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由上海復旦天欣科教儀器有限公司研制生產的磁光克爾與法拉第效應綜合測試系統將兩種研究磁光效應的實驗結合于同一套測試系統中。在表面磁光克爾效應的研究中，應用該系統可以自動改變電磁鐵電流大小及方向，并實時采集記錄偏振光信號與磁場強度信號的改變，從而獲得薄膜樣品矯頑力、磁各異性等方面的信息；在法拉第效應的實驗中加入了控溫裝置，可在不同溫度下利用正交消光法檢測樣品的的費爾德常數。 應用該實驗儀主要完成以下實驗： 1．磁光克爾效應實驗：測量薄膜或者塊狀拋光鐵磁性樣品的克爾旋轉角，分析其磁學性質； 2．常溫法拉第效應實驗：測量不同材料的常溫費爾德常數； 3．變溫法拉第效應實驗：測量不同溫度情況下材料的菲爾德常數，分析溫度對材料磁滯旋光的影響； 4．法拉第效應譜線測量：測量不同光譜照射情況下材料的菲爾德常數（選用不同波長的激光器）。

一、產品簡介      光無源器件是光纖通信設備的重要組成部分。它是一種光學元器件，也是其它光纖應用領域不可缺少的元器件。該實驗儀重點介紹了常用的光無源器件的相關參數及測試方法，主要包括光纖轉換器、光纖變換器、光纖耦合器，光纖隔離器、光纖衰減器、WDM等器件的參數的測試原理及測試方法。幫助學生直觀的了解各種光無源器件的性能，從而更準確的使用不同器件進行光纖通信方面實驗。 二、實驗內容  1、光纖轉換器測試實驗  2、光纖變換器測試實驗  3、光纖耦合器測試實驗  4、光纖隔離器特性測試實驗  5、波分復用器和解復用器測試實驗  6、可調光纖衰減器測試實驗  7、光纖機械光開關特性測試實驗  8、光纖偏振控制器特性測試實驗  9、光纖偏振分束器（PBS）性能能參數測試實驗 三、實驗配置參數 1、光源：波長1310±20nm，1550±20nm；輸出功率：1-2.5mw，連續可調；輸出端口：FC/PC；穩定性＜0.5db（5h）；光源類型：LD光源； 2、光功率計：波長范圍800-1700nm；輸入接口：FC 校準波長：1550nm,1310nm； 3、偏振控制器：插入損耗＜0.05dB；消光比＞40dB；回波損耗＞65dB； 4、光纖機械光開關：插入損耗：1310/1550  P1→P2 0.56/0.54 dB ，P1→P3 0.53/0.47 dB ;回波損耗＞50dB ；開關速度：≦8ms ； 5、高隔離度光纖隔離器：最大插入損耗：0.35dB ；回波損耗：≧50dB ；隔離度：≧30dB ； 6、光纖耦合器：分光比：50% : 50% ；最大插入損耗1310/1550: 3.3dB ; 7、光纖波分復用器：隔離度：1310nm ：31.8% ；1550nm ：34%；插入損耗：1310nm ：0.30%；1550nm ：0.34% ； 8、光纖可調衰減器：0-30db可調； 9、配置：光纖光源，光纖光功率計、光纖耦合器、光波分復用器、光纖偏振控制器、光纖偏振分束器，可調衰減器、光纖隔離器、光纖機械光開關、法蘭盤、實驗指導書及實驗錄像光盤等。 四、實驗目的 1、了解光連接器及其原理、種類，實驗操作進行連接器參數測量； 2、掌握光纖偏振控制器工作原理，實驗操作單模光纖偏振狀態控制； 3、了解光纖耦合器用途及其性能參數，實驗操作測量耦合器特性參數測量； 4、了解光纖隔離器用途及其性能參數，實驗操作光纖隔離器特性參數測量； 5、了解光纖光開關用途及其性能參數，實驗操作光纖光開關特性參數測量； 6、了解光波分復用器（WDM）的原理與意義，操作雙波長波分復用（WDM）的原理性實驗；

浙江大學小動物活體實時成像儀競爭性磋商

申請人自2002年8月開始在醫學低劑量CT圖像成像、處理等方向開展學習和研究工作，從理論探索和應用拓展兩個方面同時開展科學研究，先后提出了“基于區別性稀疏表示的低劑量CT成像”，“基于大尺度平均的低劑量CT圖像后處理”，“基于深度學習的低劑量CT成像”等一系列創新算法，其中“基于區別性稀疏表示的低劑量CT成像”算法已通過專利形式轉讓到國內龍頭大型醫療設備商上海聯影醫療設備有限公司，目前已經在其即將推出的最新的U780 CT機上得到了應用。

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本發明公開了一種三維成像聲納系統換能器陣的稀疏優化方法,采用模擬退火算法對平面陣中的換能器陣元進行稀疏優化,得到稀疏換能器陣,求得在稀疏優化后的換能器陣的波束方向圖同時滿足最大旁瓣峰值的閾值條件和錐度比的閾值條件下,稀疏換能器陣需要開啟的最少換能器數目;所述稀疏優化前的平面陣由M×N個換能器組成,所述的換能器按半波長或一個波長間距均勻分布在一個矩形平面內;所述的錐度比為換能器的最大權重系數與換能器的最小權重系數的比值。本發明利用盡量少的換能器陣元實現系統目標,使得建造此相控陣三維圖像聲納系統所需的硬件成本降低,使得進行波束形成算法所需的乘累加的計算量也減少。

本發明公開了一種基于被動毫米波極化成像的材料分類方法； 首先利用毫米波輻射計成像系統在無極化照射環境中獲取給定入射角 下場景的水平極化圖和垂直極化圖；再根據水平極化圖和垂直極化圖 計算得到“線極化比”圖像；然后統計分析“線極化比”的分布規律， 利用閾值估計公式估計“線極化比”閾值；最后根據分類準則，實現 對場景中的金屬材料和非金屬材料的分類。本發明能非接觸、被動地 對金屬材料和介質材料的進行有效分類，并且不受環境輻射變化的影 響，具有很好的魯棒性，可用于金屬目標的遙感與探測、金屬危險品 的安全檢測與預警等領域。

發明(設計)人：李濤, 徐貝貝, 祝世寧。本發明涉及一種基于超構透鏡陣列的大視場集成顯微成像裝置。該裝置包括：光源、超構透鏡陣列、線偏振片和圖像傳感器；所述線偏振片固定于所述光源的后方，且所述線偏振片位于所述光源的出射光路上；所述超構透鏡陣列固定于所述線偏振片的后方，且所述超構透鏡陣列位于所述線偏振片的出射光路上；待成像物體位于所述線偏振片和所述超構透鏡陣列之間；所述圖像傳感器位于所述超構透鏡陣列的后方；所述超構透鏡陣列中包括周期性排布的多個超構透鏡。本發明可以實現在不犧牲分辨率不增加工作距離的條件下，擴大成像視場。

非冷紅外探測系統相較制冷型探測系統具有功耗低、體積小、重量輕、成本低、性價比高等特點，是國際上第三代凝視型紅外探測技術領域的研究熱點與難點。本項目攻克了納米氧化釩薄膜生長調控、大規模小像元非制冷紅外焦平面探測器制備、紅外輻射熱探測系統集成等關鍵技術，解決了微熱目標探測、微熱光電轉換機制和微弱信號處理三大難題。系統NETD≤50mK,MRTD≤90 mK，總體技術指標達到國際先進水平（部分指標達到國際領先水平）。獲授權發明專利50項（美國專利2項），發表論文114篇；形成了全自主知識產權的技術體系，打

本發明提出一種高亮度的集成成像3D顯示裝置，該裝置由漫反射層Ⅰ、背光源、棱錐針孔陣列、以及透射型顯示面板組成，背光源由四個線光源組成，為整個顯示裝置提供光源；棱錐針孔陣列由棱錐針孔在水平和垂直方向上等間距排列而成，棱錐針孔的側面為漫反射層Ⅱ；透射型顯示面板上顯示微圖像陣列；漫反射層Ⅰ、背光源、棱錐針孔陣列三者精密貼合且中心對齊，由背光源發出的光線經過漫反射層Ⅰ和各棱錐針孔側面的漫反射層Ⅱ的多次反射后，由棱錐針孔陣列頂部的小孔透射出來，并照射到透射型顯示面板上，從而顯示出3D圖像。