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微納米壓印光刻工藝及裝備
所屬領(lǐng)域:
項(xiàng)目成果/簡(jiǎn)介:
微納米結(jié)構(gòu)成形是光電子制造中的核心工藝之一。壓印光刻克服了傳統(tǒng)光學(xué)光刻中光學(xué)衍射效應(yīng)的限制，是一種經(jīng)濟(jì)、高效、高分辨的結(jié)構(gòu)成形方法。
正在探索的壓印工藝方法包括：UV-NIL、模板電誘導(dǎo)自組裝納米成形、電潤(rùn)濕驅(qū)動(dòng)納米壓印等。
正在探討壓印光刻的應(yīng)用領(lǐng)域包括：集成電路(IC)、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、生物微流控、光波導(dǎo)、光或磁存儲(chǔ)、有機(jī)光電子、平板顯示等器件的制造。
項(xiàng)目階段:
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