隨著光學器件在日常生活領域越發廣泛地應用，對其新功能的需求也加大，其中高折射率

材料的研究也越來越多,特別是高折射率聚合物（HRIP）。近來，由于其在高級光電制造中的

潛在應用，HRIPs已經吸引了相當多的關注，例如先進顯示設備的高性能基底，用于有機發光

二極管顯示器，光學黏合劑或密封膠材料，高級光學應用中的減反射涂層，193-nm浸潤蝕刻

光阻劑，和微透鏡組件中的電荷耦合式裝置以及互補金屬氧化物半導體圖像傳感器。

然而，一般普通聚合物的折光指數的范圍在1.30～1.70之間，但是在實際應用中要求更高

的折光指數（大于1.70，甚至 1.80）。由高折射率無機納米粒子和有機高分子基體組成的納米

復合材料可以輕易地獲得高的折光指數。本項目將高折射率的無機納米粒子炭黑、二氧化硅、

二氧化鈦等添加到各種聚合物基體中，獲得高折射率光學薄膜，且通過對無機粒子和聚合物基

體間的界面設計，使得無機粒子少量填充即可獲得高折射率光學薄膜。

具有核心技術（自主知識產權），發明專利1項，獲得上海市自然科學基金資助。