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雙向旋流強化絮凝一體化污水凈化器
項目簡介 雙向旋流強化絮凝一體化污水凈化器占地面積小、能耗低、可在短時間內完成對合 流制排水管網污水、生活污水等的多級凈化快速處理。設計、開發了一種具有雙旋流室 的新型雙向旋流凈化器，利用 Fluent 流體動力學軟件，采用改進的 k-ε 雙方程模型對 雙向旋流凈化器內速度場進行了數值模擬，根據流場模擬結果對雙向旋流凈化器進行了 改進，在上旋流室中安裝了多圈截頭圓錐板，使水流上升時形成較小的漩渦，加強了顆 粒運動的紊亂程度，提高了絮凝效果。已完成凈化器
江蘇大學
2021-04-14
帕立骨化醇原料藥合成關鍵技術突破及產業化
項目背景：繼發性甲狀旁腺功能亢進癥（SHPT）是慢性腎功 能衰竭患者常見的并發癥，也是慢性腎衰竭終末期血液透析時最 主要、最嚴重的并發癥之一。其主要表現為甲狀旁腺激素（PTH） 水平升高和甲狀旁腺增生，可導致嚴重的骨骼損害、難治性皮膚 瘙癢、貧血、神經系統損害及心血管疾病等。帕立骨化醇是一種 高選擇性第三代維生素 D 受體激活劑，用于預防和治療與慢性腎 病相關的繼發性甲狀旁腺功能亢進癥。帕立骨化醇原料藥采用 CD 環氧化、上保護、A 環和 CD 環經 wittig 偶聯、脫保護、純化 得到符合 EP 標準的原料藥。目前制備過程中存在的主要問題是 CD 環中存在一種 24R 雜質，該雜質與 A 環結合后，原料藥需要 經過多次重結晶才能將該雜質降低至質量標準要求的0.1%以下， 嚴重降低了產品的收率，增加了原料藥的成本。因此本項目的關 鍵技術就是采取措施降低 CD 環 24R 雜質對生產工藝、產品收率 以及原料藥成本的影響。
所需技術需求簡要描述：1、優化 CD 環合成工藝，以及提高 制備 CD 環原料的質量控制。CD 環的 24R 雜質是由其制備原料引 入，因此需要開發原料的控制方法，在源頭控制雜質的引入。同時優化 CD 環的合成工藝，通過優化生產工藝有效去除 CD 環中的 24R雜質，確保CD 環24R雜質不超過0.1%，其它單雜不超過0.2%。 2、優化帕立骨化醇原料藥的純化工藝，提高對原料藥中 24R 雜 質的去除能力，達到 1 次重結晶即可得到符合標準原料藥的目 標，確保 CD 環成品純度達到 99.5%以上。
對技術提供方的要求:技術上具要有創新性、能滿足企業在 帕立骨化醇原料藥方面的技術需求。
正大制藥（青島）有限公司
2021-09-02
技術需求：繩網新產品工藝改造，提升繩網產品強度與單絲多元化
1.繩網新產品工藝改造，提升繩網產品強度與單絲多元化2.高分子材料改性用于繩網制作進行功能性纖維研發3.聚酯瓶片（PET）阻燃母料添加劑研發，用于繩網制作達到防火要求
山東濱州波濤化纖制品有限公司
2021-09-06
VR人才培養一體化實訓環境建設解決方案
該方案基于VR/AR/MR/虛仿/游戲等行業主流的核心技術，集聚行業主流應用的沉浸式、頭戴式、桌面一體式、CAVE式等設備，融合基于潤尼爾多年虛擬仿真、虛擬現實產品研發技術經驗、技術優勢的企業級別虛擬現實教學、實訓案例，以復現企業真實工作線、對標行業崗位人才需求標準為技術要求，搭建軟、硬一體化的綜合實訓環境。
北京潤尼爾網絡科技有限公司
2023-04-25
醫教云臨床實訓中心信息管理一體化平臺
醫學院、教學醫院里的臨床技能實訓中心用于整個中心信息化管理、人員管理、財產管理、教學活動管理、考核管理等。對整個中心數據進行采集、分析、處理等。
中國醫藥對外貿易有限公司
2023-05-09
技術需求：數控技術、機電一體化技術、機械制圖技術
數控技術、機電一體化、機械制圖
山東臺穩精密機械有限公司
2021-06-15
人才需求，焊接類、視覺檢測類、工業信息化軟件開發相關
需焊接類、視覺檢測類、工業信息化軟件開發相關技術人才
山東省青騰機械科技有限公司
2021-06-17
人才需求;自動化控制、機械制造方面幾耐火材料方面
電力行業、石化行業、鋁行業、工業爐等行業工程設計、應用、造價等技術人才
自動化控制、機械制造方面幾耐火材料方面
山東魯陽節能材料股份有限公司
2021-08-30
高博會活動日程? | 數字化與大學教學創新改革學術活動
高博會活動日程? | 數字化與大學教學創新改革學術活動
中國高等教育學會
2024-04-03
噴嘴噴射獨立可控的陣列化電流體噴印頭及其實現方法
本發明公開了一種噴嘴噴射獨立可控的陣列化電流體噴印頭， 包括設置在陣列化噴嘴與接收板之間的導引電極層，該導引電極層上 設有與噴嘴數目對應的多個圓孔，各圓孔的中心與噴嘴的中心共線， 在導引電極層上的各圓孔外周均同軸環繞有一圈導電環，且各導電環 均與一個電壓源連接，陣列化噴嘴與噴射電壓源相連，通過調整各個 電壓源處合適電壓值使得需要噴印的噴嘴與對應的導電環形成的電壓 差大于其他噴嘴電壓差，進而使待噴射噴嘴處的場強大于噴射啟動所 需場強，其他不噴射的噴嘴處場強小于噴射啟動所需場強，即可實現 各噴嘴的獨立控制。本發明還公開了其實現方法。本發明可以解決目 前存在的對噴印頭獨立噴射控制存在的結構復雜、無法大規模集成使 用的問題。
華中科技大學
2021-04-11