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產品詳細介紹PID光離子氣體傳感器PID-A1（大量程 ）一、 PID-A1氣體傳感器產品簡介： 光電離子探測器（PHOTO IONIZATION DETECTORS）可以測量(100ppb-6000ppm)量程范圍的VOC（可揮發性有機物）和一些有毒氣體。許多有害物質原料都含有VOC，PID由于其對VOC的高靈敏度，成為有害物質早期危險報警、泄漏監測等不可缺少的實用工具。 二、PID-A1氣體傳感器主要特性： 1、 A系列標準尺寸，帶有微型聚光光源。 2、 測量范圍：300ppm3、 工作環境，-40到55度，相對濕度0-95％ 4、 工作電壓，3-3.6V 5、 功耗，110mW 6、 過載：6000ppm（以異丁烯參考） 8、 在自由擴散情況下響應時間小于3秒 9、 使用壽命大于5年（不含UV燈和柵極） 10、 A系列標準尺寸插針 11、 可以替代CITY產品 

一、產品簡介      光無源器件是光纖通信設備的重要組成部分。它是一種光學元器件，也是其它光纖應用領域不可缺少的元器件。該實驗儀重點介紹了常用的光無源器件的相關參數及測試方法，主要包括光纖轉換器、光纖變換器、光纖耦合器，光纖隔離器、光纖衰減器、WDM等器件的參數的測試原理及測試方法。幫助學生直觀的了解各種光無源器件的性能，從而更準確的使用不同器件進行光纖通信方面實驗。 二、實驗內容  1、光纖轉換器測試實驗  2、光纖變換器測試實驗  3、光纖耦合器測試實驗  4、光纖隔離器特性測試實驗  5、波分復用器和解復用器測試實驗  6、可調光纖衰減器測試實驗  7、光纖機械光開關特性測試實驗  8、光纖偏振控制器特性測試實驗  9、光纖偏振分束器（PBS）性能能參數測試實驗 三、實驗配置參數 1、光源：波長1310±20nm，1550±20nm；輸出功率：1-2.5mw，連續可調；輸出端口：FC/PC；穩定性＜0.5db（5h）；光源類型：LD光源； 2、光功率計：波長范圍800-1700nm；輸入接口：FC 校準波長：1550nm,1310nm； 3、偏振控制器：插入損耗＜0.05dB；消光比＞40dB；回波損耗＞65dB； 4、光纖機械光開關：插入損耗：1310/1550  P1→P2 0.56/0.54 dB ，P1→P3 0.53/0.47 dB ;回波損耗＞50dB ；開關速度：≦8ms ； 5、高隔離度光纖隔離器：最大插入損耗：0.35dB ；回波損耗：≧50dB ；隔離度：≧30dB ； 6、光纖耦合器：分光比：50% : 50% ；最大插入損耗1310/1550: 3.3dB ; 7、光纖波分復用器：隔離度：1310nm ：31.8% ；1550nm ：34%；插入損耗：1310nm ：0.30%；1550nm ：0.34% ； 8、光纖可調衰減器：0-30db可調； 9、配置：光纖光源，光纖光功率計、光纖耦合器、光波分復用器、光纖偏振控制器、光纖偏振分束器，可調衰減器、光纖隔離器、光纖機械光開關、法蘭盤、實驗指導書及實驗錄像光盤等。 四、實驗目的 1、了解光連接器及其原理、種類，實驗操作進行連接器參數測量； 2、掌握光纖偏振控制器工作原理，實驗操作單模光纖偏振狀態控制； 3、了解光纖耦合器用途及其性能參數，實驗操作測量耦合器特性參數測量； 4、了解光纖隔離器用途及其性能參數，實驗操作光纖隔離器特性參數測量； 5、了解光纖光開關用途及其性能參數，實驗操作光纖光開關特性參數測量； 6、了解光波分復用器（WDM）的原理與意義，操作雙波長波分復用（WDM）的原理性實驗；

由上海復旦天欣科教儀器有限公司研制生產的磁光克爾與法拉第效應綜合測試系統將兩種研究磁光效應的實驗結合于同一套測試系統中。在表面磁光克爾效應的研究中，應用該系統可以自動改變電磁鐵電流大小及方向，并實時采集記錄偏振光信號與磁場強度信號的改變，從而獲得薄膜樣品矯頑力、磁各異性等方面的信息；在法拉第效應的實驗中加入了控溫裝置，可在不同溫度下利用正交消光法檢測樣品的的費爾德常數。 應用該實驗儀主要完成以下實驗： 1．磁光克爾效應實驗：測量薄膜或者塊狀拋光鐵磁性樣品的克爾旋轉角，分析其磁學性質； 2．常溫法拉第效應實驗：測量不同材料的常溫費爾德常數； 3．變溫法拉第效應實驗：測量不同溫度情況下材料的菲爾德常數，分析溫度對材料磁滯旋光的影響； 4．法拉第效應譜線測量：測量不同光譜照射情況下材料的菲爾德常數（選用不同波長的激光器）。

簡介 在外加磁場的作用下，物質的光學性質會發生改變，這就是磁光效應。磁光效應主要包含磁光克爾效應、法拉第磁致旋光效應、科頓 - 穆頓磁致雙折射效應。本實驗系統利用一套可以進行自由組合的實驗裝置，通過搭建不同的測量光路來實現對這三種完全不同的磁光效應 的測量。具體實驗內容為：測量鎳薄膜的磁光克爾旋轉角、測量蒸餾水的法拉第旋光系數、測量磁流體的磁致雙折射（科頓 - 穆頓效應） 的 o 光與 e 光的折射率差，其中前兩部分作為基礎性實驗內容開展面上實驗，第三部分作為研究性實驗內容可供在現有實驗基礎上開展研 究性實驗。

氧化銦錫（indium-tin-oxide）簡稱ITO，ITO靶材是一種功能陶瓷材料，主要用于制造ITO透明導電膜玻璃。以金屬銦、錫為原料采用共沉淀法制備出納米級ITO復合粉體。粉體造粒成型后分別采用加壓和常壓燒結法制備出相對理論密度大于99.5%、氧化銦單一相的ITO靶材。 粉體純度大于99.99%、顆粒分散性好，粒徑10nm—80nm之間可控，BET比表面積30~60m2/g ，In2O3:90.0±0.5%，SnO2: 10.0±0.5%；ITO靶材相對理論密度99.5%。 威海市藍狐特種材料有限公司已采用該技術建設年產20噸納米級氧化銦錫復合粉體生產線，采用該粉體燒制的ITO靶材相對理論密度達到99%以上。國內相對理論密度大于99%的ITO靶材主采用進口產品。 金屬銦、錫是我國的優勢資源，生產設備都是定型通用設備，年產20噸納米級氧化銦錫粉體和高密度ITO靶材的生產廠需要人員50名。納米級氧化銦錫粉體制備已建設年產20噸生產線。高密度ITO靶材的制備已完成實驗室小試。

本發明涉及一種二次激發型橙紅色熒光粉及其制備方法，屬于發光材料技術領域。熒光粉為Sr1-a-bCa1-x-cAl2-yMexREyO4S:aEu2+,bDy3+,cTm3+。式中Me為Zn、Cd、Mg中至少一種，RE為Ga、Zn、Ge、Si中至少一種；其中0

本發明涉及一種二次激發型橙紅色熒光粉及其制備方法，屬于發光材料技術領域。熒光粉為Sr1-a-bCa1-x-cAl2-yMexREyO4S:aEu2+,bDy3+,cTm3+。式中Me為Zn、Cd、Mg中至少一種，RE為Ga、Zn、Ge、Si中至少一種；其中0

本發明涉及一種二次激發型黃綠色熒光粉及其制備方法，屬于發光材料技術領域。熒光粉的組成為Srx-a-cAl3+2x-zY5-b-yREyMzO12+4x:aEu2+,bCe3+,cDy3+，其中RE為Tb、Gd、Lu中的至少一種；M為Ga、Zn、Ge、Si中的至少一種；0

本發明針對現在大量廢舊橡膠回收利用難題，提供了一種用于吸附重金屬的改性廢橡膠粉，以及制備這種改性廢橡膠粉的方法。通過化學改性，在廢橡膠粉表面引入使廢橡膠粉具有吸附重金屬離子能力的磺酸基團，改性的廢橡膠粉吸附重金屬離子后，在適當的條件下可脫附重金屬離子，具有再生能力。這種改性廢橡膠粉的具體制備方法為：在合適的溶劑中，采用酸酐或酸和廢橡膠粉進行化學反應，使廢橡膠粉表面活化，產生使廢橡膠粉具有吸附重金屬離子能力的磺酸基團。本發明的優越性在于改性后的廢橡膠粉具有高吸附量、吸附速率及可多次循環使用的特性，并且利用改性后的廢橡膠粉吸附污水中的重金屬，達到將廢棄橡膠的回收利用與污水凈化相結合的目的。

關鍵工序生產的自動化 ① 粉碎（雷蒙磨）自動控制系統的研發   研制可對粉碎車間雷蒙磨振動下料、粉碎、氣流粗分工況進行實時監測、自動優化控制的自動監控系統。將雷蒙磨因堵塞停機造成的故障次數比現階段減少75%，且提高工效15%以上。    ② 氣流分級自動控制系統的研發   研制氣流分級機用自動控制系統，具備以下功能：可根據分級輪主機負載實時自動調節喂料速度、根據所設定的風壓值自動調整變頻器運行、根據生產工藝要求自動向企業綜合信息平臺實時發送生產工況參數。    ③ 提純工序實時檢測與信息管理系統的研發   開發可對提純缸、脫水機、烘干爐等主要設備工況進行實時監控的智能化監控儀設備。    ④ 水力分級自動控制系統的研發   研發水力分級設備用自動控制系統，可根據工藝曲線要求自動控制水流量。采用水泵變頻控制，變常規的高低液位控制為恒液位控制，液位控制精度達到0.3%；研制出料自動切換裝置，實現出料無人值守。 ⑤ SiC冶煉爐在線自動測控裝置的研發   研制SiC冶煉爐在線自動測控裝置，可按冶煉工藝和爐溫自動進行恒功率綜合優化控制，爐溫控制精度達到2.5級。成果已在工廠正常運行3年。獲得4項發明專利授權，5項軟件著作權授權 雷蒙磨粉碎自動檢測方法及裝置                   專利號：ZL200810020792.3 一種提高碳化硅微粉水溢流分級效率的精密控制方法 專利號：ZL200910035173.6 一種燃煤鍋爐能效監測方法                      專利號：ZL201110091483.7 陣列式LED照明燈具的中心區域溫度動態控制方法  專利號：ZL201210356239.3 一種經濟型燃煤鍋爐能效監測系統及方法           專利號：ZL201110292517.9 一種低冗余度高可靠性船舶發電機組智能測速裝置 專利號：ZL201110058228.2一種手機可遙控的總線型區域供熱計量管理系統 專利號：ZL201010134495.9