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產(chǎn)品詳細(xì)介紹霧狀儀，淀粉及其衍生物二氧化硫的測(cè)定產(chǎn)品地址：http://www.shhk.com.cn/ 霧狀儀，淀粉及其衍生物二氧化硫的測(cè)定。1.適用范圍本方法適用于淀粉及其衍生物樣品。2.術(shù)語(yǔ)二氧化硫(7446-09-5)含量：淀粉及其衍生物樣品中二氧化硫(7446-09-5)的含量。以1000g樣品中二氧化硫(7446-09-5)的毫克數(shù)來(lái)表示。3.原理概要將樣品酸化和加熱，使樣品釋放出二氧化硫(7446-09-5)，并隨氮流通過(guò)過(guò)氧化氫稀溶液而吸收氧化成硫酸，用氫氧化鈉溶液滴定形成硫酸。并將氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液的耗用體積數(shù)轉(zhuǎn)化為二氧化硫(7446-09-5)毫克數(shù)。上海化科實(shí)驗(yàn)器材：http://www.shhk.com.cn/ 訂單郵箱：sales@shhk.com.cn（推薦）咨詢(xún)電話：021-67652117，57602161QQ 在線：1152028600。大量供應(yīng)：霧狀儀，淀粉及其衍生物二氧化硫的測(cè)定。 

硅烷偶聯(lián)劑是一類(lèi)重要的、應(yīng)用日漸廣泛的處理劑，它最初用來(lái)處理玻璃表面，隨著化工產(chǎn)品的不斷發(fā)展，逐漸在各個(gè)領(lǐng)域獲得應(yīng)用。在化學(xué)工業(yè)上，最常用于無(wú)機(jī)材料和有機(jī)材料的表面處理。3-異氰酸酯丙基三乙氧基硅烷是硅烷偶聯(lián)劑中的一種，異氰酸酯能與羥基、氨基反應(yīng)，用于一些有機(jī)材料中，能起偶聯(lián)作用，并對(duì)無(wú)機(jī)材料有優(yōu)異的附著力。目前世界上只有美國(guó)和日本生產(chǎn)這種偶聯(lián)劑，價(jià)格昂貴。我國(guó)主要從日本進(jìn)口，每公斤售價(jià)在一千元以上，附加值高。從國(guó)外的專(zhuān)利文獻(xiàn)來(lái)看，現(xiàn)這種偶聯(lián)劑主要是通過(guò)3-氨基丙基三乙氧基硅烷與光氣的反應(yīng)來(lái)制備。光氣是一種劇毒氣體，使用不便。固體光氣是一種理想的光氣的替代品，而且我國(guó)有多家廠家生產(chǎn)，價(jià)格便宜。我們研究了用固體光氣生產(chǎn)3-氨基丙基三乙氧基硅烷，進(jìn)行了小試。所合成的產(chǎn)品在外觀和性質(zhì)上與國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品一致。合成3-氨基丙基三乙氧基硅烷所需的原料便宜，它的附加值高是因?yàn)樵谏a(chǎn)過(guò)程中有較高的技術(shù)要求。所以，這種產(chǎn)品適合作為高新技術(shù)開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品。

本發(fā)明提供了一種將 CO2 應(yīng)用于二甲醚合成的化學(xué)鏈 CO2 重整甲烷方法，具體為：在 CH4 氧化反應(yīng)器中，F(xiàn)e3O4 與 CH4 發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成 H2、CO 和 FeO，將 H2、CO 作為二甲醚合成氣源，將 FeO 轉(zhuǎn)移至 CO2 還原反應(yīng)器；在 CO2 還原反應(yīng)器中，F(xiàn)eO 與 CO2發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成 CO 和 Fe3O4；將 CO 作為二甲醚合成氣源，將 Fe3O4 返回至 CH4 氧化反應(yīng)器。本發(fā)明還提供了實(shí)

一種藥用植物大戟Ep-Hmgr蛋白編碼序列，屬于基因工程領(lǐng)域。所分離出的DNA 分子包括：編碼具有藥用植物大戟Ep-Hmgr蛋白活性的多肽的核苷酸序列，所述的核苷酸序列與SEQ ID NO.3中從核苷酸第81-1832位的核苷酸序列有至少70％的同源性；或者所述的核苷酸序列能在40-55℃條件下與SEQ ID NO.3中從核苷酸第81-1832 位的核苷酸序列雜交。本發(fā)明是一種3-羥基-3-甲基戊二酰輔酶A的還原酶，有助于提高藥用植物大戟中次生代謝產(chǎn)物或其前體的含量，對(duì)于保護(hù)人民的健康生長(zhǎng)有所幫助

4月22日，饒燏課題組與武漢大學(xué)宋保亮課題組合作在《藥物化學(xué)雜志》（Journal of Medicinal Chemistry）發(fā)表題為“降解對(duì)比抑制：開(kāi)發(fā)靶向3-羥基-3-甲基-戊二酰輔酶A還原酶的降解小分子”（Degradation Versus Inhibition: Development of Proteolysis-Targeting Chimeras for Overcoming Statin-Induced Compensatory Upregulation of 3-Hydroxy-3-methylglutaryl Coenzyme A Reductase）的研究論文。HMGCR（3-Hydroxy-3-methylglutaryl Coenzyme A Reductase）是膽固醇（ cholesterol）合成途徑中的限速酶，并且是經(jīng)典的治療血脂異常的藥物靶點(diǎn)。它的抑制劑（ statin,他汀類(lèi)化合物）如阿伐他汀（atorvastatin,立普妥®，輝瑞）在臨床被用于預(yù)防和治療心血管疾病，并取得了極大的成功。但是有相當(dāng)一部分人對(duì)他汀類(lèi)藥物不耐受，比如會(huì)發(fā)生骨骼肌損傷等較為嚴(yán)重的副作用，這有可能與服用他汀類(lèi)藥物后體內(nèi)通過(guò)負(fù)反饋調(diào)節(jié)導(dǎo)致HMGCR補(bǔ)償性表達(dá)升高有關(guān)。因而在該工作中，研究人員利用蛋白靶向降解嵌合體（Proteolysis-Targeting Chimera, PROTAC）的技術(shù)，對(duì)HMGCR在進(jìn)行降解而起到抑制膽固醇合成作用的同時(shí)可以避免HMGCR的高表達(dá)，從而有望降低副作用。 圖1.抑制劑與PROTAC對(duì)HMGCR的影響 在該工作中，研究人員首先篩選出SRD15細(xì)胞系作為細(xì)胞測(cè)試的基礎(chǔ)，然后基于HMGCR的配體阿伐他汀和E3鏈接酶CRBN的配體泊馬渡胺進(jìn)行了一系列的構(gòu)效關(guān)系研究，發(fā)現(xiàn)化合物P22A作為PROTAC具有較好地降解活性（DC50~100 nM）。相比之下，抑制劑阿伐他汀對(duì)HMGCR引起了明顯的上調(diào)作用（圖1）。 圖2.抑制劑和PROTAC對(duì)LDLR和膽固醇的影響 接下來(lái)，研究人員通過(guò)一系列的生化和細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)證實(shí)了PROTAC通過(guò)泛素-蛋白酶體系統(tǒng)發(fā)揮作用的機(jī)制；通過(guò)蛋白組學(xué)的研究發(fā)現(xiàn)抑制劑和PROTAC引起的組學(xué)應(yīng)答也有很大不同。抑制劑和PROTAC對(duì)膽固醇合成抑制和通過(guò)SREBP通路引起的低密度脂蛋白受體（LDLR）表達(dá)水平上調(diào)的能力相當(dāng)（圖2）。 HMGCR是位于內(nèi)質(zhì)網(wǎng)上的八次跨膜蛋白, PROTAC對(duì)此類(lèi)蛋白的降解能力往往有限，該工作首次證明利用PROTAC技術(shù)對(duì)內(nèi)質(zhì)網(wǎng)蛋白進(jìn)行降解的可行性。另外，靶蛋白上調(diào)的現(xiàn)象還出現(xiàn)在很多其它的抑制劑中，該工作展示了面對(duì)此種情況時(shí)是PROTAC一個(gè)很好的應(yīng)用場(chǎng)景。 宋保亮課題組博士生李美欣和饒燏組博士后楊毅慶為本工作共同第一作者，饒燏和宋保亮課題組羅婕為共同通訊作者。本研究得到了國(guó)家自然科學(xué)基金、清華-北大生命聯(lián)合中心以及中國(guó)博士后基金的大力支持。 原文鏈接： https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.jmedchem.0c00339

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 1.      主要參數(shù)： ★掃描方式：激光手持照相式 ★掃描技術(shù)：激光線網(wǎng)格掃描技術(shù) 幀掃描區(qū)域：250mm×250mm 景深：250mm（自動(dòng)） 工作距離：300mm ★掃描速率： 300000次/秒 掃描分辨率：0.100（毫米） ★測(cè)量精度：0.03 mm ★體積精度：0.020 + 0.100（毫米/米） 體積精度（結(jié)合DigiMetric）：0.020 + 0.025（毫米/米） 測(cè)量范圍（物件尺寸）：0.1 ～6米，可擴(kuò)展 傳輸方式： USB3.0 工作溫度：-10 - 40℃ 工作濕度：10 - 90 % 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)配置與功能 數(shù)據(jù)采集傳感器：高速、高精密工業(yè)級(jí)相機(jī)2臺(tái) ★內(nèi)置微慣性傳感器，實(shí)時(shí)輸出設(shè)備位姿； ★測(cè)量光源：10束交叉激光線，激光級(jí)別ClassII(人眼安全)，波長(zhǎng)大于600納米 計(jì)算機(jī)系統(tǒng)：支持windows 7，32位和64位操作系統(tǒng)，支持內(nèi)存16G以上 拼接方式：系統(tǒng)整合“專(zhuān)業(yè)模式”全自動(dòng)標(biāo)志點(diǎn)拼接模塊 全局誤差控制方式：GREC Pro全局誤差控制 ★掃描方式：FLESA可變點(diǎn)距掃描 ★使用方便：整個(gè)過(guò)程全部手持完成，無(wú)需三腳架等支撐裝置 所測(cè)量的物體表面可不做任何形式（如噴白）的預(yù)先處理 防抖設(shè)計(jì)：采用先進(jìn)的防抖動(dòng)算法，防止掃描過(guò)程中人為的抖動(dòng)對(duì)誤差的影響 自動(dòng)探測(cè)被掃描物體顏色材質(zhì)，從而自動(dòng)調(diào)節(jié)激光亮度及CCD曝光 可一鍵自動(dòng)過(guò)濾掃描背景數(shù)據(jù)，自動(dòng)刪除雜點(diǎn)及過(guò)濾不良點(diǎn)云數(shù)據(jù) 軟件界面實(shí)時(shí)捕捉靜態(tài)圖像，一鍵截圖功能 ★碳纖維材質(zhì)標(biāo)定板，輕量化，抗壓耐高溫，不易變形，非石英玻璃材質(zhì)。雙面標(biāo)定，白平衡標(biāo)定功能，有效減少掃描噪聲 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)軟件功能 ★全中文軟件界面 ★自適應(yīng)形面掃描模塊 自動(dòng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)參數(shù)，自適應(yīng)各種材質(zhì)/顏色表面的不同掃描對(duì)象，無(wú)需手動(dòng)調(diào)節(jié)； FLESA可變點(diǎn)距掃描，在同一次掃描中，可對(duì)點(diǎn)距進(jìn)行靈活設(shè)置和改變，同時(shí)滿(mǎn)足高速掃描以及精細(xì)掃描的需求 ★自動(dòng)拼接模塊 智能標(biāo)志點(diǎn)識(shí)別技術(shù)：系統(tǒng)自動(dòng)跟蹤識(shí)別標(biāo)志點(diǎn)； 慣性—光學(xué)混合式傳感器定位技術(shù)，實(shí)時(shí)將數(shù)據(jù)自動(dòng)配準(zhǔn)到同一坐標(biāo)系； GREC Pro全局誤差控制模塊，可對(duì)拼接后的誤差進(jìn)行全局控制； ★全局框架掃描模塊 全局框架掃描技術(shù)，對(duì)框架點(diǎn)累積誤差進(jìn)行全局控制； 兼容DigiMetric系統(tǒng)，搭載全局?jǐn)z影測(cè)量技術(shù)可將掃描范圍擴(kuò)展至幾十米； ★后處理模塊 掃描數(shù)據(jù)后，可進(jìn)行點(diǎn)云噪聲處理及修剪 內(nèi)置友好的網(wǎng)格處理控制參數(shù)人機(jī)交互界面，可對(duì)去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等網(wǎng)格處理參數(shù)進(jìn)行設(shè)置 自動(dòng)生成STL三角面 自動(dòng)對(duì)三角網(wǎng)格數(shù)據(jù)進(jìn)行補(bǔ)洞、去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等處理 數(shù)據(jù)輸入輸出 導(dǎo)出結(jié)果為ASC，STL，OBJ，OKO等格式數(shù)據(jù)輸出接口廣泛,測(cè)量結(jié)果可與CATIA、Geomagic Studio、Imageware等逆向工程軟件自由交換數(shù)據(jù) 配備三維數(shù)據(jù)管理系統(tǒng)  1套 采用三維引擎實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型、圖片和文字的顯示； ★采用Access數(shù)據(jù)庫(kù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)對(duì)象的樹(shù)狀管理和從圖片上選擇區(qū)域進(jìn)行切換等功能，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)三維數(shù)據(jù)、圖片和文字的有效管理； ★能對(duì)三維數(shù)據(jù)進(jìn)行多層次樹(shù)狀結(jié)構(gòu)管理，實(shí)現(xiàn)從大場(chǎng)景到局部細(xì)節(jié)的有效管理； ★支持對(duì)三維模型、圖片和文字的綜合管理，并能相互切換； 支持從圖片上選擇區(qū)域切換，用戶(hù)可以隨心所欲的瀏覽對(duì)象的每一個(gè)細(xì)節(jié)； ★截取高清晰的光照?qǐng)D信息； ★實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型的分析如距離等進(jìn)行量測(cè)，得到最準(zhǔn)確的測(cè)繪資料； 數(shù)據(jù)庫(kù)基于Windows XP操作系統(tǒng)； 三維模型的支持格式為： STL，OBJ，VRML，IGES，OKO； 圖片支持的格式為：JPG，BMP； 文字支持的格式為：html； ★素材支持：配備一個(gè)3d素材庫(kù)，素材庫(kù)數(shù)量須大于2萬(wàn)個(gè)，素材涵蓋人物、卡通、教育、建筑、時(shí)尚、玩具、動(dòng)物、植物、家居、工具、動(dòng)漫游戲等類(lèi)別，素材擁有25個(gè)以上特色專(zhuān)題，每個(gè)專(zhuān)題包含至少5個(gè)以上同類(lèi)別優(yōu)質(zhì)素材。素材庫(kù)包含網(wǎng)站及APP，APP同步支持安卓及IOS下載，素材庫(kù)系統(tǒng)須取得電腦終端與iphone移動(dòng)終端及Android移動(dòng)終端《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書(shū)》。 2. 提供生產(chǎn)廠商對(duì)本項(xiàng)目的原廠項(xiàng)目授權(quán)委托書(shū)及售后服務(wù)承諾書(shū)原件。（須加蓋生產(chǎn)廠商單位公章） 3. 投標(biāo)單位配備的3D模型庫(kù)需提供《軟件著作權(quán)登記證書(shū)》。（復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章） 4. 投標(biāo)人所投3D掃描儀具有中美青年創(chuàng)客大賽指定3D掃描品牌證書(shū) 第1條所列產(chǎn)品參數(shù)為招標(biāo)基礎(chǔ)要求，加★部分為必須滿(mǎn)足項(xiàng)，投標(biāo)產(chǎn)品的參數(shù)值應(yīng)符合或高于本條要求。投標(biāo)單位須提供投標(biāo)產(chǎn)品的印刷彩頁(yè)，并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)參數(shù)。 第2條項(xiàng)目授權(quán)委托書(shū)及售后服務(wù)承諾書(shū)須提供原件并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第3條《軟件著作權(quán)登記證書(shū)》須提供復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第4條要求為招標(biāo)附加要求，投標(biāo)產(chǎn)品如符合要求，可加5分，如不符合，須減5分。

本發(fā)明公開(kāi)一種氧化石墨烯3D打印墨水及制備方法，其制備所用的原料由氧化石墨烯、交聯(lián)劑和溶劑組成，各原料用量，按氧化石墨烯：交聯(lián)劑中的金屬陽(yáng)離子：溶劑為60mg：0.03?1mmol：40ml的比例計(jì)算。制備方法即首先用溶劑分別將氧化石墨烯、交聯(lián)劑超聲分散配制成溶液，然后將所得的氧化石墨烯溶液和交聯(lián)劑溶液混合進(jìn)行化學(xué)交聯(lián)反應(yīng)，所得反應(yīng)液離心、去除上清液，即得氧化石墨烯3D打印墨水，當(dāng)圓頻率為0.9rad/s時(shí)，測(cè)得其運(yùn)動(dòng)粘度可達(dá)2800?20800Pa*s。使用后所得的氧化石墨烯三維氣凝膠支架，在形變量為60%時(shí)，抗壓模量為0.42MPa?0.98MPa。

本發(fā)明為3-(1-芳基-2-(2-氮雜芳烴)乙基)-4-羥基香豆素及其制備方法，提供的制備方法以具有式II所示4-羥基香豆素、具有式III所示結(jié)構(gòu)的芳香醛和具有式IV結(jié)構(gòu)的2-烷基氮雜芳烴為原料，在有機(jī)溶劑中進(jìn)行反應(yīng)，得到具有式I所示結(jié)構(gòu)的化合物。本發(fā)明采用“一鍋法”合成了具有式I所示結(jié)構(gòu)的3-（1-芳基-2-（2-氮雜芳烴）乙基）-4-羥基香豆素，合成方法操作簡(jiǎn)單，反應(yīng)產(chǎn)率較高。而且，本發(fā)明提供

環(huán)境污染和能源短缺已成為當(dāng)今世界面臨的最主要危機(jī)，人們不斷探究治理環(huán)境和開(kāi)發(fā)可再生能源的新方法。于1972年，F(xiàn)ujishima和Honda報(bào)道采用TiO2光電極和鉑電極組成光電化學(xué)體系使水分解為氫氣和氧氣，從而開(kāi)辟了半導(dǎo)體催化這一新的研究領(lǐng)域。近些年，將有機(jī)污染物降解已經(jīng)成為能源環(huán)境科學(xué)領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。該研究對(duì)于治理水污染，保護(hù)水環(huán)境具有重要的科學(xué)意義。 主要通過(guò)化學(xué)方法可控的調(diào)控可見(jiàn)光催化材料納米晶體的尺寸和形貌，合成具有規(guī)則形貌和特定裸露晶面的可見(jiàn)光催化材料（例如納米棒、納米帶、納米片、納米八面體和納米六面體等），并在此基礎(chǔ)上進(jìn)一步優(yōu)化能級(jí)能帶結(jié)構(gòu),同時(shí)探究催化劑不同晶面上光生載流子的分離行為、氧化還原能力以及催化活性的選擇性等獨(dú)特性質(zhì)，深入結(jié)合理論模擬計(jì)算，研究不同形貌的催化劑的裸露晶面上光生載流子的行為和表面/界面微觀反應(yīng)機(jī)制。為了深入研究太陽(yáng)能-化學(xué)能轉(zhuǎn)化過(guò)程中的關(guān)鍵科學(xué)問(wèn)題，構(gòu)筑一種新型的具有特定結(jié)構(gòu)和功能的MnxV2O5+x（x=1、2或3）基可見(jiàn)光催化材料，在不添加任何貴金屬元素的情況下，Mn3V2O8修飾的V2O5/g-C3N4異質(zhì)結(jié)構(gòu)在可見(jiàn)光照射下表現(xiàn)出明顯的光催化活性，比V2O5/g-C3N4異質(zhì)結(jié)構(gòu)高出近3倍。由于V2O5和g-C3N4之間的Z-方案路徑促進(jìn)了載流子的分離，因此具有優(yōu)異的可見(jiàn)光催化活性。