葡京娱乐场-富盈娱乐场开户_百家乐试玩_sz全讯网网址xb112 (中国)·官方网站

產(chǎn)品詳細介紹  T300 產(chǎn)品特色 精心設(shè)計之『快速鍵無線演示器』，本產(chǎn)品結(jié)合雷射光筆、無線鼠標、PowerPoint演示快捷鍵(Shortcuts) 讓您輕松掌控演示，充分展現(xiàn)您的專業(yè)及品味。快速鍵的設(shè)計.無需多學(xué)習(xí),便可使用上手. l           高頻率連結(jié):使用2.4GHz頻率波段，可自動搜尋16個頻道，65535組ID ，避免干擾 l           超長遙控距離:室內(nèi)有效距離30公尺內(nèi)，開放空間有效距離可達100公尺 l           無須軟件安裝:不需安裝任何軟件或驅(qū)動程序即可開始使用 l          雷射指示點:可操作雷射指示點的開關(guān)，避免幼兒隨意玩耍使用 l           內(nèi)凹式的鼠標的控制鍵,使用更順暢. 低電量指示燈.提醒將需要更換電池.. 產(chǎn)品規(guī)格 產(chǎn)品型號 12-HPT300WH 使用頻率 2400~2483MHz 遙控距離 室內(nèi)約30公尺；開放空間約100公尺 工作電壓 遙控功能：2.4V~3.3V；雷射功能：2.6V~3.3V 電源供應(yīng) 七號電池(AAA)*2 輸出功率 小于1mW 重量 無線演示器(含電池)：63公克 無線接收器：2.6公克 環(huán)境 溫度：操作時：0℃(32℉)~60℃(140℉) ,非操作時：-10℃(14℉)~65℃(149℉) 濕度(非冷凝狀態(tài))：操作時10%~85% RH ,非操作時10%~95% RH 雷射 連續(xù)式半導(dǎo)體雷射(λ= 650 nm) 雷射最大輸出功率：0.95 mW 系統(tǒng)需求Windows? 98 SE, Me, 2000, XP ,VISTA ,MAC OS 9.1 以上版本    

產(chǎn)品詳細介紹RNF方形--螺旋升降器1、RNF系列共有11 個型號：分別為RNF016、RNF018、RNF020、RNF030、RNF040、RNF055、RNF060、RNF070、RNF080、RNF100和RNF120；2、傳動速度有兩種速比對應(yīng)兩種速度，分別為快速（字母N代表）與慢速（字母L代表），在N速度下，輸入蝸桿每轉(zhuǎn)一圈，絲桿升降1mm，當(dāng)輸入轉(zhuǎn)數(shù)為1500RPM時，絲桿升降速度為1500mm/min，在L速度下,輸入蝸桿每轉(zhuǎn)一圈，絲桿升降0.25mm，即當(dāng)輸入轉(zhuǎn)數(shù)為1500RPM時，絲桿升降速度為375mm/min。如該系列產(chǎn)品配滾珠絲桿，則定為RNFK與之區(qū)分。配滾珠絲桿的速度，取決于蝸輪蝸桿的速比與滾珠絲桿的導(dǎo)程大小。若要使用更高速的升降器,建議用戶選用我司研發(fā)的RNS系列。其速度最快可達12000mm/min。請參考RNS系列參數(shù)。3、公差與背隙   （1）RNF升降器殼體為長方體，上下安裝面和左右兩側(cè)都進行了平面水平加工，符合安裝標準。    （2）梯形絲桿的軸向間隙可達0.15mm，徑向間隙0.2mm，絲桿外徑與導(dǎo)向套直徑之間的游離間隙為0.2mm，滾珠絲桿的間隙取決于使用不同精度等級的絲桿。   （3）蝸輪蝸桿背隙，N速度下蝸桿輸入軸背隙為正負3度，L速度下，蝸桿輸入軸背隙為正負5度。4、側(cè)向力：升降器僅用于與機座安裝面垂直升降作用于傳動負載，原則上不允許受側(cè)向力。任何大小的側(cè)向力都會影響升降器的壽命。甚至直接給升降器有致命的打擊。在使用中，建議用戶將任何可能出現(xiàn)的側(cè)向力由外部導(dǎo)軌或?qū)е惺堋?、自鎖性：RNF系列升降器內(nèi)部為蝸輪蝸桿結(jié)構(gòu)，具有自鎖功能。自鎖性能主要限決于升降器螺桿導(dǎo)程大小和蝸輪蝸桿傳動比、潤滑作用以及安裝使用環(huán)境的溫度、振動力大小和安裝位置的影響。使用大導(dǎo)程或雙導(dǎo)程絲桿以及滾珠絲桿，在慣性作用下，其絲桿自鎖性能較差或幾乎無自鎖功能。因此在該種情況下，建議用戶配剎車電機或輸入軸加裝剎車。6、螺桿防旋轉(zhuǎn)裝置：單臺使用時，升降負載無導(dǎo)軌或?qū)е鶗r，絲桿會產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)而不升降，特別是輕負載時，只會原位置旋轉(zhuǎn)，達不到升降目的。此時

5T/H反滲透純水設(shè)備 水處理設(shè)備 優(yōu)質(zhì)反滲透水處理設(shè)備廠家供應(yīng)經(jīng)濟型反滲透純水設(shè)備一般自來水經(jīng)一級反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率＜10μS/cm，經(jīng)二級反滲透系統(tǒng)后產(chǎn)水電導(dǎo)率＜5μS/cm甚至更低，在反滲透系統(tǒng)后輔以離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備可以制備超純水，使電阻率達到18兆歐姆(電導(dǎo)率=1/電阻率)是反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般常指水）通過反滲透膜(一種半透膜)而分離出來與滲透方向相反，可使用大于滲透壓的反滲透法進行分離、提純和濃縮溶液。反滲透膜的主要分離對象是溶液中的離子范圍。經(jīng)濟型反滲透純水設(shè)備 1、工業(yè)反滲透基本原理5T/H反滲透純水設(shè)備 水處理設(shè)備 優(yōu)質(zhì)反滲透水處理設(shè)備廠家供應(yīng)5T/H反滲透純水設(shè)備 水處理設(shè)備 優(yōu)質(zhì)反滲透水處理設(shè)備廠家供應(yīng) 當(dāng)純水和鹽水被理想半透膜隔開，理想半透膜只允許水通過而阻止鹽通過，此時膜純水側(cè)的水會自發(fā)地通過半透膜流入鹽水一側(cè)，這種現(xiàn)象稱為滲透，若在膜的鹽水側(cè)施加壓力，那么水的自發(fā)流動將受到抑制而減慢，當(dāng)施加的壓力達到某一數(shù)值時，水通過膜的凈流量等于零，這個壓力稱為滲透壓力，當(dāng)施加在膜鹽水側(cè)的壓力大于滲透壓力時，水的流向就會逆轉(zhuǎn)，此時，鹽水中的水將流入純水側(cè)，上述現(xiàn)象就是水的反滲透（RO）處理的基本原理。經(jīng)濟型反滲透純水設(shè)備 2、工業(yè)反滲透簡介經(jīng)濟型反滲透純水設(shè)備 RO（Reverse Osmosis）反滲透技術(shù)是利用壓力表差為動力的膜分離過濾技術(shù)，源于美國二十世紀六十年代宇航科技的研究，后逐漸轉(zhuǎn)化為民用，目前已廣泛運用于科研、醫(yī)藥、食品、飲料、海水淡化等領(lǐng)域。 RO反滲透膜孔徑小至納米級（1納米=10-9米），在一定的壓力下，H2O分子可以通過RO膜，而源水中的無機鹽、重金屬離子、有機物、膠體、細菌、病毒等雜質(zhì)無法通過RO膜，從而使可以透過的純水和無法透過的濃縮水嚴格區(qū)分開來。5T/H反滲透純水設(shè)備 水處理設(shè)備 優(yōu)質(zhì)反滲透水處理設(shè)備廠家供應(yīng) RO膜過濾后的純水電導(dǎo)率5 s/cm,符合國家實驗室三級用水標準。再經(jīng)過原子級離子交換柱循環(huán)過濾，出水電阻率可以達到18.2M .cm，超過國家實驗室一級用水標準（GB682—92）。 3、滲透預(yù)處理目的及考慮因素--經(jīng)濟型反滲透純水設(shè)備 使用反滲透系統(tǒng)時，尤其應(yīng)注意原水預(yù)處理。為了避免堵塞反滲透系統(tǒng)，原水應(yīng)經(jīng)預(yù)處理以消除水中的懸浮物，降低水的濁度；此外，還應(yīng)進行殺菌以防微生物的孽生長大。 由于反滲透對原水中的懸浮物的要求很高，所以常用一種水質(zhì)對受懸浮物污染情況的污染指數(shù)來對水質(zhì)進行檢測。此法實質(zhì)上是測定反滲透系統(tǒng)受水中懸浮物的污堵的情況。進入反滲透系統(tǒng)水的污染指數(shù)以不大于5為宜，建議值一般小于3。預(yù)處理時還應(yīng)該考慮到進水的pH值。各種半透膜都有其最適宜的運行pH值，故需按反滲透膜的要求，調(diào)節(jié)進水的pH值。預(yù)處理時還應(yīng)該考慮到進水的溫度。膜的透水量是隨水溫的增高而增大的，但溫度過高會加快醋酸纖維素膜的水解速度，且使有機膜變軟，易于壓實。所以，對于有機膜來說，通常將溫度控制在約20—40℃范圍內(nèi)為宜，復(fù)合膜溫度控制在約5—45℃范圍內(nèi)為宜。經(jīng)濟型反滲透純水設(shè)備 反滲透膜分離技術(shù)是利用反滲透膜原理進行分離的，具體特點如下： 1、在常溫不發(fā)生相變的條件下，可以對溶質(zhì)和水進行分離，適用于對熱敏感物質(zhì)的分離、濃縮，并且與有相變化的分離方法相比，能耗較低。 2、反滲透膜分離技術(shù)雜質(zhì)去除范圍廣。 3、較高的脫鹽率和水回用率，可截留粒徑幾個納米以上的溶質(zhì)。 4、利用低壓作為膜分離動力，因此分離裝置簡單，操作、維護和自控簡便，現(xiàn)場安全衛(wèi)生。 5T/H反滲透純水設(shè)備 水處理設(shè)備 優(yōu)質(zhì)反滲透水處理設(shè)備廠家供應(yīng)應(yīng)用領(lǐng)域： （1）電力工業(yè)：鍋爐補給水、冷卻水壩； （2）電子工業(yè)：半導(dǎo)體工業(yè)超純水、集成電路清洗用水、配方用水； （3）食品工業(yè)：配方用水、生產(chǎn)用水； （4）制藥行業(yè)：工藝用水、制劑用水、洗滌用水、注射用水、無菌水制備； （5）飲料工業(yè)：配方用水、生產(chǎn)用水、洗滌用水； （6）化學(xué)工業(yè)：生產(chǎn)用水、廢水處理； （7）飲水工程：超純水制備、飲用水凈化； （8）石油化工：油田注入水、石化廢水深度處理； （9）海水淡化：海島地區(qū)、沿海缺水地區(qū)、船舶、海水油田等生產(chǎn)生活用水； （10）環(huán)保領(lǐng)域：電鍍漂洗水中貴重金屬、水的回收，實現(xiàn)零排放或微排放。 5T/H反滲透純水設(shè)備 水處理設(shè)備 優(yōu)質(zhì)反滲透水處理設(shè)備廠家供應(yīng)系統(tǒng)優(yōu)點： 反滲透(RO)技術(shù)是一種高效節(jié)能技術(shù)。它依靠壓力推動將水和離子分離，從而達到純化和濃縮的目的。該過程無相變，一般不需加熱，能耗低，具有運行成本低，無污染，操作方便運行可靠，產(chǎn)水水質(zhì)高等諸多優(yōu)點，而成為海水和苦咸水淡化最節(jié)能的技術(shù)。目前已廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥、電子、化工、食品、海水淡化等諸多行業(yè)。反滲透技術(shù)已成為現(xiàn)代工業(yè)中首選的水處理技術(shù)。反滲透(RO)技術(shù)成為膜分離技術(shù)的一個重要組成部分。 （1）可以從海水或苦咸水中提取淡水； （2）容易去除有機物、細菌和膠體及溶于水中的其它雜質(zhì)，獲得高純度的水； （3）由于反滲透過程是一個物理過程，沒有相變，因而節(jié)能； （4）操作簡單，易實現(xiàn)自動化，節(jié)省勞力； （5）結(jié)構(gòu)緊湊，占地小，從而降低費用； （6）作為一種濃縮方法，能回收溶解在溶液中有價值的成份。

產(chǎn)品詳細介紹HP-8001T 教師繪圖辦公桌（含豪華升降轉(zhuǎn)椅）是高校常用的教師制圖桌椅，采用鋼框（支）架，桌面可調(diào)節(jié)傾角結(jié)構(gòu)，結(jié)合繪圖和辦公的需求定制的繪圖室專用教室繪圖辦公桌。 　　請和本公司技術(shù)QQ:268008426 聯(lián)系可選配置： （1）HPT90 90cm惠普優(yōu)質(zhì)有機玻璃丁字尺 （2）HPM01 90*60cm一號惠普優(yōu)質(zhì)椴木繪圖板 （3）HP252 精密惠普組合繪圖儀器（16件一套） （4）25cm曲線板 （5）大圓弧模板 （6）畫圓模板 （7）三棱比例尺 （8）多功能模板 （9） 英雄81A-212繪圖筆一套 （10）HPMX55 55件套速成制圖模型 （11）制圖基本技能掛圖（一套16張） （12）滑動轉(zhuǎn)椅（一張）

產(chǎn)品詳細介紹 　　產(chǎn)品概述 　　多功能教學(xué)終端T2，領(lǐng)先理念與先進技術(shù)的高度融合，創(chuàng)新性地將高端中控、錄播、視頻會議和音頻處理模塊集于一體。一臺主機，可滿足多媒體教室、錄播教室、網(wǎng)絡(luò)教研室和互動教室的綜合應(yīng)用需求。它，是未來教室的不二之選。 　　翰博爾多功能教學(xué)終端T2，實現(xiàn)了中控系統(tǒng)、錄播系統(tǒng)、視頻會議系統(tǒng)和音頻處理器系統(tǒng)的高度融合應(yīng)用，功能強大，業(yè)界首創(chuàng)。 　　 　　產(chǎn)品特點： 　　翰博爾多功能教學(xué)終端T2，實現(xiàn)了中控系統(tǒng)、錄播系統(tǒng)、視頻會議系統(tǒng)和音頻處理器系統(tǒng)的高度融合應(yīng)用，功能強大，業(yè)界首創(chuàng)。 　　采用全嵌入式架構(gòu)設(shè)計，具有超高的穩(wěn)定性和安全性，杜絕了病毒侵襲的風(fēng)險，省去了繁瑣的設(shè)備維護，適合大規(guī)模常態(tài)化的視頻資源建設(shè)、管理和應(yīng)用，又滿足遠程互動的需求。 　　區(qū)別于以往的中控設(shè)備，T2采用無線觸摸控制的方式對教室內(nèi)的多媒體設(shè)備及教師PC進行控制，便于教師上課時的操作高效，該控制不單單對多媒體設(shè)備的控制，而更多的是對整體系統(tǒng)的控制。 強大 翰博爾多功能教學(xué)終端T2實現(xiàn)了中控系統(tǒng)、錄播系統(tǒng)、視頻會議系統(tǒng)和音頻處理器系統(tǒng)的高度融合應(yīng)用，功能強大，業(yè)界首創(chuàng)，功能上乘。 安全 采用全嵌入式架構(gòu)設(shè)計，具有超高的穩(wěn)定性和安全性，杜絕了病毒侵襲的風(fēng)險，省去了繁瑣的設(shè)備維護，適合大規(guī)模常態(tài)化的視頻資源建設(shè)、管理和應(yīng)用，又滿足遠程互動的需求。   易用 區(qū)別于以往的中控設(shè)備，T2采用無線觸摸控制的方式對教室內(nèi)的多媒體設(shè)備及教師PC進行控制，便于教師上課時的操作高效，該控制不單單對多媒體設(shè)備的控制，而更多的是對整體系統(tǒng)的控制。   兼容 可兼容各種基于國際視頻標準協(xié)議的錄播、中控、監(jiān)控終端，滿足未來教室后期系統(tǒng)擴展的應(yīng)用需求，同時可接入各種標準的攝像機。 清晰 系統(tǒng)結(jié)合數(shù)字音頻處理器降噪、混音、自動增益、回聲抑制的功能，可對教室聲音進行數(shù)字化處理，極大地隔離噪音，抑制回聲，錄制和互動的聲音清晰真實。 高清 未來教室一體化終端錄制的視頻輸入輸出均可達到1080P60，呈現(xiàn)全高清的現(xiàn)場原景，當(dāng)遠程互動、網(wǎng)絡(luò)教研時猶如在現(xiàn)場般身臨其境。 豐富 錄制文件可自動生成兩分屏、三分屏、畫中畫和電影模式，滿足不同教育教學(xué)的應(yīng)用需求。

化學(xué)鍍Ni-P具有優(yōu)良的耐腐蝕性能，在工業(yè)生產(chǎn)中獲得了廣泛應(yīng)用。但是，隨著應(yīng)用的增多也出現(xiàn)了一些問題。由于化學(xué)鍍層是陰極性的，如在施鍍過程中形成針孔、麻點以及使用過程中外力對鍍層的損壞等，往往造成鍍層在腐蝕介質(zhì)中形成電偶腐蝕，使得鍍層不僅對基體起不到保護作用，反而加速了基體的腐蝕。三元合金Ni-W-P鍍層的出現(xiàn)在一定程度上解決了Ni-P鍍層中所存在的問題。W元素的加入可以提高鍍層的致密性，減小了腐蝕介質(zhì)穿透鍍層在鍍層與基體之間形成電偶腐蝕的幾率。此外，W是一種自鈍化元素，在腐蝕介質(zhì)中有利于鍍層表面鈍化膜的形成，提高了鍍層的耐蝕性能，因此，P的含量相近時Ni-W-P鍍層的耐蝕性能優(yōu)于Ni-P鍍層。但是Ni-W-P鍍層與Ni-P鍍層相比在與基體的結(jié)合力上并沒有提高，在后續(xù)加工過程中如受到一定外力作用時，鍍層很容易脫落，這就使得鍍層的應(yīng)用范圍受到了一定的限制。該技術(shù)針對現(xiàn)有化學(xué)鍍層在使用過程中所存在的問題，提出將含有一定量W元素的Ni-W-P鍍層在高溫下進行熱處理，提高鍍層的結(jié)合力和硬度，大幅度提高鍍層的耐蝕耐磨性能，延長鍍層的使用壽命。

化學(xué)鍍Ni-P具有優(yōu)良的耐腐蝕性能，在工業(yè)生產(chǎn)中被廣泛應(yīng)用。但是，隨著應(yīng)用的增多也 出現(xiàn)了一些問題。由于化學(xué)鍍層是陰極性的，如在施鍍過程中形成針孔、麻點以及使用過程中 外力對鍍層的損壞等，往往造成鍍層在腐蝕介質(zhì)中形成電偶腐蝕，使得鍍層不僅對基體起不到 保護作用，反而加速了基體的腐蝕。 三元合金Ni-W-P鍍層的出現(xiàn)在一定程度上解決了Ni-P鍍層中所存在的問題。W元素的加入 可以提高鍍層的致密性，減小了腐蝕介質(zhì)穿透鍍層在鍍層與基體之間形成電偶腐蝕的幾率。此 外，W是一種自鈍化元素，在腐蝕介質(zhì)中有利于鍍層表面鈍化膜的形成，提高了鍍層的耐蝕性 能，因此，P的含量相近時Ni-W-P鍍層的耐蝕性能優(yōu)于Ni-P鍍層。但是Ni-W-P鍍層與Ni-P鍍層 相比在與基體的結(jié)合力上并沒有提高，在后續(xù)加工過程中如受到一定外力作用時，鍍層很容易 脫落，這就使得鍍層的應(yīng)用范圍受到了一定的限制。 該技術(shù)針對現(xiàn)有化學(xué)鍍層在使用過程中所存在的問題，提出將含有一定量W元素的Ni-W-P 鍍層在高溫下進行熱處理，提高鍍層的結(jié)合力和硬度，大幅度提高鍍層的耐蝕耐磨性能，延長 鍍層的使用壽命。 可應(yīng)用于換熱器、泵、軸、空冷等耐蝕或者耐磨的場合

W-氧化物電極材料（通常氧化物種類為ThO2,CeO2及La2O3等，含量為2%重量百分比）廣泛應(yīng)用于惰性氣體保護電弧焊和等離子體焊接、切割、噴涂、熔煉等工業(yè)領(lǐng)域。在使用過程中，電極材料擔(dān)負發(fā)射電子，維持電弧穩(wěn)定燃燒的作用，同時還承受高能離子轟擊和高燒蝕等惡劣服役條件。正是由于其重要地位，電極材料被譽為電弧等離子體發(fā)生器的"心臟"。采用先進特殊工藝開發(fā)的新