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產(chǎn)品介紹 LST01-1B注射泵為灌注型單通道注射泵，觸屏控制，一體式結(jié)構(gòu) 適用場合：生物實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域，長時(shí)間動(dòng)物藥物微量注射實(shí)驗(yàn)．靜電紡絲，化學(xué)反應(yīng)注射實(shí)驗(yàn)等 技術(shù)參數(shù) ◇ 流量范圍：0.001μl-86.699ml/min ◇ 工作模式：灌注，抽取。 ◇ 通道數(shù)量：1 ◇ 行程范圍：≤140mm ◇ 行程分辨率：0.156μm ◇ 線速度范圍：5μm/min-130mm/min(流量=線速度×注射器內(nèi)截面積) ◇ 線速度調(diào)節(jié)分辨率：5μm/min ◇ 行程控制精度：誤差≤±0.5%(行程≥最大行程的30%時(shí)) ◇ 額定線性推力：＞180N ◇ 注射器保護(hù)功能：通過調(diào)整限位塊位置，可以防止注射器受損 ◇ 掉電記憶功能：1.EEPROM保存設(shè)置參數(shù)，重新上電后，無需重新設(shè)置。2.流量模式下運(yùn)行時(shí)斷電，恢復(fù)上電后可根據(jù)設(shè)置參數(shù)繼續(xù)運(yùn)行或停止 ◇ 堵車保護(hù)功能：當(dāng)工作過程中注射泵的推進(jìn)機(jī)構(gòu)被堵死，注射泵會(huì)停止推進(jìn)機(jī)構(gòu)的工作發(fā)出鳴笛警報(bào) ◇ 通信接口：RS485 ◇ 使用電源：AC 90V-260V/20W ◇ 工作環(huán)境溫度：0℃-40℃ ◇ 工作環(huán)境相對濕度：＜80% ◇ 外形尺寸：280×210×150 (長*寬*高  mm) ◇ 重量：3.8kg 微量注射泵型號(hào) 適用注射器規(guī)格 適用注射器內(nèi)徑(mm) 參考流量范圍(μl/min-ml/min) LST01-1B 10μl 0.50 0.001-0.0255 25μl 0.80 0.0025-0.0653 50μl 1.10 0.0048-0.1235 100μl 1.60 0.0101-0.2614 250μl 2.30 0.0208-0.5401 500μl 3.25 0.0415-1.0784 1ml 4.72 0.0875-2.2747 2ml 9.00 0.3181-8.2702 5ml 13.10 0.6739-17.522 10ml 16.60 1.0821-28.135 20ml 19.00 1.4716-36.856 30ml 23.00 2.0774-54.012 60ml 29.14 3.3346-86.699  

    

     

該產(chǎn)品采用了創(chuàng)新型結(jié)構(gòu)，具有較強(qiáng)的承載能力和大阻尼特性，可用于中、重型動(dòng)力裝置的隔振。其阻尼峰值及頻率可以依據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行調(diào)節(jié)，從而大幅度降低振動(dòng)與噪聲水平，顯著提高乘坐舒適性，并且結(jié)構(gòu)簡單，成本較低。采用了特別的保護(hù)措施，具有良好的密封性和較高的可靠性。樣品已通過動(dòng)態(tài)特性測試和裝車實(shí)驗(yàn)，也可進(jìn)行乘用車動(dòng)力裝置匹配。

本發(fā)明公開了一種液滴陣列PCR芯片，所述芯片是以單晶硅片或玻璃片為基材，采用標(biāo)準(zhǔn)光刻和濕法刻蝕技術(shù)制備得到，所述的芯片以單晶硅片或玻璃片為基材、在所述的基材上依次附著SiO2氧化層、由SiO2氧化層表面硅烷化生成的硅烷層，所述的硅烷層布置有光刻膠工藝刻蝕形成的可形成液滴狀陣列的親水坑陣列，所述親水坑陣列外圍設(shè)置有封閉成環(huán)的護(hù)欄，所述的護(hù)欄與所述硅烷層液密封連接。并公開了所述芯片應(yīng)用于實(shí)時(shí)定量聚合酶鏈?zhǔn)椒磻?yīng)檢測或?qū)崟r(shí)定量等溫?cái)U(kuò)增反應(yīng)檢測。本發(fā)明提供的檢測系統(tǒng)將反應(yīng)體積大為降低，而且檢測靈敏度和商品化定量PCR儀相當(dāng)。檢測體系簡單易操作，成本低，可應(yīng)用于商業(yè)化。

成果描述：采用化學(xué)法利用工業(yè)級(jí)三氧化二釩和五氧化二釩制備全釩氧化還原液流電池電解液，不引入其它金屬離子雜質(zhì)。本制備方法具有工藝流程短、設(shè)備簡單、耗時(shí)短、原料利用率高、成本低、避免二次污染等優(yōu)點(diǎn)。 用本方法制備的電解液中 V3+、V4+離子濃度比為 1:1，電解液可同時(shí)作為電池的正負(fù)極電解液，避免了采用硫酸氧釩溶液做電解液時(shí)正、負(fù)極電解液電荷不匹配問題，簡化了電池初始化工序，降低了生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)效率。市場前景分析：釩電池主要應(yīng)用于太陽能和風(fēng)能發(fā)電站的穩(wěn)定供電、電網(wǎng)調(diào)峰、集中用電的重要企業(yè)和部門以及通訊設(shè)備的備用電源，醫(yī)院、軍事上的應(yīng)急電源等領(lǐng)域。與同類成果相比的優(yōu)勢分析：反應(yīng)溫度75～95℃，反應(yīng)時(shí)間10～20min，制備的電解液中V3+、V4+離子濃度比為1:1。 國際先進(jìn)

本實(shí)用新型公開了一種定量均勻補(bǔ)液的培育裝置，包括補(bǔ)液盒以及放置于補(bǔ)液盒中的培養(yǎng)盒，所述培養(yǎng)盒底部開設(shè)有若干滲液孔，培養(yǎng)盒一側(cè)設(shè)置有注水裝置以及出水口。通過注水裝置向補(bǔ)液盒中注入水，然后將培養(yǎng)盒根據(jù)所需浸濕的深度放入補(bǔ)液盒中，在培養(yǎng)過程中，可以根據(jù)需求不斷添加或排除水分，該實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理，實(shí)用簡單，可以很好地解決培養(yǎng)試驗(yàn)中定量均勻補(bǔ)水或營養(yǎng)液的問題，避免因補(bǔ)水量不同以及因補(bǔ)水不均勻造成的實(shí)驗(yàn)誤差。

自動(dòng)化移液槍頭移裝系統(tǒng)，裝盒機(jī)構(gòu)和用于輸送移液槍頭的傳送機(jī)構(gòu)，裝盒機(jī)構(gòu)包括取槍頭機(jī)構(gòu)、用于槍頭盒平臺(tái)、電動(dòng)推桿、用于搭載槍頭盒平臺(tái)并可帶動(dòng)槍頭盒平臺(tái)沿兩個(gè)互為垂直的方向運(yùn)動(dòng)的水平工作臺(tái)；取槍頭機(jī)構(gòu)包括槍頭獲取裝置，及控制機(jī)構(gòu)；槍頭盒平臺(tái)的邊緣，遠(yuǎn)離電動(dòng)推桿的一端，設(shè)置有用于執(zhí)行扣合盒蓋的扣蓋機(jī)構(gòu)；扣蓋機(jī)構(gòu)包括安裝于工作平臺(tái)上的扣蓋條，沿槍頭盒被推動(dòng)的方向，扣蓋條向槍頭盒平臺(tái)的內(nèi)側(cè)、上方傾斜。可完成取移液槍頭、放移液槍頭，以及移液槍頭裝盒結(jié)束后，自動(dòng)扣合槍頭盒的盒蓋的移液槍頭裝盒全流程操作。整合裝盒過程中，不需人工干預(yù)，可提高移液槍頭的裝盒效率。

一、 項(xiàng)目簡介“硅單晶堿性拋光液及清洗液”項(xiàng)目,始自七十年代中期,不斷對產(chǎn)品研發(fā)與升級(jí)。FA/O硅單晶堿性拋光液，具有較高的拋光速率，能有效去除襯底表面損傷層，表面微粗糙度較低，可解決襯底片結(jié)底不平引起的噪聲增加、漏電流增大，實(shí)現(xiàn)了表面高完美性，提高了襯底片器件區(qū)的可靠性與襯底片良品率。FA/O硅單晶清洗液，采取特有的物理優(yōu)先吸附，有效去除拋光片表面顆粒物、有機(jī)物沾污，清洗后襯底片表面重金屬離子降至ppm級(jí)，達(dá)到了易清洗、高潔凈。二、 項(xiàng)目技術(shù)成熟程度該項(xiàng)目的研發(fā)、應(yīng)用，滿足了硅單晶襯底片加工高去除速率、低表面粗糙度、高表面完美性、易清洗、高表面潔凈、高可靠性等指標(biāo)的工業(yè)要求。自1994年至今，產(chǎn)品已累積銷售一千多噸，性能穩(wěn)定、質(zhì)量可靠。三、 技術(shù)指標(biāo)（包括鑒定、知識(shí)產(chǎn)權(quán)專利、獲獎(jiǎng)等情況）拋光液拋光速率1.2-1.5um/min,粗糙度達(dá)A級(jí)。清洗劑可達(dá)到微電子的需求。研發(fā)的拋光液獲國家1983年發(fā)明四等獎(jiǎng)、1990年發(fā)明三等獎(jiǎng)、清洗技術(shù)獲1999年國家三等獎(jiǎng)。拋光液、拋光清洗液列為國家級(jí)科技成果重點(diǎn)推廣計(jì)劃，列為國家重點(diǎn)新產(chǎn)品。申請專利授權(quán)中3項(xiàng)，授權(quán)6項(xiàng)。四、 市場前景（應(yīng)用領(lǐng)域、市場分析等）據(jù)統(tǒng)計(jì)，僅中國（含臺(tái)灣地區(qū)）硅單晶拋光液的年需求額40多億元。FA/O硅單晶堿性拋光液，廣泛用于硅分立器件、功率器件與集成電路襯底片加工。已多年供應(yīng)國內(nèi)華潤華晶、洛陽鼎晶、深圳深愛等多家知名企業(yè)，被指定唯一用于國家航天神五至神十專用集成電路高可靠襯底拋光片加工，具有廣泛的市場應(yīng)用前景。FA/O硅單晶清洗液，廣泛用于要求易清洗、高潔凈的硅襯底片清洗。已被中科晶電信息材料有限公司等多家知名企業(yè)應(yīng)用，市場應(yīng)用前景廣泛。五、 規(guī)模與投資需求（資金需求、場地規(guī)模、人員等需求）年產(chǎn)量5000噸的生產(chǎn)規(guī)模投資為約3000萬元，需千級(jí)以上超凈化廠房。可依產(chǎn)能需求調(diào)整資金投入。產(chǎn)品生產(chǎn)控制節(jié)點(diǎn)少，操作人員需求少，適于自動(dòng)化生產(chǎn)。六、 生產(chǎn)設(shè)備低壓真空系統(tǒng)、百級(jí)超凈車間、去離子水系統(tǒng)等。七、 效益分析生產(chǎn)工藝與操作簡單、成本低、環(huán)保性好，效益較高。八、 合作方式主要采取合作生產(chǎn)、代理代銷，可提供技術(shù)支持與培訓(xùn)，或面談。九、 項(xiàng)目具體聯(lián)系人及聯(lián)系方式（包括電子郵箱）項(xiàng)目聯(lián)系人：劉玉嶺 聯(lián)系電話：022-60204128Email：liuyl@jingling.com十、 高清成果圖片2-3張