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新型親水抗菌膜及制備方法
目前主流的抗菌膜制備方法是在基膜表面接枝抗菌物質(zhì)，常用的抗菌材料包括氧化石墨烯、碳納米管、抗菌聚合物、金屬離子等，但這些材料普遍存在著接枝方式復(fù)雜，且對(duì)環(huán)境有危害的缺陷。相比而言，季銨鹽類(lèi)抗菌劑具有抗菌效果好，環(huán)境友好等特點(diǎn)，目前水溶性的小分子或高分子季銨鹽抗菌劑已經(jīng)廣泛應(yīng)用于水處理、食品、醫(yī)療衛(wèi)生和包裝材料等領(lǐng)域。然而，將季銨化合物直接接枝到膜表面所制備的抗菌膜仍存在制備流程復(fù)雜，成本較高等問(wèn)題，這也使得目前開(kāi)發(fā)的大部分季銨鹽功能膜無(wú)法大規(guī)模應(yīng)用于實(shí)際水處理系統(tǒng)。因此，為解決以上問(wèn)題，開(kāi)發(fā)新型親水抗菌功膜的制備方法是目前業(yè)內(nèi)所亟需的。
本成果中提出的制備方法將氯甲基化聚合物制備為中空纖維多孔膜，并制作為管殼式膜組件，之后采用過(guò)濾操作模式直接將叔胺化合物接枝到組件中的中空纖維膜絲上，從而制備出具有優(yōu)良抗菌性能的季銨化功能膜組件。該制備方法簡(jiǎn)單便捷，且接枝穩(wěn)定性高，適合長(zhǎng)期大規(guī)模應(yīng)用于實(shí)際膜法水處理體系中，且制備的超濾膜具有良好的親水性和抗菌性。抗菌膜制備簡(jiǎn)單便捷，常溫常壓過(guò)濾操作即可完成接枝，且接枝穩(wěn)定性高，成本低，對(duì)水體中微生物去除率99.9%以上，尤其能抑制微生物在膜上（內(nèi)外表面，孔道壁面）生長(zhǎng)。
圖1.性能參數(shù)
北京理工大學(xué)
2025-02-10
植物表型成像分析系統(tǒng)（植物自動(dòng)傳送版）
產(chǎn)品詳細(xì)介紹
PlantScreen植物表型成像分析系統(tǒng)（植物自動(dòng)傳送版）
PlantScreen植物表型成像系統(tǒng)由捷克PSI公司研制生產(chǎn)，整合了LED植物智能培養(yǎng)、自動(dòng)化控制系統(tǒng)、葉綠素?zé)晒獬上駵y(cè)量分析、植物熱成像分析、植物近紅外成像分析、植物高光譜分析、自動(dòng)條碼識(shí)別管理、RGB真彩3D成像、自動(dòng)稱(chēng)重與澆灌系統(tǒng)等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，以最優(yōu)化的方式實(shí)現(xiàn)大量植物樣品——從擬南芥、玉米到各種其它植物的全方位生理生態(tài)與形態(tài)結(jié)構(gòu)成像分析，用于高通量植物表型成像分析測(cè)量、植物脅迫響應(yīng)成像分析測(cè)量、植物生長(zhǎng)分析測(cè)量、生態(tài)毒理學(xué)研究、性狀識(shí)別及植物生理生態(tài)分析研究等。作為全球第一家研制生產(chǎn)植物葉綠素?zé)晒獬上裣到y(tǒng)的廠家，PSI公司在植物表型成像分析領(lǐng)域處于全球的技術(shù)前列，大面積葉綠素?zé)晒獬上穹治龉δ苁筆lantScreen成為植物表型分析與功能成像分析的最為先進(jìn)的儀器設(shè)備，使植物生長(zhǎng)、脅迫響應(yīng)等測(cè)量參數(shù)達(dá)100多個(gè)。
左圖為整套PlantScreen系統(tǒng)，中圖為成像室，右圖為成像室中的玉米
PlantScreen系統(tǒng)包括如下成像分析功能：
1. 葉綠素?zé)晒獬上穹治觯簡(jiǎn)畏上衩娣e35x35cm，成像測(cè)量參數(shù)包括Fo, Fm, Fv, Fo’, Fm’, Fv’, Ft, Fv/Fm, Fv’/Fm’, Phi_PSII, NPQ, qN, qP, Rfd等幾十個(gè)葉綠素?zé)晒鈪?shù)
2. RGB成像分析：成像測(cè)量參數(shù)包括：
1) 葉面積（Leaf Area: Useful for monitoring growth rate）
2) 植物緊實(shí)度／緊密度（Solidity/Compactness. Ratio between the area covered by the plant’s convex hull and the area covered by the actual plant）
3) 葉片周長(zhǎng)（Leaf Perimeter: Particularly useful for the basic leaf shape and width evaluation (combined with leaf area)）
4) 偏心率（Eccentricity: Plant shape estimation, scalar number, eccentricity of the ellipse with same second moments as the plant (0...circle, 1...line segment)）
5) 葉圓度（Roundness: Based on evaluating the ratio between leaf area and perimeter. Gives information about leaf roundness）
6) 葉寬指數(shù)（Medium Leaf Width Index: Leaf area proportional to the plant skeleton (i.e. reduction of the leaf to line segment)）
7) 葉片細(xì)長(zhǎng)度SOL (Slenderness of Leaves)
8) 植物圓直徑（Circle Diameter. Diameter of a circle with the same area as the plant）
9) 凸包面積（Convex Hull Area. Useful for compactness evaluation）
10) 植物質(zhì)心（Centroid. Center of the plant mass position (particularly useful for the eccentricity evaluation)）
11) 節(jié)間距（Internodal Distances）
12) 生長(zhǎng)高度（Growth Height）
13) 植物三維最大高度和寬度（Maximum Height and Width of Plant in 3 Dimensions）
14) 相對(duì)生長(zhǎng)速率（Relative growth rate）
15) 葉傾角（Leaf Angle）
16) 節(jié)葉片數(shù)量（Leaf Number at Nodes）
17) 其它參數(shù)如用于植物適合度估算的顏色定量分級(jí)、綠度指數(shù)（Other parameters such as color segmentation for plant fitness evaluation, greening index and others）
3. 高光譜成像分析（選配），可成像并分析如下參數(shù)：
1) 歸一化指數(shù)（Normalized Difference Vegetation Index (NDVI)）
2) 簡(jiǎn)單比值指數(shù)（Simple Ratio Index, Equation: SR = RNIR / RRED）
3) 改進(jìn)的葉綠素吸收反射指數(shù)（Modified Chlorophyll Absorption in Reflectance Index (MCARI1), ?Equation: MCARI1 = 1.2 * [2.5 * (R790- R670) - 1.3 * (R790- R550)]）
4) 最優(yōu)化土壤調(diào)整植被指數(shù)（Optimized Soil-Adjusted Vegetation Index (OSAVI)?, Equation: OSAVI = (1 + 0.16) * (R790- R670) / (R790- R670 + 0.16)）
5) 綠度指數(shù)（Greenness Index (G), Equation: G = R554 / R677）
6) 改進(jìn)的葉綠素吸收反射指數(shù)（Modified Chlorophyll Absorption in Reflectance Index (MCARI), ?Equation: MCARI = [(R700- R670) - 0.2 * (R700- R550)] * (R700/ R670)）
7) 轉(zhuǎn)換類(lèi)胡羅卜素指數(shù)（Transformed CAR Index (TCARI)?, Equation: TSARI = 3 * [(R700- R670) - 0.2 * (R700- R550) * (R700/ R670)]）
8) 三角植被指數(shù)（Triangular Vegetation Index (TVI)?, ?Equation: TVI = 0.5 * [120 * (R750- R550) - 200 * (R670- R550)]）
9) ZMI指數(shù)（Zarco-Tejada & Miller Index (ZMI), Equation: ZMI = R750 / R710）
10) 簡(jiǎn)單比值色素指數(shù)（Simple Ratio Pigment Index (SRPI), Equation: SRPI = R430 / R680）
11) 歸一化脫鎂作用指數(shù)（Normalized Phaeophytinization Index (NPQI), Equation: NPQI = (R415- R435) / (R415+ R435)）
12) 光化學(xué)植被反射指數(shù)（Photochemical Reflectance Index (PRI), Equation: PRI = (R531- R570) / (R531+ R570)）
13) 歸一化葉綠素指數(shù)（Normalized Pigment Chlorophyll Index (NPCI), NPCI = (R680- R430) / (R680+ R430)）
14) Carter指數(shù)（Carter Indices?, Equation: Ctr1 = R695 / R420; Ctr2 = R695 / R760）
15) Lichtenthaler指數(shù)（Lichtenthaler Indices?, Equation: Lic1 = (R790 - R680) / (R790 + R680); Lic2 = R440 / R690）
16) SIPI指數(shù)（Structure Intensive Pigment Index (SIPI), Equation: SIPI = (R790- R450) / (R790+ R650)）
17) Gitelson－Merzlyak指數(shù)（Gitelson and Merzlyak Indices?, ?Equation: GM1 = R750/ R550; GM2 = R750/ R700）
4. 熱成像分析（選配）：用于成像分析植物在光輻射情況下的二維發(fā)熱分布，良好的散熱可以使植物耐受較長(zhǎng)時(shí)間的高光輻射或低水條件（干旱）
5. 近紅外成像分析（選配）：用于觀測(cè)分析植物的水分狀態(tài)及其在不同組織間的分布變異，處于良好澆灌狀態(tài)的植物表現(xiàn)出對(duì)近紅外光譜的高吸收性，而處于干旱狀態(tài)的植物則表現(xiàn)出對(duì)近紅外光譜的高反射性，通過(guò)分析軟件可以監(jiān)測(cè)分析從干旱脅迫到再澆灌過(guò)程中的整個(gè)過(guò)程動(dòng)態(tài)及植物對(duì)干旱脅迫的響應(yīng)和水分利用效率，并形成假彩圖像，可以與植物的形態(tài)指數(shù)及葉綠素?zé)晒庵笖?shù)進(jìn)行相關(guān)分析研究。
系統(tǒng)配置與工作原理：
整套系統(tǒng)由自動(dòng)化植物傳送系統(tǒng)、光適應(yīng)室、RGB成像、FluorCam葉綠素?zé)晒獬上瘛⒏吖庾V成像、植物熱成像、植物近紅外成像、自動(dòng)澆灌施肥與稱(chēng)重系統(tǒng)、植物標(biāo)識(shí)系統(tǒng)等組成，光適應(yīng)室內(nèi)的植物可由傳送帶傳送到成像室進(jìn)行成像分析等。
技術(shù)指標(biāo)：
1. 自動(dòng)裝載與卸載植物樣品，通過(guò)條形碼或RFID標(biāo)簽識(shí)別跟蹤樣品
2. 光適應(yīng)室：用于光照適應(yīng)或植物培養(yǎng)，LED光源光照強(qiáng)度達(dá)1000μmol/m2.s，無(wú)熱效應(yīng)，強(qiáng)度0－100%可調(diào)，可通過(guò)實(shí)驗(yàn)程序預(yù)設(shè)光照周期變化，可選配通用型或?qū)Ｓ眯腿缢旧L(zhǎng)觀測(cè)室等，還可選配三維掃瞄成像分析功能（包括XYZ三維掃瞄成像系統(tǒng)和軟件）
3. 標(biāo)配托盤(pán)架30x30cm，用于安放盆栽植物或可以盛放多個(gè)小花盆的托盤(pán)
4. 自動(dòng)傳送系統(tǒng)由光適應(yīng)室到成像室形成一個(gè)環(huán)形傳送通道，傳送帶采用具變速器的三相異步馬達(dá)，200-1000W，傳送帶寬320mm，負(fù)載力130kg，速度9m/min
5. 移動(dòng)控制系統(tǒng)中央處理單元：CJ2M-CPU33；數(shù)字I/O：最大2560點(diǎn)；PLC通訊：通過(guò)以太網(wǎng)100Mb/s高端PC；OMRON MECHATROLINK-II 最大16軸精確定位
6. 植物成像測(cè)量室：150cm(長(zhǎng))x150cm(寬)x220cm(高)，與環(huán)境光隔離（light-isolated），快速自動(dòng)開(kāi)啟關(guān)閉門(mén)，開(kāi)啟關(guān)閉周期小于3秒，傳送帶入口具光幕傳感系統(tǒng)、條碼識(shí)別器和RFID讀取器
7. RFID讀取器辨識(shí)距離：2-20cm；通訊：RS485；條碼識(shí)別器可讀取1維、2維和QR碼，具LED光源便于弱光下辨識(shí)，RS485通訊
8. F3EM2光幕系統(tǒng)，精確測(cè)量植物高度和寬度以便進(jìn)入成像測(cè)量室后攝像頭自動(dòng)精確定位，測(cè)量范圍150cm，分辨率5mm
9. 葉綠素?zé)晒獬上瘢喊ü飧綦x成像室、自動(dòng)開(kāi)啟與關(guān)閉門(mén)、傳送帶、PLC控制自動(dòng)上下移動(dòng)聚焦系統(tǒng)、4個(gè)LED光源板、8位綠波輪等，單幅成像面積35x35cm，測(cè)量光橙色620nm，橙色和白色雙波長(zhǎng)光化學(xué)光，飽和光閃為白色或藍(lán)色
10. 自動(dòng)灌溉與稱(chēng)重，可同時(shí)對(duì)5個(gè)植物種植盆進(jìn)行澆灌和稱(chēng)重，精確度±1g；稱(chēng)重后精確澆灌，可通過(guò)實(shí)驗(yàn)程序（protocol）預(yù)設(shè)澆灌過(guò)程（regime）或干旱脅迫狀態(tài)，還可選配營(yíng)養(yǎng)供給系統(tǒng)隨澆灌定量供給植物營(yíng)養(yǎng)（如氮肥等）；稱(chēng)重前自動(dòng)零校準(zhǔn)，還可通過(guò)已知重量（如砝碼）物品自動(dòng)進(jìn)行再校準(zhǔn)；防護(hù)級(jí)別：IP66
11. 稱(chēng)重系統(tǒng)由4個(gè)稱(chēng)重單元組成，安全承載限：150% Ln；溫度補(bǔ)償：-10－40°C，標(biāo)配測(cè)量范圍7kg，可選配10kg、15kg或20kg
12. RGB成像：頂部和側(cè)面三維成像（3個(gè)攝像頭），每個(gè)攝像頭各自擁有獨(dú)立的控制面盤(pán)以設(shè)置曝光時(shí)間、增益、白平衡等，通過(guò)控制面盤(pán)的快照鍵可即時(shí)拍照并顯示分辨率等信息，還可通過(guò)自動(dòng)模式自動(dòng)成像并存儲(chǔ)至數(shù)據(jù)庫(kù)，每次掃瞄成像時(shí)間小于10秒
13. RGB成像系統(tǒng)包括成像室（光隔離）、傳送帶及位置傳感器、3個(gè)攝像頭、光源及成像分析軟件，標(biāo)配成像范圍150cm(長(zhǎng))x150cm(寬)x150cm(高)，LED冷白光源（不對(duì)植物產(chǎn)生熱效應(yīng)）
14. 標(biāo)配USB以太網(wǎng)攝像頭，有效像素4008x2672，像素大小9.0μm，比特分辨率12比特，光量子效率：藍(lán)光峰值465nm，綠色峰值540nm，紅色峰值610nm；28mm光學(xué)鏡頭，口徑43.2mm，光圈范圍2.8－F16
15. NIR近紅外成像單元：可成像采集1450－1600nm水吸收波段，以反映植物水分狀況，在供水充沛情況下表現(xiàn)出高NIR吸收值，干旱脅迫情況下則表現(xiàn)出高NIR反射，NIR假彩色成像可以通過(guò)軟件反映和分析植物水分狀況
16. 高光譜成像單元包括光隔離成像測(cè)量室、自動(dòng)開(kāi)啟關(guān)閉門(mén)、傳送帶、PLC控制自動(dòng)移動(dòng)聚焦鏡頭包括SWIR和VNIR鏡頭、光源、成像分析系統(tǒng)等，VNIR鏡頭波段380nm－1000nm，光圈F/0.2，縫隙寬度25μm，縫隙長(zhǎng)度18mm，幀速12－236 fps；SWIR鏡頭波段900－2500nm，光圈F/0.2，縫隙寬度25μm，縫隙長(zhǎng)度18mm，幀速60或100 fps，視野150x100cm
17. 用戶可通過(guò)實(shí)驗(yàn)程序選擇SWIR成像、VNIR成像或兩個(gè)鏡頭全波段成像，每個(gè)鏡頭成像時(shí)間分別為15秒
18. 熱成像單元：分辨率640x480像素，溫度范圍20－120°C，靈敏度NETD<0.05°C@30°C/50mK，成像面積可達(dá)150x150cm
19. 可選配人工氣候室，植物生長(zhǎng)面積9.5m2，生長(zhǎng)高度2.0m，溫度穩(wěn)定性±1°C，430nm－730nm白色和IR LED 光源，1000μmol/m2/s（距離植物100cm高度的光強(qiáng)）,可預(yù)設(shè)自動(dòng)光照周期動(dòng)態(tài)，
20. 系統(tǒng)控制與數(shù)據(jù)采集分析系統(tǒng)：
? 用戶友好的圖形界面
? 用戶定義、可編輯自動(dòng)測(cè)量程序（protocols）
? MySQL數(shù)據(jù)庫(kù)管理系統(tǒng)，可以處理?yè)碛猩锨f(wàn)條記錄的大型數(shù)據(jù)庫(kù)，支持多種存儲(chǔ)引擎，相關(guān)數(shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ)于數(shù)據(jù)庫(kù)中的不同表中
? 植物編碼注冊(cè)功能：包括植物識(shí)別碼、所在托盤(pán)的識(shí)別碼等存儲(chǔ)在數(shù)據(jù)庫(kù)中，測(cè)量時(shí)自動(dòng)提取自動(dòng)讀取條形碼或RFID標(biāo)簽
? 觸摸屏操作界面，在線顯示植物托盤(pán)數(shù)量、光線強(qiáng)度、分析測(cè)量狀態(tài)及結(jié)果等，輕松通過(guò)軟件完全控制所有的機(jī)械部件和成像工作站
? 可用默認(rèn)程序進(jìn)行所有測(cè)量，也可通過(guò)開(kāi)發(fā)工具創(chuàng)建自定義的工作過(guò)程，或者手動(dòng)操作LED光源開(kāi)啟或關(guān)閉、RGB掃面成像、葉綠素?zé)晒獬上瘛⒎Q(chēng)重及澆灌等
? 實(shí)驗(yàn)程序（Protocols）具備起始鍵、終止鍵、暫停鍵
? 可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求自動(dòng)控制植物樣品的移動(dòng)和單一成像站的激活
? 可提供3個(gè)相機(jī)視角的RGB數(shù)字生長(zhǎng)分析，包含閾值分析和顏色分析
? 對(duì)于葉綠素?zé)晒獬上駡D片，軟件可批量進(jìn)行淬滅參數(shù)分析，包含了在背景去除圖像上用戶感興趣區(qū)域和像素值的平均。分析數(shù)據(jù)以原始圖像和分析數(shù)據(jù)的形式存儲(chǔ)在數(shù)據(jù)庫(kù)中。
? 對(duì)FIR熱成像圖，16位圖可直接導(dǎo)出到MATLAB或通過(guò)軟件生成溫度分布的假彩圖像。
部分用戶：
1. 國(guó)際水稻研究所（菲律賓）The International Rice Research Institute, Los Banos Philippines
2. 澳大利亞聯(lián)邦科學(xué)與工業(yè)研究組織植物表型組學(xué)中心The CSIRO Plant Phenomics Center, Canberra, Australia
3. 澳大利亞國(guó)立大學(xué)The Australian National University, Canberra. Australia
4. 孟山都公司（美國(guó)）Monsanto Corporation, St. Louis, USA.
5. 杜邦先鋒國(guó)際良種公司Pioneer-Dupont, Des Moines, Iowa
6. 巴斯夫公司Metanomics（柏林）Metanomics (BASF), Berlin, GDR
7. 巴斯夫公司CropDesign（比利時(shí)）CropDesign (BASF), Nevele, Belgium
8. 美國(guó)合成基因公司Synthetic Genomics, La Jolla, USA
9. Palacky 大學(xué)Palacky University Olomouc, Czech Republic
10. Masaryk 大學(xué)Masaryk University Brno, Czech Republic
產(chǎn)地：歐洲
北京易科泰生態(tài)技術(shù)有限公司
2021-08-23
植物的身體
產(chǎn)品詳細(xì)介紹
南寧市成青草工藝品有限公司
2021-08-23
菌類(lèi)植物標(biāo)本
產(chǎn)品詳細(xì)介紹
鄞縣五鄉(xiāng)三星教具工藝品廠
2021-08-23
植物腹膜標(biāo)本
產(chǎn)品詳細(xì)介紹 海洋水產(chǎn)標(biāo)本
山東弘儒教育裝備有限公司
2021-08-23
植物細(xì)胞模型
寧波浪力儀器有限公司（余姚市朗海科教儀器廠）
2021-08-23
植物分類(lèi)圖譜
寧波華茂文教股份有限公司
2021-08-23
植物根尖縱切
寧波華茂文教股份有限公司
2021-08-23
合金石墨-高壓水熱反應(yīng)釜
主要技術(shù)指標(biāo)
（1）．工作溫度：≤500℃
（2）．工作壓力：≤20MPa（表壓）
（3）、規(guī)格；25、50、100、200、500、800ml。另可根據(jù)用戶需求定做。
（4）.操作方法
1、高壓水熱合成反應(yīng)釜用全不銹鋼材料，外殼材質(zhì)為304材質(zhì)。
2、高壓水熱合成反應(yīng)釜使用溫度在500度以下，500度以下；工作壓力≤20MPa
3、高壓水熱合成反應(yīng)釜采用硬密封的原理，不會(huì)泄漏。
4、高壓水熱合成反應(yīng)釜使用時(shí)將法蘭上的螺栓松開(kāi)，溶液杯取出溶液裝入杯中，然后放在釜體內(nèi)，將上蓋密封槽與杯體上密封球面裝在一起，注意：把緊螺栓時(shí)要對(duì)立面把緊，用力要均勻。不要一次性將任何一個(gè)螺栓把緊，當(dāng)對(duì)立面螺栓均勻用力把緊時(shí)，再用力將所有螺栓對(duì)面把緊，方可進(jìn)行操作升溫。
5、高壓水熱合成反應(yīng)釜當(dāng)溫度達(dá)到要求時(shí)，準(zhǔn)備取出溶液杯將螺栓對(duì)立面均勻松開(kāi)，不允許一次性將任何一個(gè)螺栓全松開(kāi)，那樣會(huì)損傷上蓋密封槽和杯體上端密封面。
6、高壓水熱合成反應(yīng)釜注意保護(hù)杯體上端密封球面，不能有磕、碰傷，或其它污物。
7、高壓水熱合成反應(yīng)釜使用時(shí)注意清理上蓋密封槽內(nèi)的雜物，不能有污物和雜質(zhì)，如不清理干凈使用時(shí)會(huì)泄漏。
8、高壓水熱合成反應(yīng)釜上蓋外端中心帶有密封絲堵，它是用來(lái)檢驗(yàn)溶液杯密封進(jìn)氣試壓接口。日常或使用過(guò)程中，不要將它打開(kāi)，防止泄漏。
9、高壓水熱合成反應(yīng)釜在使用過(guò)程中，如有泄漏現(xiàn)象返廠修復(fù)。
有下列情形的，不在保修范圍。
（1）釜體磕、碰變形或嚴(yán)重?fù)p傷。
（2）溶液杯體上端密封球面有磕、碰傷痕
（3）釜體上蓋密封槽有磕、碰劃傷等。
鞏義市城區(qū)眾合儀器供應(yīng)站
2025-04-27
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新型半水-二水濕法磷酸工藝
成果描述：新型半水-二水濕法磷酸系統(tǒng)（NHDP），可生產(chǎn)40%高濃度磷酸，副產(chǎn)潔凈的高強(qiáng)半水石膏，磷礦適用性強(qiáng)，磷收率高。是濕法磷酸生產(chǎn)的重要進(jìn)展。 其主要工藝性能為大量雜質(zhì)在反應(yīng)過(guò)程中被分離，生產(chǎn)線將副產(chǎn)潔白的高強(qiáng)度α半水石膏，此石膏可直接用于建筑材料，如做建筑石膏粉，石膏板等。還可以進(jìn)一步加工成無(wú)水石膏晶須，作為紙張，塑料生產(chǎn)的原料。磷酸濃度可達(dá)到40%，省去了蒸發(fā)濃縮過(guò)程。因而從根本上改變了現(xiàn)有濕法磷酸生產(chǎn)過(guò)程。同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)伴生稀土原礦的初次富集。已建2萬(wàn)噸P2O5/年生產(chǎn)裝置。市場(chǎng)前景分析：目前國(guó)內(nèi)濕法磷酸生產(chǎn)均用普通二水工藝，產(chǎn)能約1000萬(wàn)噸P2O5，磷石膏污染較大，采用新工藝消除磷石膏污染是迫切需要解決的問(wèn)題與同類(lèi)成果相比的優(yōu)勢(shì)分析：國(guó)際領(lǐng)先 □
四川大學(xué)
2021-04-10