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南京埃爾法液壓系統(tǒng)，90%屬于進(jìn)口零件。 1、自診斷功能，                                                    2、故障報(bào)警顯示 3、模具補(bǔ)償功能，                                                4、夾鉗保護(hù)功能， 5、參數(shù)編程功能，                                                6、多工件加工功能， 7、斷點(diǎn)加工計(jì)件顯示等功能，                            8、具有自動(dòng)、手動(dòng)操作方式， 9、單沖、步?jīng)_、連沖功能，                                10、快速定位功能， 11、具有G代碼編程功能，                                   12、具有軟限位保護(hù)功能， 13、具有加工圖形摸擬顯示加工軌跡，              14、自動(dòng)優(yōu)化加工路徑、操作方便快捷，更加人性化， 15采用博世力士樂(lè)高頻響比例伺服閥NG6，      16、可快速定位，響應(yīng)頻率80-100Hz，易控，易維護(hù)， 17、重復(fù)定位精度±0.01mm，                             18、管式高壓過(guò)濾器， 19、集成撓度補(bǔ)償功能；床身超寬導(dǎo)軌間距大，機(jī)床跨度大、水平性、支撐性更好，充分保證加工大板時(shí)的精度， 在高速送料情況下更平衡，毛刷輔助平臺(tái)與主平臺(tái)一體化設(shè)計(jì)，輔助平臺(tái)可隨板材一起前后運(yùn)動(dòng)；采用了閉式鋼板焊接機(jī)身，經(jīng)壁爐回火處理去除應(yīng)力，穩(wěn)定性好，外形設(shè)計(jì)動(dòng)感美觀，維修方便，鑲套機(jī)構(gòu)厚轉(zhuǎn)塔，導(dǎo)向好精度高，直線導(dǎo)軌、滾珠絲杠－臺(tái)灣上銀、臺(tái)灣TBI；自動(dòng)集中潤(rùn)滑裝置，減少各運(yùn)動(dòng)付的摩擦，提高機(jī)器使用壽命，配置標(biāo)準(zhǔn)模具24套；配置全自動(dòng)浮動(dòng)夾鉗及毛刷結(jié)構(gòu)臺(tái)面，避免板材劃傷。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹用途 　　DQM系列變頻行星式球磨機(jī)是混合、細(xì)磨、小樣制備、納米材料分散、新產(chǎn)品研制和小批量生產(chǎn)高新技術(shù)材料的必備裝置。該產(chǎn)品體積小、功能全、效率高、噪聲低，是科研單位、高等院校、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室獲取微顆粒研究試樣（每次實(shí)驗(yàn)可同時(shí)獲得四個(gè)樣品）的理想設(shè)備，配用真空球磨罐，可在真空狀態(tài)下磨制試樣。廣泛應(yīng)用于地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、電子、建材、陶瓷、化工、輕工、醫(yī)藥、美容、環(huán)保等部門(mén)。 工作原理    DQM系列變頻行星式球磨機(jī)是在同一轉(zhuǎn)盤(pán)上裝有四個(gè)球磨罐，當(dāng)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，球磨罐在繞轉(zhuǎn)盤(pán)軸公轉(zhuǎn)的同時(shí)又圍繞自身軸心自轉(zhuǎn)，作行星式運(yùn)動(dòng)。罐中磨球在高速運(yùn)動(dòng)中相互碰撞，研磨和混合樣品。該產(chǎn)品能用干、濕兩種方法研磨和混合粒度不同、材料各異的產(chǎn)品，研磨產(chǎn)品最小粒度可至0.1微米（即1.0×10mm-4）。 技術(shù)參數(shù) 傳 動(dòng) 方 式：鏈條傳動(dòng) 控 制 方 式：變頻控制 工 作 方 式：兩個(gè)或四個(gè)球磨罐同時(shí)工作  最大裝樣量：球磨罐容積的三分之二 進(jìn) 料 拉 度：土壤料≤10mm 其它料≤3mm 出 料 粒 度：最小可達(dá)0.1um(即1.0×10mm-4) 轉(zhuǎn)速：公 轉(zhuǎn)：    50-400轉(zhuǎn)/分鐘 　　　自 轉(zhuǎn)：   100-800轉(zhuǎn)/分鐘 定 時(shí) 時(shí) 間:   1-999分鐘 交替運(yùn)行定時(shí)時(shí)間：1-99分鐘 電 機(jī) 功 率：0.4L、2L、4L、0.75kw、220V、50HZ、16L、20L、5.5kw、380V、50HZ 特點(diǎn)： 鏈條傳動(dòng)克服了原皮帶傳動(dòng)易打滑轉(zhuǎn)速不穩(wěn)定的缺點(diǎn) *鏈條傳動(dòng)，即保持了鏈輪傳動(dòng)的穩(wěn)定性，又克服了原皮帶傳動(dòng)易打滑，轉(zhuǎn)速不穩(wěn)定的缺點(diǎn)。 *球磨罐采用單行星式運(yùn)動(dòng)，球磨效率高、粒度細(xì)。 *變頻控制，可根據(jù)試驗(yàn)結(jié)果選定理想轉(zhuǎn)速。 *整體一體具有定時(shí)關(guān)機(jī)、自動(dòng)定時(shí)正、反轉(zhuǎn)功能，能按需要自由選擇單向、交替、連續(xù)、定時(shí)與不定時(shí)運(yùn)行方式，提高研磨效率。 *一次實(shí)驗(yàn)可同時(shí)獲得四種大小不同，材料各異的樣品。 *重心低、性能穩(wěn)定、結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、安全可靠、噪聲低、無(wú)污染、損耗小。 型號(hào) 規(guī)格 球磨罐 備　　注 規(guī)格（ml） 配備相應(yīng)數(shù)量罐 數(shù)量（只） DQM-0.4L 0.4L 50～100 4 可配50ml真空球磨罐 DQM-2L 2L 50～500 4 可配50～250ml真空球磨罐 DQM-4L 4L 50～1000 4 可配50～500ml真空球磨罐 DQM-16L 16L 50～4000 4 可配50～3500ml真空球磨罐 DQM-20L 20L 5000 4 可配4000ml真空球磨罐 注：球磨罐材質(zhì) 不銹鋼、不銹鋼真空、瑪瑙、陶瓷、氧化鋯、聚四氟乙烯、尼龍、聚胺脂、硬質(zhì)合金等。每四只球磨罐為一套，每套球磨罐配備相應(yīng)的球與墊片。

285mm×100mm×55mm，三件潛望鏡組合接口。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

本發(fā)明公開(kāi)了一種基于聚丙烯酸鈉-陽(yáng)離子表面活性劑復(fù)合物滲透汽化優(yōu)先透醇膜的制備方法。首先制備聚丙烯酸鈉-陽(yáng)離子表面活性劑復(fù)合物，后將其溶解在有機(jī)溶劑中，采用溶液涂覆法制備均質(zhì)滲透汽化透醇膜。聚丙烯酸鈉-陽(yáng)離子表面活性劑復(fù)合物內(nèi)部的離子交聯(lián)結(jié)構(gòu)能夠有效抑制該均質(zhì)滲透汽化透醇膜在醇/水料液中溶脹，保持膜的穩(wěn)定性；同時(shí)，疏水長(zhǎng)鏈和聚電解質(zhì)的疏水主鏈，能提供膜對(duì)醇的優(yōu)先選擇吸附。通過(guò)調(diào)控聚丙烯酸鈉的分子量和離子化程度，表面活性劑的種類(lèi)以及分子鏈結(jié)構(gòu)和聚集形態(tài)，能夠制備不同的復(fù)合物和復(fù)合物膜。采用本發(fā)明所用的方法可以大大提高滲透汽化膜的滲透性，且該類(lèi)優(yōu)先透醇膜制膜方法簡(jiǎn)單易行、成本低廉。

本發(fā)明公開(kāi)了一種用于薄膜太陽(yáng)能電池的碳基光子晶體背反射器，由兩種結(jié)構(gòu)不同的光子晶體疊加構(gòu)成，其結(jié)構(gòu)為[A/B]mAE[C/D]nC，其中A；B；C；D；E的厚度分別為d1=50nm，d2=100nm，d3=70nm，d4=140nm，d5=120nm，m；n為兩種光子晶體的周期數(shù)，m取3，n取4。其制備方法是：RF-PECVD法在普通載玻片上交替沉積a-Si:H和a-C薄膜。本發(fā)明的碳基光子晶體背反射器，具有一維光子晶體全角反射，可實(shí)現(xiàn)600—1300nm光波段平均75%的反射率，增加光波在太陽(yáng)能電池吸收層中的傳播光程，提高光子利用效率，增加光電流密度和光電轉(zhuǎn)換效率。制備工藝簡(jiǎn)單。

本發(fā)明公開(kāi)了一種新型聚磁式盤(pán)式電機(jī)，包括定子和轉(zhuǎn)子；定子包括定子鐵芯和電樞繞組；轉(zhuǎn)子包括三層結(jié)構(gòu)，外層包括多塊交替設(shè)置的外層永磁體和外層轉(zhuǎn)子鐵芯，中間層中對(duì)應(yīng)外層轉(zhuǎn)子鐵芯的位置設(shè)有中間層永磁體，內(nèi)層包括內(nèi)層轉(zhuǎn)子鐵芯，外層永磁體為切向充磁，中間層永磁體為徑向充磁，相鄰?fù)鈱佑来朋w充磁方向相反，相鄰中間層永磁體充磁方向也相反，外層轉(zhuǎn)子鐵芯相鄰的兩塊外層永磁體以及中間層永磁體的充磁方向均相對(duì)于外層轉(zhuǎn)子鐵芯向外或者向內(nèi)，外層永磁體所占外層周長(zhǎng)的比例為0.1～0.55。本發(fā)明有效提高了電機(jī)的空間利用率和功率密度。