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主要用于天文普及教學(xué)，能演示太陽(yáng)系中太陽(yáng)和九大行星等主要天體的相對(duì)位置、大小以及太陽(yáng)系的結(jié)構(gòu)關(guān)系。

箱體為手提式一體工程塑料制作完成，外觀尺寸（cm）：55*45*15主要配置及用材：背板（太陽(yáng)，黑星際天空），行星模型（木星、土星、金星、地球、水星、火星、天王星、海王星），矮行星模型（冥王星、谷神星、齊娜），小行星模型（示意性的）。各種器材有序嵌放于珍珠棉發(fā)泡成型的空間內(nèi)。

目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學(xué)增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團(tuán)的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問(wèn)題是光產(chǎn)酸在后烘階段會(huì)發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問(wèn)題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強(qiáng)酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們?cè)谄毓膺^(guò)程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學(xué)增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護(hù)的對(duì)羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對(duì)羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護(hù)部分酚羥基，由其組成了單組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。  利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點(diǎn)，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達(dá)5：1的光刻圖形：  在此基礎(chǔ)上，還制備了負(fù)型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡(jiǎn)便易行，成本相對(duì)低廉，在經(jīng)過(guò)多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對(duì)我國(guó)電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來(lái)困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場(chǎng)的70%以上，而我國(guó)在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴(lài)進(jìn)口，即便是低端的i-線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來(lái)光刻膠引起了社會(huì)的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開(kāi)始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國(guó)外先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類(lèi)較多，本課題組從2002年參與國(guó)家十五“863”光刻膠重大專(zhuān)項(xiàng)開(kāi)始，至今近二十年來(lái)聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項(xiàng)目、專(zhuān)利及文章： 1.國(guó)家重大科技專(zhuān)項(xiàng)（02專(zhuān)項(xiàng)）子課題,課題編號(hào):2010ZX02303（深紫外光刻膠專(zhuān)用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹(shù)脂的擴(kuò)試技術(shù)研究） 2.國(guó)家自然科學(xué)基金應(yīng)急管理項(xiàng)目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學(xué)增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利，專(zhuān)利號(hào)：9。

目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學(xué)增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團(tuán)的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問(wèn)題是光產(chǎn)酸在后烘階段會(huì)發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問(wèn)題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強(qiáng)酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們?cè)谄毓膺^(guò)程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學(xué)增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護(hù)的對(duì)羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對(duì)羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護(hù)部分酚羥基，由其組成了單組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。   利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點(diǎn)，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達(dá)5：1的光刻圖形：   在此基礎(chǔ)上，還制備了負(fù)型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡(jiǎn)便易行，成本相對(duì)低廉，在經(jīng)過(guò)多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對(duì)我國(guó)電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來(lái)困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場(chǎng)的70%以上，而我國(guó)在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴(lài)進(jìn)口，即便是低端的i-線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來(lái)光刻膠引起了社會(huì)的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開(kāi)始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國(guó)外先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類(lèi)較多，本課題組從2002年參與國(guó)家十五“863”光刻膠重大專(zhuān)項(xiàng)開(kāi)始，至今近二十年來(lái)聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項(xiàng)目、專(zhuān)利及文章： 1.國(guó)家重大科技專(zhuān)項(xiàng)（02專(zhuān)項(xiàng)）子課題,課題編號(hào):2010ZX02303（深紫外光刻膠專(zhuān)用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹(shù)脂的擴(kuò)試技術(shù)研究） 2.國(guó)家自然科學(xué)基金應(yīng)急管理項(xiàng)目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學(xué)增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利，專(zhuān)利號(hào)：9。

本發(fā)明公開(kāi)了一種用于浸沒(méi)式光刻的浸液溫控系統(tǒng)，通過(guò)其獲得具有穩(wěn)定溫度的浸液，以用于浸沒(méi)式光刻工藝中，其特征在于，該溫控系統(tǒng)包括：用于浸液流動(dòng)的浸液管路，待溫控的浸液通過(guò)管路進(jìn)口進(jìn)入該浸液管路，溫控后的浸液通過(guò)該浸液管路出口輸出；用于對(duì)所述浸液進(jìn)行冷卻的工藝?yán)鋮s液回路，工藝?yán)鋮s液在該回路中循環(huán)流動(dòng)；以及熱交換器（6），所述浸液管路和工藝?yán)鋮s液回路同時(shí)流經(jīng)該熱交換（6），利用該熱交換器（6）完成工藝?yán)鋮s液和浸液的熱交換，獲得具有穩(wěn)定溫度的浸液，實(shí)現(xiàn)對(duì)浸液的溫度控制。本發(fā)明的裝置采用內(nèi)部回流結(jié)構(gòu)與熱交換器

本發(fā)明公開(kāi)了一種光刻機(jī)自動(dòng)調(diào)焦方法及裝置，其方法是將平行光束經(jīng)第一狹縫投射至硅片表面，再經(jīng)振動(dòng)反射鏡掃描后通過(guò)第二狹縫，由光電探測(cè)器接收光強(qiáng)信號(hào)，然后通過(guò)提取光強(qiáng)信號(hào)中二倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的粗調(diào)量，通過(guò)提取光強(qiáng)信號(hào)中一倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的精調(diào)量，最后由驅(qū)動(dòng)裝置調(diào)整硅片至焦點(diǎn)位置。調(diào)焦裝置主要由兩個(gè)狹縫、一個(gè)振動(dòng)反射鏡、光電傳感器、驅(qū)動(dòng)臺(tái)和若干光學(xué)鏡片組成，信號(hào)處理過(guò)程由計(jì)算機(jī)編程完成。該方法與裝置相較于以往對(duì)比光斑強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)焦的方式，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、響應(yīng)迅速、精度高(優(yōu)于 0.

本發(fā)明公開(kāi)了一種涂覆制品，包括基材以及多層涂層，所述多層涂層覆蓋于所述基材的全部或者部分表面，所述多層涂層的材料包括丙烯酸樹(shù)樹(shù)脂和金屬氧化物球形顆粒，所述金屬氧化物球形顆粒為氧化銅、氧化鋅、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鐵或氧化鋯，其粒徑為 0.2μm～5.0μm，所述多層涂層的厚度為 10μm～100μm，所述多層涂層從底面至頂面由第一涂層、第二涂層至第 N 涂層組成。本發(fā)明還公開(kāi)了用于該涂覆制品的制備方法。本發(fā)明以多層涂

產(chǎn)品名稱(chēng)： 彩涂鋁卷（裝飾復(fù)合板專(zhuān)用） 寬度： 常用1100/3003 鋁厚度： 1240mm/1260mm/1270mm/根據(jù)客戶(hù)要求 涂層厚度： PE:0.024mm/0.045mm/0.08mm/0.10mm PVDF:0.30mm/0.32mm 0.018mm-0.50mm，根據(jù)客戶(hù)要求 卷重量： 1240mm/1250mm/1520mm/1600mm，根據(jù)客戶(hù)要求 表面處理： 0.18mm/0.20mm/0.23mm/0.24mm/0.28mm，根據(jù)客戶(hù)要求 直徑： PE/PVDF 常規(guī)顏色： 面鋁：素色/深色/銀色，根據(jù)客戶(hù)要求 底鋁：灰白色，根據(jù)客戶(hù)要求