逆變式蒸發(fā)電源，功率2KW，配源間防污隔板；膜厚監(jiān)控儀：采用國產(chǎn)或進口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn)一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預(yù)留1個CF35法蘭接口。

SEV-400手套箱金屬有機蒸發(fā)鍍膜機 真空腔室：采用立式方形結(jié)構(gòu)，前門為水平滑開式，位于手套箱體內(nèi)部，前開門便于蒸發(fā)材料和樣片在保護環(huán)境下裝卸，后開門便于真空室的清理維護（后門帶鎖緊裝置在充氣條件下保持腔室密閉與大氣環(huán)境隔離），整機位于手套箱體下面，節(jié)約占地面積； 真空系統(tǒng)：國產(chǎn)分子泵作為主抽泵，真空極限高達2.0?10-5Pa，另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限高達3.0?10-6Pa； 真空抽速：大氣～5?10-4Pa≤30min（手套箱環(huán)境中）； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板，基片臺公轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0～20r/min可調(diào)，襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調(diào)可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 蒸發(fā)源及電源：4～6組歐美技術(shù)金屬或有機束源爐蒸發(fā)源可選，多元共蒸獲得復(fù)合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩(wěn)定；真空專業(yè)蒸發(fā)電源，恒流/恒功率控制，電流、功率可以預(yù)先設(shè)置，可實現(xiàn)一鍵啟動和停止的自動控制功能； 膜厚監(jiān)控儀：采用國產(chǎn)或進口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn)一鍵抽停真空。