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本發明屬高分子化學研究領域，具體涉及一種制備聚二氮雜環辛四烯的方法。利用均苯四甲酸二酐與取代苯進行傅克反應，制備取代苯甲酰基對(間)苯二甲酸，并分離取代苯甲?；鶎Ρ蕉姿岷腿〈郊柞；g苯二甲酸；取代苯甲?；鶎?間)苯二甲酸在氯化試劑作用下反應制備取代苯甲?；鶎?間)苯二甲酰氯，進而與疊氮化鈉反應生成苯甲?；鶎?間)苯甲酰疊氮。該疊氮化合物在高溫下通過Curtis重排生成異氰酸酯化合物，并在酸性條件下水解獲得取代苯甲酰基對(間)苯二胺，利用氨基與酮的縮合反應，直接縮聚制備聚二氮雜環辛四烯。本發明制備聚二氮雜環辛四烯，使用原料價格低廉，反應條件溫和，使其能夠應用于光電材料、電驅動聚合物、醫藥等領域。

以 3β-羥基-5α-雄甾烷-17-酮為原料先制得 3β,17-二羥基-20-炔-21-苯基(或為對甲苯基，或為對氧基苯基， 或為對氟苯基， 或為間氟苯基)-5α-雄甾烷， 然后通過 Meyer–Schuster重排得到 21-苯基(或為對甲苯基， 或為對氧基苯基， 或為對氟苯基， 或為間氟苯基)-5α-雄甾-17(20)-烯-21-酮的合成路線。 該方法具有合成步驟少，成本低，反應條件易控制，收率高，適于大量制備的優點。

雙環戊二烯氧乙基甲基丙烯酸酯是一種特殊功能性單體，具有耐水性、耐溶劑性、柔韌性、附著力好等優點，是光固化材料理想的活性稀釋劑。可廣泛地應用在UV涂料、膠黏劑、油墨，以及樹脂的改性等領域。

我們在國家自然科學基金、上海市青年科技啟明星計劃和上海市納米技術專項等資 助下研制開發的納米石墨相變儲能材料具有儲能密度高、導熱換熱效果優異、安全穩定、 阻燃和環境友好等優點。 技術指標：與現有的相變儲能材料相比，納米石墨基相變儲能材料的導熱系數提高 1～2 個數量級，相變溫度在-40～+70°C 之間連續可調，儲能密度可達 150～250J/g 左右， 經 1000 次循環后，性能劣化小于 5％。

本發明公開了一種石墨電極氣體開關的充氣配比控制裝置、充 氣裝置及方法；充氣配比控制裝置包括第一可控壓力閥、第二可控壓 力閥、第三可控壓力閥、第四可控壓力閥、第一氣壓傳感器、第二氣 壓傳感器、第一機電控制器、第二機電控制器、控制終端，第一緩沖 氣室、第二緩沖氣室和混合氣室。按照一定的惰性氣體設置方案，通 過一定充氣配比方法，控制終端控制機電傳感器，使可控壓力閥動作， 通過氣壓傳感器監控壓力值，使緩沖氣室中的充入的氣體達到設定的 氣壓值，最終在混合氣室中得到所需的完成配比的混合氣體，并完成 對氣體開關的

1.產品介紹 AA-1800EL型原子吸收光譜儀是采用國際新的技術和國內高校的專家聯手研發完成，擁有幾十年光譜儀器的研發和應用經驗。該產品包括火焰、石墨爐及氫化物發生系統，可配置多種附件，靈活的配置方案可滿足不同層次客戶的需求。全自動多功能AA-1800EL型原子吸收光譜儀可進行復雜的樣品分析，多種分析方法可自動切換，做到無人全自動分析。 AA-1800EL型原子吸收光譜儀廣泛應用于科研、質檢、疾控、環保、冶金、農林、化工等行業，創新的軟、硬件設計確保樣品分析的準確性、安全性、易用性，儀器維護簡單便捷。   性能特點 2.1. 全反射消色差光學系統。 色散率為1800條/毫米刻線大面積光柵，新型自準直單色器，所有鏡片均是石英鍍膜，寬廣的檢測范圍和光學穩定性確保了分析的精度、閃耀波長230nm光柵分光系統。 2.2. 八燈燈座 一燈工作，最多可以七燈預熱，節省了換燈和預熱時間，使元素測量更加快捷方便。 2.3. 全自動化 儀器采用全自動設計，除主機電源開關外，儀器的燈架控制、波長掃描、狹縫調節以及二維移動平臺等功能全部通過軟件控制完成。 2.4. 背景校正系統 具備氘燈與自吸收兩種背景校正模式，背景信號1A時，扣背景能力60倍以上。 2.5. 自主知識產權，功能完善，性能強大的分析軟件 人性化的操作界面，讓您的操作易如反掌，可切換中英文Windows風格軟件界面，全自動定性、定量分析，自動計算元素含量，自動生成測試報告。 2.6. 火焰系統特點 2.6.1. 高分子霧化室 高分子材料抗腐蝕霧化室，耐酸堿，包括氫氟酸，無論是有機或是無機溶液都能得到較好的靈敏度和穩定性； 2.6.2. 鈦燃燒器 鈦燃燒器，可選配50mm和100mm燃燒器，空冷預混合型，耐腐蝕，耐高鹽，大幅度提高火焰的效率和火焰分析的準確度； 2.6.3. 高精度防堵塞霧化器。 高效型霧化器，霧化效率高，維護更換方便。 2.6.4. 質量流量控制器實現乙炔流量控制。 質量流量控制器精確控制乙炔流量，精度達1ml/min，并對流量進行動態監測，使用方便，安全可靠。 2.6.5. 更多的安全保護措施，使樣品分析更加安全可靠。 采用高靈敏度探測器，對乙炔泄露進行實時監測； 采用高精度的壓力傳感器，對乙炔壓力進行實時監視； 采用高精度的壓力傳感器，對乙炔壓力進行空氣壓力監視； 采用微動開關及防火插銷，對燃燒頭狀態監視； 采用光敏二極管，對火焰狀態實時監視；   2.7. 石墨爐系統特點 2.7.1. 一體化設計。 石墨爐電源、原子吸收主機位于一臺儀器內，縮短了電纜長度，減少了石墨爐電源對外界的電磁干擾、提高了石墨管加熱效率。 2.7.2. 石墨爐控溫精度高，升溫速度快。 采用大功率變壓器、微阻電纜線以及光控升溫方式，并配合軟件、硬件溫度校正系統，高溫段控溫精度可達±1%。 2.7.3. 更多的安全保護措施，使樣品分析更加安全可靠。 石墨爐冷卻水具有流量實時監視和保護； 2.7.4. 通過壓力傳感器對載氣壓力監視 通過光敏二極管對石墨爐溫度監視 2.7.5. 自動載氣流量控制。 石墨爐內氣，外氣全部由計算機根據軟件升溫流程自動控制。 2.7.6. 150位轉盤式石墨爐自動進樣器。 極坐標轉盤式石墨爐自動進樣器，定位精度高，運行穩定可靠，使用維護方便。   數據處理 高智能軟件，功能強大，友好的中文操作界面。全自動儀器及附加控制，火焰、石墨爐工作模式可自動切換，可自動優化，自動稀釋；鼠標操作，自動設定菜單數據和校正方法； 石墨爐分析時，系統會給出全過程分析信息，包括測量值、溫度、程序、時間等， 并保存積分時間內所有測量的信號曲線和溫度曲線；測量數據可以實現動態顯示。標準曲線可以實現自動擬和；樣品測量準確：采用向導的方式對樣品進行設置，方便快捷；靈敏度校正功能：使測量的結果更為準確；參數打印，數據結果打印，圖形打印，可導出WORD、EXCEL文檔.

采用新型反應技術撞擊流反應TiCl4水解—沉淀法制取納米TiO2。在優化的、十分溫厚的條件下制得的400oC煅燒產品，經國家授權的分析測試單位用透射電鏡檢測，最小粒徑2.0，最大16，平均5.68 nm；晶型銳鈦礦。該細度是迄今同類方法即TiCl4水解－沉淀法制得產品之最。根據市場需求，可以生產粒徑較大例如40－50 nm的產品；也可提供無定型和金紅石型產品。(中國專利申請號Chinese Patent App No 02138720.6)。

本發明公開了一種納米氧化錫銻水性漿料的制備方法，包括如下步驟：1）將納米氧化錫銻粉體和去離子水經磁力攪拌，配成納米氧化錫銻粉體的質量含量為5%～10%的ATO粉體懸浮液；在ATO粉體懸浮液中加入硅烷偶聯劑，并滴加醋酸至pH為3.5～5.5，然后磁力攪拌1～2小時；2）在步驟1）所得的懸浮液中加入分散劑磁力攪拌1～2小時，然后調節粘度為70～90Pa.S，再磁力攪拌10～30分鐘；接著在高速剪切分散機下分散0.5～1小時，最后再超聲分散0.5～1小時，得到納米氧化錫銻水性漿料。采用本發明方法制備而得的納米氧化錫銻（ATO）水性漿料具有分散性好、穩定性強等特點。

超氧化物歧化酶(Superoxide Dismutase, SOD)，是一種源于生命體的活性物 質，能消除生物體在新陳代謝過程中產生的超氧陰離子自由基，從而能夠對由 超氧陰離子自由基引起的各種疾病和功能異常有預防和治療作用，如各種非特 異性炎癥、輻射損傷、自身免疫性疾病、缺血再灌注損傷等，因此在醫療、保 健品、化妝品領域有廣泛的應用。 

成果介紹針對我國生態文明建設的政策需要，針對“重化圍江”和污水排放劇增、處理難度加大、處理成本激增的現狀與日漸迫切的環保需求之間的矛盾。東南大學納米低維凈化材料創新團隊，在傳統芬頓氧化水處理技術的基礎上，充分發揮其反應速度快、降解效率高的特點，解決了其產生污泥二次污染、工序復雜、成本高的缺點，首創NSFO（無泥芬頓催化氧化耦合）技術。NSFO技術是離子交換樹脂、膜分離技術、厭氧-好氧生化池的互補技術，可應用于化工園區以及農藥醫藥行業，高含鹽、高毒性、高COD、低B/C比等難降解廢水的處理。技術特征：進水COD范圍1000-20000mg/L，原水不需稀釋，非接觸式全封閉深度處理。技術創新點及參數1.采用納米低維水處理催化劑，構筑組合新工藝增強氧化效能。2.在真空紫外光以及負載的金屬離子協同激發下，催化雙氧水產生超氧負離子和羥基自由基，進而促進高毒性、高濃度廢水的無害化處理。3.大幅提升處理效果的基礎上避免了污泥二次污染的產生。4.大幅簡化處理流程，原水不需稀釋，不需預調酸堿；大幅度削減廢水量，降低處理負荷。NSFO技術易于與自主開發的模塊化工裝設備相結合，充分發揮裝備化優勢，實現源頭處理、分質分流；免除土建施工，降低成本。市場前景NSFO 技術，是普適性和平臺型的核心反應技術，即能作為改善水質可生化性的預處理工藝，也可以廣泛應用于水務、印染、煤化工、石油化工、垃圾滲濾液等難降解工業廢水處理領域。該核心技術申請發明專利20余項，在處理高危廢水方面具有普適性，可以推廣到多領域的高COD、高含鹽、高毒性難降解廢水處理，在國內外均有廣闊的軍民兩用市場。目前正在開拓適用于民用航天市場以及石化醫藥化工市場的大規模處理裝置，預計軍用、民用市場容量高達5000萬/年。