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UV3紫外透射分析儀
產品詳細介紹1. 全封閉式暗箱和紫外防護板兩種設計，方便客戶根據實際需求選擇2. 根據紫外透射面積不同分為三種型號：UV3A 150mm×100mm UV3B 150mm×200mm UV3C 200mm×200mm3. 雙面拋光紫外玻璃厚度均勻，透射率高，觀察時無燈管陰影、背景清晰4. 透射波長：312nm5. 采用高頻電子控制，節能，啟動快，無閃爍，有效延長燈管壽命6. 強力風扇散熱，有效防止燈管熱量對凝膠樣品的影響7. UV3C增置254nm、365nm紫外光及可見光反射裝置，滿足更多實驗要求8. 可選配LCD-240白光板，可見光透射面積240mm×240mm9. 內置220V電源插座，方便其它實驗要求10. 暗箱式紫外透射儀預留CCD接口，可增置CCD和凝膠圖像分析軟件，進行定性或定量分析11. 外觀設計精致，節約實驗室空間12. 特別適合于科研實驗室和教學實驗室使用。
珠海黑馬醫學儀器有限公司
2021-08-23
GSG2000紫外和凝膠成像系統
產品詳細介紹1. 全封閉式暗箱設計，可在明室觀察、拍攝2. 130萬像素低照度高分辨率CCD，信噪比≥70dB，具備軟積分功能3. 日本大孔徑6倍光學電動變焦鏡頭，∮52mm，變焦范圍11.5~69mm，USB輸出4. 專業紫外增強燈管，紫外光強度達到1000uw/cm25. 雙面拋光西外玻璃厚度均勻，透射率高，觀察時無燈管陰影、背景清晰6. 紫外透射面積：200mm×200mm，透射波長312nm7. 帶254nm、365nm紫外及可見光反射裝置8. 電動變焦鏡頭可通過軟件控制光圈、對焦、圖像放大或縮小等參數調整，操作方便，精度高9. 標配Hema GSG2000核酸/蛋白凝膠圖像分析管理軟件10. 圖像分析和管理軟件可提供多用戶管理系統，方便進行實驗結果的記錄和管理，符合良好實驗室標準11. 軟件功能強大，界面簡潔清晰，操作簡便，全中文顯示12. 高性價比，特別適合于科研實驗室及教學實驗室使用。
珠海黑馬醫學儀器有限公司
2021-08-23
凱迅紫外線移動消毒車
功率：100W/150W尺寸：25CM*25CM*95CM理論消毒范圍：20-100㎡額定電壓：220V???50HZ燈管類型：100W/150W??U型管定時時間：15/30/60分鐘消毒方式：無臭氧UVC?254mm/有臭氧UVC?185mm+O3開關方式：開關/遙控材質：鐵藝支架/石英玻璃燈管
廣東凱西歐光健康有限公司
2021-08-23
領成UVG20防紫外割膠儀
產品詳細介紹
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產品規格：UVG20
產品規格：200*200mm，波長302nm
產品產地：上海
產品價格：4100
產品簡介：領成UV220型紫外分析儀（暗箱替代型），結構現代，替代傳統的龐雜的暗箱型紫外分析儀。特別采用302NM波長對樣品的破壞作用更小，它可適用于DNA、RNA電泳凝膠樣品的觀察，可檢測蛋白質，核甘酸等，在制藥工業中檢查激素生物堿、維生素等能產生螢光的藥品質量，對薄層分析，各種同功酶，紙層分析進行觀察分析和攝影，并可作為PCR技術的專用儀器。
產品特點
領成UV220型紫外分析儀（暗箱替代型），結構現代，替代傳統的龐雜的暗箱型紫外分析儀。
特別采用302NM波長對樣品的破壞作用更小，它可適用于DNA、RNA電泳凝膠樣品的觀察，可檢測蛋白質，核甘酸等，在制藥工業中檢查激素生物堿、維生素等能產生螢光的藥品質量，對薄層分析，各種同功酶，紙層分析進行觀察分析和攝影，并可作為PCR技術的專用儀器。
配合領成GJ250型割膠裝置，組成UVGJ20型紫外割膠裝置。
二、儀器結構
儀器裝有二組透射紫外光源，提供不同的光強度。并專業設計的進口防紫外玻璃蓋，可對樣品全面直觀地觀察分析，紫外玻璃蓋能過濾99%以上的紫外線。
三、技術參數
紫外透射濾色片尺寸：200×200mm
波長：302nm
外型尺寸（長×寬×高）365×310×152mm
四、使用說明
將樣品放在紫外透射濾色片中央，開啟“UV1“或同時開啟“UV2” 電源，觀察樣品。
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詳情請鏈接網址：www.tocan.cn聯系電話：021-51863860、18917331948
聯系QQ：278622785 傳 真：021-55236681
公司地址：上海市翔殷路165號A區319室 郵編：200433
上海領成生物科技有限公司
2021-08-23
乾立紫外殺菌燈YL系列
深圳鵬翔智明光電科技有限公司
2021-08-23
乾立紫外殺菌燈UVR系列
深圳鵬翔智明光電科技有限公司
2021-08-23
乾立紫外殺菌燈AL系列
深圳鵬翔智明光電科技有限公司
2021-08-23
乾立紫外殺菌燈USL系列
深圳鵬翔智明光電科技有限公司
2021-08-23
基于時間相干平均的變步長仿射投影諧波電流檢測方法
本成果是國家授權發明專利。該發明提供一種基于時間相干平均的變步長仿射投影廣義諧波電流檢測方法。該方法收斂速度快和穩態時收斂精度高，并對躍變的跟蹤能力強，實時性好。
西南交通大學
2016-06-27
14?納米CMOS?量產工藝中光源掩模協同優化技術
已有樣品/n微電子所先導中心韋亞一研究員團隊與中芯國際研究團隊圍繞14 納米CMOS 量產工藝中光源掩模協同優化技術開展聯合攻關并取得顯著進展，完成了后段制程中多層關鍵層的光源優化工作，包括Metal 1X、Metal 1.25X、Via 1X 等。優化后光源通過晶圓數據驗證評估，較原有光源在各項關鍵指標上有顯著提升，保證了先進節點中光刻工藝的穩定性。
中國科學院大學
2021-01-12